「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(554ページ目) - Weblio英語例文検索

In this manufacturing method of the member for the plasma display including a process of applying photosensitive paste on the substrate, and exposing it through a photomask, the photomask has a pattern of stripes of broken lines, or combination of stripes of broken lines and stripes of straight lines.例文帳に追加

また、基板上に感光性ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光する工程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、フォトマスクが、破線状のストライプのパターンまたは破線状のストライプと直線状のストライプの組み合わせからなるパターンを有することを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。 - 特許庁

To provide a box for packing a glass plate, which can be transported efficiently in a stable quality without generating a blemish or a smudging on the surface of a large type glass plate for a flat panel display(liquid crystal display, plasma display panel or the like) and packing operation of which can be carried out efficiently and a packing method and an unpacking method.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル等）用の大型ガラス板の表面に傷や汚れが発生することなく安定した品質で高効率に搬送でき、また梱包作業を効率よく行うことのできるガラス板梱包箱、梱包方法及び開梱方法を提供する。 - 特許庁

As a transparent film substrate, the one in which thermal conductivity at 30°C is ≤1.5×10-3 [cal/cm.sec.K] is used, furthermore, a pressure gradient type plasma gun is used in a reaction ion plating method, and an ITO conductive layer crystallized by controlling the voltage and electric current to be applied is formed on the transparent film substrate.例文帳に追加

透明フィルム基板の３０℃における熱伝導率を１．５×１０^-3［ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・Ｋ］以下のものを用い、さらに反応性イオンプレーティング法に圧力勾配型プラズマガンを用いて、投入電圧、投入電流を制御することで結晶化したＩＴＯ導電層を透明フィルム基板上に形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of finishing a substrate to be processed for forming a minute pattern with a good yield as a sandblasting mask material with the superior resolution after development, adhesion and sandblasting resistant adhesion, a photosensitive resin laminate, a surface finishing method for a substrate to be processed, and a method for manufacturing a back plate of a plasma display.例文帳に追加

現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a glass ribbon conveying method which realizes reduction in adhesion of foreign matter such as dross and in defects such cracks, reduction in the generation of strains and warpages after being made into substrates, and reduction in a risk of break during conveying in conveying a float-process glass ribbon for forming glass substrates for plasma display and glass substrates for liquid crystal display.例文帳に追加

プラズマディスプレイ用ガラス基板、液晶ディスプレイ用ガラス基板とするためのフロート法によるガラスリボンの搬送において、ドロス等の異物の付着、割れ等の不具合が少なく、基板とした際に歪および反り発生の少なく搬送中に割れる懸念の少ないガラスリボンの搬送方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image quality inspection apparatus that can easily eliminate moire caused by an unemission part such as a barrier and an electrode or the like in a display device such as a plasma display device without using a high definition CCD camera and a high-speed image processor so as to detect a pixel defect such as a black point (unemitted pixel) or the like at a high-speed.例文帳に追加

プラズマディスプレイ等の表示装置において、隔壁・電極等の未発光部分により発生するモアレ現象を、高精細ＣＣＤカメラや、高速画像処理装置を用いることなく容易に除去し、黒点(未発光画素)等の画素欠陥の検出を、高速に行うことのできる画質検査装置の実現。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor substrate comprises forming a porous layer 2 on the surface of a silicon substrate 1 being a base substrate, then forming a silicon carbide seed crystal 3 on the surface of the porous layer 2 by impressing a voltage to the silicon substrate 1 in a plasma atmosphere of a gas containing carbon, and epitaxially growing a crystal layer of silicon carbide by using the seed crystal 3 as a starting point.例文帳に追加

母材基板としてのシリコン基板１の表面に多孔質層２を形成し、炭素を含むガスのプラズマ雰囲気中でシリコン基板１に電圧を印加して多孔質層２の表面にシリコンカーバイドの種結晶３を形成し、その種結晶３を起点にシリコンカーバイドの結晶層をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

To solve the following problem: in a TV receiver such as a liquid crystal television set and a plasma television set having a multi-display function of a PC monitor function and a TV display function, the efficiency of spreadsheet work and document generation work falls off on the PC screen because the PC monitor screen (main screen) is partly hidden by the TV display screen (sub-screen).例文帳に追加

ＰＣモニタ機能とＴＶ表示機能とのマルチディスプレイ機能を有する液晶テレビやプラズマテレビなどのＴＶ受像機において、ＴＶ表示画面（子画面）によりＰＣモニタ画面（親画面）の一部分が隠れて、ＰＣ画面上で表計算作業や文書作成作業などの作業性が低下する。 - 特許庁

When an n^+-GaN layer 6 is selectively etched with respect to an n^+-AlGaN layer 5 in the manufacturing process of the GaN semiconductor device, dry etching is performed with gas plasma whose concentration of gas including Cl atom is set to be 60 to 90% by using gas including the Cl atom and gas including a F atom.例文帳に追加

ＧａＮ系半導体デバイスの製造工程において、ｎ^+ −ＧａＮ層６をｎ^+ −ＡｌＧａＮ層５に対して選択的にエッチングを行う際に、Ｃｌ原子を含むガスとＦ原子を含むガスを用い、そのＣｌ原子を含むガスの濃度を６０〜９０％としたガスプラズマにてドライエッチングを行う。 - 特許庁

A third example is the agreement between two makers of household electric appliances to consider a possible alliance that will utilize the strengths of both companies in the form of expanding the provision of key components such as cathode ray tubes (CRT), plasma display panels and compressors, cooperation in the field of DVD technologies and distribution of the Japanese maker’s brand products via the distribution network of the Chinese counterpart.例文帳に追加

さらに、ある家電メーカーは、CRT、プラズマディスプレー、コンプレッサ等の基幹部品について供給を拡大するとともに、DVD技術等での提携を行うことに対し、中国企業の販売網による自社ブランド製品の販売という両者の強みを生かした提携を検討することに合意している。 - 経済産業省

A raw material gas 121 comprising aminosilane is led into a film formation chamber, and in addition high frequency power is supplied to a plurality of monopole antennas provided above a silicon substrate 101 inside the film formation chamber, to generate the plasma and to have the aminosilane (organic compound) constituting the raw material gas decomposed.例文帳に追加

成膜室内にアミノシランからなる原料ガス１２１を導入するとともに、成膜室の内部のシリコン基板１０１の上方に配置された複数のモノポールアンテナに高周波電力を供給してプラズマを生成し、原料ガスを構成しているアミノシラン（有機化合物）が分解された状態とする。 - 特許庁

In a display electrode for plasma display made by providing a display electrode layer on a back substrate, physical development centers are provided on the back surface and the display electrode layer is a silver film obtained by dissolving silver halide and by receiving an image by the physical development centers at the time of development.例文帳に追加

背面基板上に表示電極層を設けてなる、プラズマディスプレイ用表示電極において、該背面基板上に物理現像核を有し、該表示電極層がハロゲン化銀が溶解され、現像時に該物理現像核によって受像して得られる銀膜であることを特徴とするプラズマディスプレイ用表示電極。 - 特許庁

When subjecting a plastic base material continuously being transferred in a state synchronized and in contact with the roll electrode to plasma discharge treatment in a space between the roll electrode and its counter electrode under a pressure of 500-800 Torr in a gas, introduced inert gas includes ≥50 pressure % argon gas.例文帳に追加

回転するロール電極と同期し、かつ該ロール電極に密着して連続的に移送するプラスティック支持体を、該ロール電極と任意の距離に位置する対電極との間隙で、５００〜８００Ｔｏｒｒの気圧下でガス中放電プラズマ処理する際、導入する不活性ガスの５０圧力％以上をアルゴンガスとする。 - 特許庁

The cathode electrode is a cathode electrode for the plasma source of a vacuum deposition system for depositing a coating film particularly on a optical substrate, and this cathode electrode is composed of a material which has at least 3 eV energy band gap (wide band gap), preferably the maximal one, between the energy bands.例文帳に追加

特に光学的基板上にコーティング膜をつけるための真空蒸着装置のプラズマ発生源用のカソード電極において、カソード電極は、少なくとも部分的にエネルギーバンドの間に少なくとも３ｅＶの好ましくは最大可能なエネルギーバンドギャップ（ワイドバンドギャップ）を有する材料から成ることを特徴とするカソード電極。 - 特許庁

To provide a gas barrier plastic film having improved gas barrier properties and good adhesion between a base and a gas barrier layer without generating unevenness of the gas barrier properties in the case that the gas barrier layer is formed on the base composed of an organic material by plasma CVD or sputtering.例文帳に追加

本発明は、有機素材からなる基材に、プラズマＣＶＤ法またはスパッタリング法によりガスバリア層を形成した場合においても、ガスバリア性にムラを生じることなく、基材とガスバリア層の密着性が良好であり、ガスバリア性の向上したガスバリア性プラスチックフィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

A moving mechanism 7 moving in parallel either one electrode (an upper electrode 2) of the parallel flat plate facing electrodes 1 generating plasma to the other electrode (a lower electrode 3) is installed, and the electrode (the upper electrode 2) is detachably fixed to a horizontal frame 71 of the moving mechanism 7 with a joining means (for example, a fixing bolt).例文帳に追加

プラズマを発生させる平行平板型の対向電極１のいずれか一方の電極（上部電極２）を他方の電極（下部電極３）に対して平行移動する移動機構７を設け、その移動機構７の水平フレーム７１に電極（上部電極２）を締結手段（例えば固定ボルト等）により着脱自在に固定する。 - 特許庁

In a hybrid vehicle 10, a high voltage supply system 900 as one example of the high voltage supply apparatus is equipped with a common voltage supply line 910 connected to a battery 500 functioning as a power supply of motor generators, and operation voltage supply lines 920a and 920b provided in correspondence with a catalyst converter 700 and a plasma reactor 800.例文帳に追加

ハイブリッド車両１０において、高電圧供給システム９００は、各モータジェネレータの電源として機能するバッテリ５００に接続された共有電圧供給ライン９１０並びに触媒コンバータ７００及びプラズマリアクタ８００に夫々対応して設けられた動作電圧供給ライン９２０ａ及び９２０ｂを備える。 - 特許庁

This game machine is provided with plasma tubes 61-63 wherein gas is filled in transparent containers 61a-63a together with discharge electrodes 61b-63b, and electric discharge is performed between the discharge electrodes 61b-63b and the ground potential parts of the containers 61a-63a when applying voltage to the discharge electrodes 61b-63b.例文帳に追加

透明な容器６１ａ〜６３ａ内に放電電極６１ｂ〜６３ｂと共に気体が封入され、この放電電極６１ｂ〜６３ｂに電圧を印加したときに、放電電６１ｂ〜６３ｂ極と容器６１ａ〜６３ａの接地電位部位との間で放電がなされるプラズマ管６１〜６３を備えることを特徴とする遊技機である。 - 特許庁

Provided on either or both of the plasma chamber and processing chamber is a gas inlet, that can introduce an oxidizing gas, such as air, H2O gas, O2 gas or the like from the exterior at any time.例文帳に追加

所定の物質をプラズマ中で励起してイオンを発生させるプラズマ室と、イオンビームを試料に衝突させて試料にイオンを注入する処理室とを有するイオン注入装置において、プラズマ室及び処理室の少なくとも一方に、その外部から空気、Ｈ_2Ｏガス、Ｏ_2ガス等の酸化性ガスを随時導入することが可能なガス導入口を設けたことを特徴としている。 - 特許庁

A method for doping a semiconductor layer comprises the steps of forming the semiconductor layer on the substrate when the layer is doped, then controlling an amount of dopant ions to be adsorbed to the surface of the semiconductor layer by a means for introducing a hydrogen gas at a plasma emitting time, and activating the dopant ion adsorbed by an excimer laser or the like in the semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層をドーピングする際に、基板上に半導体層を形成した後、プラズマ照射時に水素ガスを導入するなどの手段によって半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御し、エキシマレーザーなどによって吸着したドーパントイオンを半導体層内で活性化させることを特徴とする。 - 特許庁

In a manufacturing method for a semiconductor device having a device isolating embedded oxide film, after an isolating trench is formed in a silicon semiconductor substrate, the embedded oxide film is embedded using the same plasma CVD apparatus in the isolating trench, by executing successive film formation processings altering processing conditions (deposition/ sputtering ratio) plurality of times.例文帳に追加

素子分離埋め込み酸化膜を有する半導体装置の製造方法において、シリコン半導体基板に分離溝を形成した後に、同一のプラズマＣＶＤ装置を用いて、処理条件（デポジション／スパッタリング比）を変更した複数回の連続した成膜処理を実行することにより、前記分離溝に埋め込み酸化膜を埋設する。 - 特許庁

The upper electrode member 10a and a lower electrode member 10b facing together in the plasma processing system respectively include: an electrode body 11 comprising a metal plate; an insulation case 12 containing the electrode body 11; an insulation lid 13 for closing the insulation case 12; a ground electrode covering insulation member 14; and a ground electrode metal bar.例文帳に追加

プラズマ処理装置の互いに対向する上部電極部１０ａと下部電極部１０ｂのそれぞれは、板状金属からなる電極本体１１、電極本体１１を収容する誘電体ケース１２、その誘電体ケース１２を塞ぐ誘電体蓋１３、グランド電極被覆誘電体１４およびグランド電極金属棒を備えて構成される。 - 特許庁

This plasma display panel is the one in which shapes of an electrode of an upper part substrate and a dielectric are changed, and in one embodiment, a trigger electrode and a sustaining electrode are partially overlapped, and in another embodiment, a blocking wall is formed in the upper dielectric, and furthermore in another embodiment, a floating electrode is formed in the trigger electrode.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレーパネルは、上部基板の電極及び誘電体の形状を変えたもので、一態様ではトリガ電極とサスティン電極とを一部重畳させたものであり、他の態様では上部誘電体に遮断壁を形成させたものであり、さらに他の態様ではトリガ電極の間にプローティング電極を形成させたものである。 - 特許庁

In the method of driving the plasma display panel in which a plurality of discharge electrodes each of which is composed of a scan electrode and a sustenance electrode are arranged on one board of two boards which are disposed oppositely so as to form discharge spaces between them, during a sustenance period, sustaining pluses having negative polarity are impressed alternately to the scan electrodes and the sustenance electrodes.例文帳に追加

間に放電空間を形成するよう対向配置された２つの基板のうち一方の基板上に、走査電極と維持電極とからなる放電電極を複数配列して構成したプラズマディスプレイパネルの駆動方法において、維持期間において負極性の維持パルスを走査電極と維持電極とに交互に印加する。 - 特許庁

A guide ring 100 for protecting the semiconductor substrate 124 is deformed in a chamber 126, separation between the semiconductor substrate 124 and the guide ring 100 is diversified, and the attack of plasma ions generated in an HDP evaporation process is minimized, by forming a nitride film for a liner evaporated in the trench, before HDP oxide-film evaporation, into a specified thickness.例文帳に追加

チェンバー１２６内、半導体基板１２４を保護するガイドリング１００を変形し、半導体基板１２４とガイドリング１００との間の離隔距離を多元化したり、また、ＨＤＰ酸化膜蒸着前にトレンチに蒸着されるライナー用窒化膜を所定の厚みにしてＨＤＰ蒸着過程でできるプラズマイオンのアタックを最小化する。 - 特許庁

A positive electrode material containing a positive electrode active material made of manganese dioxide and a conductive agent made of graphite is compression-molded into a given shape (a hollow cylindrical shape) to form a positive electrode mixture 2, a molded body surface of which 2 is imparted with hydrophilicity by surface modification by means of plasma discharge, UV irradiation or corona discharge.例文帳に追加

二酸化マンガンからなる正極活物質、および黒鉛からなる導電剤を含む正極材を所定形状（中空円筒状）に圧縮成形して正極合剤２が形成され、正極合剤２の成形体表面は、プラズマ放電、ＵＶ照射、又はコロナ放電による表面改質により親水性を付与されている。 - 特許庁

In this manufacturing method of the catalyst for a fuel cell, a conductive carrier (carbon for example) is made to carry the catalyst metal (platinum for example) preferably under a deflected magnetic field condition by vacuum arc deposition by means of a vacuum arc plasma deposition source (preferably a coaxial deposition source) using the catalyst metal as a vapor deposition material.例文帳に追加

触媒金属を蒸着材料とした真空アークプラズマ蒸着源（好ましくは同軸型蒸着源）による真空アーク蒸着によって導電性を有する担体（例えばカーボン）に触媒金属（例えば白金）を、好ましくは偏向磁場条件下で、担持させることを特徴とする燃料電池用触媒の製造方法。 - 特許庁

To provide an adsorbent showing a satisfactory removing ratio, manufacturable at a low cost, biodegradable, selective to fibrinogen and/or fibrin, and causing no immune prevention in an adsorption device for reducing the fibrinogen and/or fibrin in blood or blood plasma, and a device using it.例文帳に追加

血液または血漿中のフィブリノーゲンおよび／またはフィブリン濃度の減少を目的とする吸着装置であって、良好な除去比を示し、安価に製造することができ、また生物分解性であり、フィブリノーゲンおよび／またはフィブリンに対する選択性を有し、免疫防御を引起さない吸着剤、およびそれを用いた装置の提供。 - 特許庁

In the plasma etching device which has an upper electrode arranged in an etching processing chamber, to which the etching gas is introduced, and a lower electrode opposing the upper electrode and mounting the processing object and etches the processing object by applying high frequency voltage to these electrodes, the upper electrode is formed of silicon carbide material.例文帳に追加

エッチングガスが導入されるエッチング処理室内に配設された上部電極と、上部電極に対向して処理対象物が載置される下部電極とを有し、これ等の電極に高周波電圧を印加して処理対象物をエッチングするプラズマエッチング装置であって、上部電極が炭化珪素系材料で形成されるようにしたものである。 - 特許庁

The use of the plasma protein concentrate containing VWF having the high ratio of the high-molecular-weight polymer controls a hemorrhagic character and reduces loss of blood before, during and after operation in acquired Von Willebrand syndrome (VWS), preferably cardiovascular system disease, in surgical procedure, especially requiring extracorporeal circulation.例文帳に追加

高分子量多量体の割合が高いＶＷＦを含有する血漿タンパク質濃縮物の使用は、出血性素質を抑制し、ならびに、外科的処置、特に体外循環、を必要としている、後天性フォン・ウィルブランド症候群、好ましくは心血管系疾患、における、手術前、手術中および手術後の失血を減少する。 - 特許庁

In the first step, a plurality of prescribed electrodes constituting the plasma display panel are divided to at least a first group and a second group, and a sustain pulse having a pulse waveform where a sustain pulse voltage and a sustain reference voltage are repeated can be applied to a first prescribed electrode which belongs to the first group and is adjacent to the second group.例文帳に追加

第１ステップは、プラズマディスプレイパネルを構成する複数の所定電極を、少なくとも第１グループおよび第２グループに分割し、第１グループに含まれる電極であって第２グループに隣接する第１所定電極に、維持パルス電圧と維持基準電圧とを繰り返すパルス波形を表す維持パルスを印加することが可能である。 - 特許庁

The oxygen-based gas plasma removes carbon-based substances in deposits, containing carbon-based substances and metallic substances as carbon dioxide, in most cases; the etching reaction gas removes metallic substances or the like which are not removed by cleaning using the oxygen-based gas; and by using the two gases combined, effective removal of deposits can be made.例文帳に追加

酸素系ガスのプラズマで、少なくとも炭素系物質と金属性物質を含有する堆積物から炭素系物質を多くの場合二酸化炭素として除去し、エッチング反応ガスで、前記酸素系ガスによるクリーニングでは除去できない金属性物質等を除去し、両ガスを組み合わせて使用することにより、効果的な堆積物除去を可能にする。 - 特許庁

An air cleaner 1 is provided with a fan 18 and a motor 19 for taking air in, a filter 17 for purifying air, and a housing 4 storing them and is provided with the high voltage power supply 2 for generating plasma by applying high voltage between a discharge electrode 3 and an opposing electrode and generating negative ions by discharging.例文帳に追加

空気を取り込むためのファン１８及びモータ１９と、空気浄化用のフィルター１７と、それらを収納するハウジング４等を備えると共に、放電極３と対向電極との間に高電圧を印加してプラズマを発生させたり、放電によりマイナスイオンを発生させるための高電圧電源２を備える空気清浄機１である。 - 特許庁

This plasma display device has opposing linear edges separated by a predetermined distance with each other, and display electrodes are constituted by a pair of electrodes whose width is reduced as it goes away from the edge, and by insulation walls having inner walls along outer circumferential parts of display electrodes, cells to emit light by being excited by display electrodes are formed and installed.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイ装置は、所定間隔を隔てて対向する直線状のエッジを有し、エッジから遠ざかるに従い幅が縮小する一対の電極により表示電極を構成し、表示電極の外周部に沿った内壁を有する隔壁により、表示電極により励起発光されるセルを画成するものである。 - 特許庁

The inkjet printhead includes an ink channel having a nozzle for ejecting ink outside, at least a pair of electrodes being separated from each other provided in the ink channel and a voltage application unit for applying a voltage to generate a plasma discharge caused by liquid ionization across the pair of electrodes so as to generate a bubble for ejecting the ink.例文帳に追加

インクが外部に吐出されるノズルを有するインク流路と、このインク流路の内部に相互離隔されて設けられる少なくとも一対の電極と、この一対の電極間に液体イオン化によるプラズマ放電を起こす電圧を印加してインク吐出しのためのバブルを発生させる電圧印加部と、を備えるインクジェットプリントヘッドである。 - 特許庁

The through-holes 5 are filled with a conductive paste or a conductive ink to form conductor sections 6, and after grooves 7 needed for forming required wiring patterns are formed in the conductor layer 1, grooves 8 are formed utilizing the grooves 7 in the insulation base 2 by laser beam machining, plasma etching or wet etching.例文帳に追加

この導通用孔５に導電ペ−スト又は導電インキを充填して導通部６を形成し、次に一方の導体層１に所要の配線パタ−ンを形成する為に必要な溝７を形成した後、この溝７を利用してレ−ザ−加工、プラズマエッチング手法又はウエットエッチング手法で絶縁べ−ス材２に溝８を形成する。 - 特許庁

This method for producing the rubber-reinforcing fiber is characterized by treating the fiber with a plasma in a medium containing the gas of alkenes and/or alkynes, then treating with a first treating liquid containing a polyepoxide compound, a blocked isocyanate compound and rubber latex, and a second treating liquid containing mainly resorcinol, formalin and rubber latex in this order.例文帳に追加

【解決手段】本発明のゴム補強用繊維の製造方法は、繊維をアルケン類及び／またはアルキン類の気体を含む媒体中でプラズマ処理し、次いでポリエポキシド化合物、ブロックドイソシアネート化合物、ゴムラテックスを含む第１処理液と、レゾルシン、ホルマリン、ゴムラテックスを主とする第２処理液とで順に処理することを特徴とする。 - 特許庁

The luminance-enhancing sheet formed of a laminate for use in front of the plasma display panel an adhesive agent layer is provided on the outer layer of the laminate, and a light transmissive layer having an uneven surface on the outermost surface, the other surface of which faces the adhesive agent layer is provided.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの前面に用いられる積層体からなるプラズマディスプレイパネル用輝度向上シートであって、前記積層体のプラズマディスプレイパネル側の最外層には、粘着剤層が設けられ、前記積層体の粘着剤層が設けられている反対側の最外層には、凹凸面を有する光透過層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the plasma display panel includes a process of baking a substrate with a phosphor layer containing resin formed, in which a fan for rectifying atmosphere is provided over a place where the substrate in a baking furnace is positioned for rectifying the atmosphere in the furnace by the fan for rectifying atmosphere to burn out the above resin.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、樹脂を含む蛍光体層が形成された基板を焼成する工程において、焼成炉内の前記基板が位置する上方に雰囲気整流用ファンを備え、前記雰囲気整流用ファンにより炉内雰囲気を整流すると共に前記樹脂をバーンアウトすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a wafer mounting stage for pasting a conductive base member and an electrostatic chuck part through an adhesive layer and applying high frequency power for generating plasma to the conductive base member in which a lifetime is prolonged by reducing the possibility of dielectric breakdown occurring between an electrostatic attraction electrode and the conductive base member.例文帳に追加

導電性ベース部材と静電チャック部とを接着層を介して貼り合わせ、導電性ベース部材にプラズマを発生させるための高周波電力を印加するウエハ載置ステージにおいて、静電吸着用電極と導電性ベース部材との間の絶縁破壊の発生確率を少なくし、長寿命のウエハ載置ステージを提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device, a semiconductor film is formed on a substrate having an insulated surface, a gate insulating film is formed on the semiconductor film, a gate electrode is formed on the gate insulating film, and a nitride film is formed on the surface of the gate electrode by nitriding the gate electrode by using high-density plasma.例文帳に追加

絶縁表面を有する基板上に半導体膜を形成し、前記半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、前記ゲート電極に高密度プラズマにより窒化することによって前記ゲート電極の表面に窒化膜を形成する半導体装置の作製方法である。 - 特許庁

To provide an optically active substance detection sensor efficiently detecting an optically active substance and a technically excellent optically active substance detecting method using it by providing a physically and chemically stable optically active plasma polymer film making full use of monomer structure and its functional characteristics and firmly sticking to a base board through a simple process.例文帳に追加

モノマーの構造と機能の特徴が充分に活かされるとともに簡便なプロセスでしかも基板に強固に付着し物理的・化学的にも安定な光学活性プラズマ重合膜を有し、光学活性物質を効率良く検知し得る光学活性物質検知センサーおよびこれを用いた工業的に優れた光学活性物質の検出方法を提供する。 - 特許庁

The fluorine compound thin film production method for depositing a fluorine compound thin film on a film substrate is characterized in that the fluorine compound thin film is deposited by a plasma heating vapor deposition process using fluorine compound-containing material such as MgF_2-containing material as vapor deposition material.例文帳に追加

フィルム基材上にフッ素化合物薄膜を形成するフッ素化合物薄膜の製造方法において、 該フッ素化合物薄膜が、ＭｇＦ_2を含む材料などのフッ素化合物を含む材料を蒸着材料として用い、プラズマ加熱蒸着方法により形成することを特徴とするフッ素化合物薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The field is formed of each magnet in a direction toward the inside of a housing or the field is formed of each magnet in a direction toward the outside of the housing so that the power for generating the plasma is fed to the pulse, and thereby an etching rate at a central region or an edge region of the wafer can be increased selectively.例文帳に追加

又、磁界が各々の磁石からハウジングの内側に向かう方向に形成されるようにしたり、各々の磁石からハウジングの外側に向かう方向に形成されるようにし、プラズマを発生させるための電力をパルスに供給することによってウェハー中央領域又は、ウェハーエッジ領域のエッチング率を選択的に向上させる。 - 特許庁

To provide an alkaline development type photocuring conductive paste composition which is superior in adhesion to the substrate after firing and adhesion between the layers, and can easily form a conductive circuit pattern of large area and high definition by photolithography technology, is especially useful for forming an underlayer electrode circuit of a bus electrode formed on the front face substrate of a plasma display panel.例文帳に追加

焼成後の基板への密着性、層間の密着性に優れ、フォトリソグラフィー技術により容易に大面積に高精細の導電回路パターンを形成でき、特にプラズマディスプレイパネルの前面基板に形成されるバス電極の下層電極回路形成に有用なアルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁