「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(556ページ目) - Weblio英語例文検索

In a plasma treatment apparatus for treating a treatment object 4 mounted on a lower electrode 3, by feeding high frequency power to the lower electrode 3 from a high-frequency power generation source 8 via a high-frequency feeder 6, power is supplied from the high-frequency feeder 6 to a plurality feed points which are symmetric positions from the center of the lower electrode 3.例文帳に追加

高周波電力発生源８から高周波給電線６を介して下部電極３に高周波電力を給電し、下部電極３に載置された被処理物４を処理するプラズマ処理装置において、下部電極３の中心より対称な位置の複数の給電点に高周波給電線６から給電するよう構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor in which a surface protective layer having sufficiently high bond strength to a photosensitive layer is formed by plasma CVD excellent in mass productivity while preventing deterioration of the photosensitive layer causing degradation of image properties, and by which excellent printing durability and productivity are ensured, and an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

量産性に優れるプラズマＣＶＤ法により、画像特性を劣化させる感光層の劣化を防止し、感光層と表面保護層との付着強度が十分に強い表面保護層を形成し耐刷性及び生産性に優れる電子写真用感光体の製造方法及び電子写真用感光体の提供を目的とする。 - 特許庁

Subsequently, the impurities adsorbed to the inside wall of the reaction chamber and impurities remaining in the reaction chamber are removed by plasma using fluorine compound gas or evacuation of the reaction chamber while heating the inside wall thereof continuously, and then a thin film having silicon element is deposited while heating the inside wall of the reaction chamber continuously.例文帳に追加

次いで、反応室の内壁を加熱し続けしながらフッ素化合物ガスを用いたプラズマまたは反応室内の排気によって、反応室内壁に吸着している不純物および反応室内に残留している不純物を除去した後、反応室の内壁を加熱し続けしながらシリコン元素を有する薄膜を形成する。 - 特許庁

In order to radially equalize the plasma density distribution near the susceptor 12, electromagnetic-field correction is applied to an RF magnetic field generated via the RF antenna 54 by a correction coil 70 while the height position of the correction coil 70 is variable by an antenna-coil interval control part 72 according to the pressure in a chamber 10.例文帳に追加

そして、サセプタ１２近傍のプラズマ密度分布を径方向で均一化するうえで、ＲＦアンテナ５４の発生するＲＦ磁界に対して補正リング７０により電磁界的な補正をかけるとともに、チャンバ１０内の圧力に応じてアンテナ−コイル間隔制御部７２により補正リング７０の高さ位置を可変するようにしている。 - 特許庁

The rubber composition is reduced in friction by inclusion of the fluorine resin powder, and the surface of the fluorine resin powder is particularly activated by the plasma irradiation treatment, the binding force between the fluorine resin powder and the base rubber is increased to improve the wear resistance, and the adhesion with adherend such as metal is also enhanced.例文帳に追加

このゴム組成物は、フッ素樹脂粉体の含有によって低摩擦となり、ここで特に本発明ではプラズマ照射処理によってフッ素樹脂粉体の表面が活性化するため、フッ素樹脂粉体とベースゴムとの結合力が増加して耐摩耗性が向上するとともに、金属などの被着物との接着性も良好なものとなる。 - 特許庁

The present invention relates to a plasma display panel in which a display electrode and a dielectric layer are formed on one substrate, wherein the dielectric layer does not contain a bismuth component and a lead component and a total of contents represented with mol% of CuO and CoO is greater than 0.3% and equal to or less than 0.6%.例文帳に追加

上記の課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルは、一方の基板上に表示電極と誘電体層とが形成されたプラズマディスプレイパネルであって、誘電体層が、ビスマス成分、鉛成分を含まず、ＣｕＯとＣｏＯのモル％で表現される含有量の合計が０．３％より大きく０．６％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a gas supply electrode which is not corroded and, thereby, can prevent the diameter of gas supply holes from being changed and can prevent plasma formation from being made unstable when film deposition material deposited on the gas supply electrode made of aluminum is removed, and permits cleaning with chemicals, and to provide a method of cleaning the gas supply electrode.例文帳に追加

アルミニウムで形成されたガス供給電極に堆積した成膜物を除去する際に、ガス供給電極が腐食することなく、また、これにより、ガス供給穴の径が変化し、プラズマ形成が不安定になることを防止でき、薬品での洗浄が可能なガス供給電極およびガス供給電極の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

A transmission system of the plasma processing apparatus is composed of a circular waveguide, an electromagnetic wave supply mechanism is made of a nearly cylindrical cavity connected to the circular waveguide, and a ridge 301 is provided at the cavity or the ridge 301 and a taper waveguide 401 are used in combination, thus improving a center concentration tendency of microwaves.例文帳に追加

プラズマ処理装置の伝送系が円形導波管を用いて構成され、電磁波供給機構が該円形導波管に接続された略円柱状の空洞部からなり、該空洞部にリッジ３０１を設けること、あるいは、リッジ３０１とテーパ導波管４０１を併用することでマイクロ波の中心集中傾向を改善する。 - 特許庁

To provide a plate-like object carrying container which is capable of accommodating a plate-like object having a projection such as a plasma display panel with a chip tube in a stable posture, effectively avoiding contact of the peripheral edge of the plate-like object with another member, and preventing movement of the plate-like object in the surface direction caused by the vibration during the carriage.例文帳に追加

チップ管付きプラズマディスプレイパネル等の突起を有する板状体を安定した姿勢で収容することができ、かつ、板状体の周縁が他の部材と接触するのを効果的に回避することができ、さらに、板状体が搬送中の振動で面方向に移動するのを阻止することができる板状体搬送容器を得る。 - 特許庁

This indicating lamp 1 for the vehicle includes a light emitter 11 for emitting the light by turning air into plasma, by focusing a laser beam output from a laser oscillator 12 on one point in air by an XYZ scanner 13 and a condensing lens 14, and is constituted so as to emit the light by juxtaposing a plurality of light emitters 15 in a substantially straight line shape in the air.例文帳に追加

車両用表示灯１は、レーザー発振装置１２から出力されたレーザービームを、ＸＹＺスキャナ１３と集光レンズ１４により、空気中の１点にフォーカスさせて、空気をプラズマ化して発光させる発光装置１１を備え、空気中にプラズマ発光体１５を複数ほぼ直線状に並べて発光させるように構成したものである。 - 特許庁

A plasma display device 1A comprises a PDP having a rectangular display surface; a chassis supporting the PDP at the front; a pair of circuit parts arranged away from each other in a longitudinal direction of the display surface of the PDP on the back face of the chassis; and a back cover 7 covering the back face of the chassis so as to store the pair of circuit parts.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置１Ａは、長方形状の表示面を有するＰＤＰと、ＰＤＰを前面で支持するシャーシと、シャーシの背面上に、ＰＤＰの表示面の長手方向に互いに離間するように配置された一対の回路部と、一対の回路部を収容するようにシャーシの背面を覆うバックカバー７とを備えている。 - 特許庁

The sputtering apparatus 1 includes: a chamber 10 which is maintained in an evacuated state therein and forms the plasma discharge 20; a cathode 22 which is installed in the chamber 10 to hold a target 21; and a substrate holder 60 for holding the substrate 110, which holds the substrate 110 so that one surface of the substrate 110 is opposite to the surface of the target 21.例文帳に追加

スパッタリング装置１は、内部が減圧状態に維持されてプラズマ放電２０が形成されるチャンバ１０と、チャンバ１０内に設置され、ターゲット２１を保持するカソード２２と、基板１１０を保持し基板１１０の一表面がターゲット２１の表面に対向するように基板１１０を保持する基板ホルダ６０とを備えている。 - 特許庁

The dielectric formation glass paste for a plasma display panel comprises: B_2O_3-SiO_2 based glass powder; a siloxane resin; and a solvent, and in which a refractive index difference between the B_2O_3-SiO_2 based glass powder and the siloxane resin in a D line (wavelength: 587.6 nm)is less than 0.1 by absolute value.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストは、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末、シロキサン樹脂及び溶剤を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストであって、Ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）におけるＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末とシロキサン樹脂との屈折率差が絶対値で０．１未満であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a highly strong and highly stable coating film which can be manufactured in a no VOC (Volatile Organic Compound) production state, causes no thermal deformation on a substrate when performing powder coating of powder of the resin substrate added with metal fine particles by plasma spraying, in forming a metallic coating film on the resin substrate like an ABS resin with a low softening point.例文帳に追加

ＡＢＳ樹脂など低軟化点温度の樹脂基板面上にメタリック塗膜を形成するためなどにおいて、ＶＯＣ無発生の状態で製造可能である、金属微粒子添加の樹脂基材の粉体をプラズマ溶射で粉体塗装を実施するとき、基板に熱変形などを引き起こすこと無く、高強度・高安定な塗装膜を得ることを可能とする。 - 特許庁

The method for producing the organic-inorganic composite hydrogel includes dispersing or dissolving a water-swellable clay mineral (b) subjected to a surface treatment with plasma, and a water-soluble (meth)acrylic monomer (a) in an aqueous medium (c), and polymerizing the (meth)acrylic monomer (a) without using the polymerization initiator by heating and/or irradiation with ultraviolet rays.例文帳に追加

プラズマによる表面処理を施した水膨潤性粘土鉱物（ｂ）と水溶性の（メタ）アクリル系モノマー（ａ）を水媒体（Ｃ）中に分散又は溶解させた後、重合開始剤を用いずに、前記（メタ）アクリル系モノマー（ａ）を加熱及び／又は紫外線の照射により重合させることを特徴とする有機無機複合ヒドロゲルの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the plasma display panel includes a process for forming a barrier rib (9), and forming a plurality of recessed parts (11) separated by the barrier rib, a process for applying the phosphor ink containing phosphor and solvent on the recessed parts by using an inkjet device, and a process for heating and drying the phosphor ink (12) by infrared rays (14).例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造方法は、隔壁（９）を形成し、当該隔壁によって隔てられた複数の凹部（１１）を形成する工程と、前記凹部に、インクジェット装置を用いて、蛍光体と、溶媒とを含む蛍光体インクを塗布する工程と、前記蛍光体インク（１２）を、遠赤外線（１４）によって加熱し、乾燥する工程と、を有する。 - 特許庁

At least any one of a corona discharge treatment, an atmospheric pressure plasma treatment, and a saponification treatment is used as a method for allowing the contact angle of a part on which a coating film is coated and which is surface treated with high purity water to be smaller than the contact angle of a part not to be surface treated with the high purity water.例文帳に追加

塗布膜が塗布される部分であり、且つ表面処理された部分、の純水との接触角を、表面処理されていない部分の純水との接触角より小さくする方法として、コロナ放電処理または大気圧プラズマ処理または鹸化処理のうち、少なくとも何れか１つの方法を用いたことを特徴とする塗布物の製造方法。 - 特許庁

A protective film essentially comprising gallium oxide and/or indium oxide and having a surface roughness of not more than 5 nm in terms of a square mean value is formed on the surface of a nitride semiconductor substrate by heat treating the nitride semiconductor substrate in an atmosphere containing air or oxygen or by exposing the surface of the nitride semiconductor substrate to oxygen plasma.例文帳に追加

窒化物半導体基板を空気または酸素を含む雰囲気中で熱処理するか、あるいは、窒化物半導体基板の表面を酸素プラズマに暴露することにより、窒化物半導体基板表面に、主成分が酸化ガリウムおよび/または酸化インジウムで、表面粗さの２乗平均値が5nm以下である保護膜が形成される。 - 特許庁

Furthermore, another method for forming an interlayer insulating film is also characterized in that an interlayer insulating film is formed on a substrate using an insulating film material (known compound including silicon and CH_3) by a plasma CVD method and then a gas containing nitrogen is supplied to the substrate in a heated atmosphere.例文帳に追加

また、層間絶縁膜の成膜方法であって、基板上に珪素とＣＨ_３を含む公知化合物である絶縁膜材料を用いてプラズマＣＶＤ法によって層間絶縁膜を成膜した後、加熱雰囲気において窒素を含有するガスを基板に供給することを特徴とする層間絶縁膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

The target antigen for disease related antibody is screened by performing following steps: (1) a step where tissues extract permeated by plasma cell in an individual affected from a specific disease is established contact with a protein library and (2) a step where protein the antibody in extract combined specifically is identified among the protein library.例文帳に追加

以下のステップ、（１）特定の疾患に罹患した個体において形質細胞が浸潤する組織の抽出物とタンパク質ライブラリーとを接触させるステップ、及び（２）タンパク質ライブラリーの中から、抽出物中の抗体が特異的に結合したタンパク質を特定するステップを行い、疾患関連抗体の標的抗原をスクリーニングする。 - 特許庁

The photosensitive transfer material having at least the thermoplastic resin layer, the intermediate layer and the photosensitive recording layer on the temporary substrate in this order is characterized in that the thermoplastic resin layer is subjected to surface activation treatment by at least either of corona discharge treatment, plasma treatment, flame treatment and UV treatment.例文帳に追加

仮支持体上に、少なくとも熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性記録層をこの順に有してなる感光性転写材料において、前記熱可塑性樹脂層が少なくともコロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、UV処理のいずれかにより表面活性化処理されていることを特徴とする感光性転写材料である。 - 特許庁

In the driving circuit of a plasma display panel, a display cell which includes first and second electrodes is selected so as to be turned on and sustaining discharging is conducted between the first and the second electrodes by applying a first voltage Vs1 to the first electrode and by applying a second voltage Vs2 to the second electrode which is located adjacent to the first electrode.例文帳に追加

第１の電極及び第２の電極を含む表示セルが点灯選択され、第１の電極に第１の電圧Ｖｓ１、第１の電極に隣接する第２の電極に第２の電圧Ｖｓ２を印加することにより第１及び第２の電極間で維持放電させるためのプラズマディスプレイパネルの駆動回路が提供される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass paste composition capable of forming a dielectric glass layer with while suppressing the occurrence of residual bubbles which causes the lowering of insulation resistant voltage and light transmittance, and a method for manufacturing a plasma display panel provided with the dielectric glass layer having homogeneity, high transparency, high reliability and high insulation resistant voltage.例文帳に追加

絶縁耐電圧および光透過率の低下を招く残留気泡の発生を抑制して誘電体ガラス層を形成できるガラスペースト組成物を製造する方法と、均質で透明性が高く、高い信頼性と高絶縁耐電圧とを有する誘電体ガラス層を備えたプラズマディスプレイパネルを製造する方法とを提供する。 - 特許庁

For promoting sputtering of an MgO film 7 as a protective film over a dielectric layer 6 on scanning electrodes 2 of the plasma display panel, the magnitude of an aging voltage applied to the scanning electrodes 2 without having influence on the sputtering is set smaller than the magnitude of an aging voltage applied to sustaining electrodes 3 to reduce electric power for aging the scanning electrodes 2.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの走査電極２上の誘電体層６の保護膜であるＭｇＯ膜７のスパッタを進行させるため、スパッタに影響を与えない走査電極２に印加するエージング電圧の高さを維持電極３に印加するエージング電圧の高さよりも低くし、走査電極２のエージングに要する電力を削減する。 - 特許庁

In the method for depositing a nanocrystal silicon thin film on a substrate, the thin film is deposited at least with a hydrogen gas and a silane based gas as raw materials by a plasma chemical vapor deposition process, the pressure at the inside of the film deposition chamber is reduced, and further, a pulse bias is applied to the substrate.例文帳に追加

基板上にナノ結晶シリコン薄膜を形成する成膜方法であって、該薄膜は少なくとも水素ガス及びシラン系ガスを原料としてプラズマ化学気相成長法により成膜され、成膜室内が減圧されるとともに前記基板にパルスバイアスが印加されることを特徴とするナノ結晶シリコン薄膜の成膜方法とする。 - 特許庁

The method of forming the film on a surface of a workpiece W in a treatment vessel 22 where evacuation is carried out includes steps of: forming a metal film 8 containing titanium as a thin film by a plasma CVD method using material gas in the treatment vessel ; and annealing the metal film in the treatment vessel.例文帳に追加

真空排気が可能になされた処理容器２２内で被処理体Ｗの表面に対して薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスを用いて処理容器内でプラズマＣＶＤ法により薄膜としてチタンを含む金属膜８を形成する金属膜形成工程と、処理容器内で金属膜に対してアニール処理を行うアニール工程とを有する。 - 特許庁

In the method for preparing an organic and inorganic composite material fluid dispersion, (meth)acrylic monomers (A) and a water-swellable clay mineral (B) subjected to surface treatment by plasma are dissolved or uniformly dispersed into a water medium (C), thereafter, the monomers (A) are polymerized by heating or the irradiation with ultraviolet without using a polymerization initiator to form an organic and inorganic composite material dispersion (X).例文帳に追加

（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）、プラズマによる表面処理を施した水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）を水媒体（Ｃ）中に溶解または均一に分散させた後、重合開始剤を用いずに、前記モノマー（Ａ）を加熱又は紫外線の照射により重合させ、有機無機複合体（Ｘ）を形成する有機無機複合体分散液の製造方法を提供する。 - 特許庁

This plasma display device 1 is provided with: a chassis 4 supporting a PDP2 on its front surface; a plurality of circuit boards 16 located on a specific region of the back surface of the chassis 4; and a back cover 7 including an edge portion 71 covering the outside of the specific region of the back surface of the chassis 4 and a projecting portion 72 accommodating the plurality of circuit boards 16.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置１は、ＰＤＰ２を前面で支持するシャーシ４と、シャーシ４の背面の所定領域上に位置する複数の回路基板１６と、シャーシ４の背面における前記所定領域の外側を覆う縁部７１、および複数の回路基板１６を収容する突出部７２を有するバックカバー７と、を備えている。 - 特許庁

The spray plate 1 is one of main components of a spray nozzle 10 and includes a spray plate substrate 2 having a conically recessed portion 4A formed so as to be recessed upward from the bottom surface 3 and a through spray port 5 formed in the top of the conically recessed portion 4A and a diamond-like carbon film 6 formed on the surface of the spray plate substrate 2 by a plasma ion injection method.例文帳に追加

噴板１は噴霧ノズル１０の主要部品のひとつであって、底面部３から上向きに陥入して形成された錐陥部４Ａと、錐陥部４Ａの頂部に貫通形成された噴霧口５とを有して成る噴板基体２の表面に、プラズマイオン注入法によりダイヤモンドライクカーボン膜６を形成したものである。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material which achieves film deposition at lower energy than before particularly in a initial stage in which the sublimation of the vapor deposition material is started when depositing a vapor-deposited film by a plasma-type vapor deposition method, and which imparts directivity to the sublimed vapor deposition material without improving an apparatus, and to provide a vapor-deposited film formed by using the vapor deposition material.例文帳に追加

プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し、かつ装置の改良を行うことなく昇華した蒸着材料に指向性を付与し得る蒸着材及び該蒸着材を用いて成膜された蒸着膜を提供する。 - 特許庁

The plasma processing device 1 includes: a processing chamber 3 structured to introduce a material gas and allow an A.C. voltage to be applied; and a shower plate 5 for partitioning the inside of the processing chamber into a gas introduction chamber 32 for introducing the material gas therein, and a reaction chamber 31 for arranging a substrate 10 therein, wherein a cooling device 50 is arranged in the gas introduction chamber.例文帳に追加

原料ガスを導入して交流電圧を印加可能に構成された処理室３と、処理室内を原料ガスが導入されるガス導入室３２と、基板１０が配置される反応室３１と、に区画するシャワープレート５と、を備えたプラズマ処理装置１において、ガス導入室内に、冷却装置５０が設けられている。 - 特許庁

In the automatic learning for the matching point correction, a dummy semiconductor wafer which is not an actual processing object is transported into a chamber and plasma processing is carried out under the same condition as the actual process and automatic matching is made to perform to a matching unit under a reference impedance Z_s, and the measured value of reflected wave power obtained by the reflected wave measuring circuit is fetched and stored in a memory.例文帳に追加

この整合ポイント補正のためのオートラーニングにおいては、実際の加工対象ではないダミーの半導体ウエハをチャンバ内に搬入し、実プロセスと同じ条件でプラズマプロセスを実行して、基準インピーダンスＺ_sの下で整合器にオートマッチングを行わせ、反射波測定回路で得られた反射波電力の測定値を取り込んでメモリに格納する。 - 特許庁

When driving a plasma display panel with display cells where, excited by irradiation with electron rays, a magnesium oxide layer containing magnesium oxide crystals which performs cathode luminescence having a peak in a wavelength region of 200-300nm is formed, reset discharge is made to occur in all display cells by applying a reset pulse to all column electrodes.例文帳に追加

電子線の照射によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が形成されている表示セルを備えたプラズマディスプレイパネルを駆動するにあたり、先ず、全行電極にリセットパルスを印加することにより全表示セル内にリセット放電を生起せしめる。 - 特許庁

The method of manufacturing the plasma display panel comprises a step of forming the first electrode and the second electrode on the substrate, a step of forming a dielectric layer on the first electrode and the second electrode, and a step of forming at least one channel in the dielectric layer between the first electrode and the second electrode.例文帳に追加

また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に第１電極及び第２電極を形成するステップと、前記第１電極及び前記第２電極上に誘電体層を形成するステップと、前記第１電極と前記第２電極との間の誘電体層に少なくとも１つの溝を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The method for crystallizing boron nitride by using plasma from molecular seeds containing boron, nitrogen and fluorine comprises synthesizing boron nitride containing cubic boron nitride in a weak state of ion impact by applying a positive voltage or zero voltage to a substrate with respect to a reaction chamber or to a reference electrode, or by setting the substrate at a float potential.例文帳に追加

ホウ素、窒素、フッ素を含む分子種から、プラズマを用い窒化ホウ素を析出させる方法において、反応容器あるいは参照電極に対し、基体に正の電圧あるいは零電圧のバイアスをかけること、あるいは基体をフロート電位にすることにより、イオン衝撃の弱い状態で立方晶窒化ホウ素を含む窒化ホウ素を合成する。 - 特許庁

The method includes emitting extreme-ultraviolet and/or vacuum-ultraviolet photons, having energy sufficiently high to initiate photodegradation of water molecules absorbed in a material, exposing the surface to the noble-gas plasma capable of emitting radicals of oxygen, hydrogen, and/or hydroxyl groups, and removing the radicals from the reaction chamber.例文帳に追加

該方法は、材料に吸収された水分子の光分解を引き起こすのに充分なエネルギーを有する、極端紫外及び／又は真空紫外のフォトンを放射して、酸素、水素及び／又は水酸基のラジカルを放出させることが可能である希ガスプラズマに対して該表面を露出することと、反応チャンバからラジカルを除去することとを含む。 - 特許庁

An anodized high-purity aluminum alloy material obtained by forming an anodic oxide film on the surface of the above high-purity aluminum alloy material is suitable for use as a material constituting a plasma etching system.例文帳に追加

(1)鋳造材を５８０〜６４０℃にて３時間以上保持するアニール工程(2)アニール工程後、２００℃以下の温度にて加工率５０％〜９０％の塑性加工を行う冷間加工工程この高純度アルミニウム合金材の表面に陽極酸化皮膜が形成されてなる陽極酸化高純度アルミニウム合金材は、プラズマエッチング装置を構成する材料として好適である。 - 特許庁

To provide a pure water device by which the condition for accelerating an ion exchange reaction between ion exchange resin and dissoluble impurities contained in water is prepared by utilizing plasma in an ion exchange tower to reduce the contents of impurities in treating water and to enhance the ion exchange efficiency and to improve the stability.例文帳に追加

イオン交換塔においてプラズマを利用して、イオン交換樹脂と水に含まれる溶解性不純物とイオン交換樹脂とのイオン交換反応を促進させる条件をつくりだし、処理水中の不純物の含有率を低減させるとともにイオン交換効率の向上や安定性の改善効果が得られるようにした純水装置を提供する。 - 特許庁

To provide a near infrared absorbing compound having extremely high transmittance of visible light and capable of efficiently absorbing the sharp peak in near infrared region emitted from a plasma display, etc., and provide a near infrared absorption filter containing the compound and a method for removing near infrared rays by using the filter.例文帳に追加

可視光線を光透過率が極めて高く透過することができ、かつプラズマディスプレイなどから放出されるような、近赤外領域にある鋭いピークを効率的に吸収することができる近赤外線吸収化合物、それを含んでなる近赤外線吸収フィルター、および当該フィルターを利用した近赤外線除去方法。 - 特許庁

A method of etching a chromium layer comprises the steps of providing a substrate having a chromium layer partially exposed from a patterned carbon hard mask into a processing chamber; providing a process gas containing chlorine and carbon monoxide into an etching chamber; maintaining plasma of the process gas; and etching the chromium layer through the hard mask layer.例文帳に追加

クロム層をエッチングする方法は、パターン化された炭素ハードマスクから部分的に露出するクロム層を有する基板を処理チャンバ内に提供するステップと、塩素および一酸化炭素を含有するプロセスガスをエッチングチャンバの中に提供するステップと、プロセスガスのプラズマを維持するステップと、クロム層を炭素ハードマスク層を介してエッチングするステップとを含む。 - 特許庁

These analogues are substituted the amino acids in the 7-10 positions, the C-terminus is cleaved and/or include a variety of other amino acids in the base peptide and the ability to stimulate the insulin production is improved in comparison with glucagon or the stability in plasma is increased or both.例文帳に追加

これらのアナログは、７−１０位でアミノ酸が置換され、Ｃ末端が切断され、および／または基本のペプチド中に様々な他のアミノ酸置換を含み、そしてグルカゴンと比較してインシュリン生産を刺激する能力が向上し、ＧＬＰ−１（７−３７）と比較してプラズマ中での安定性が向上され得るか、あるいはその両方である。 - 特許庁

In the manufacturing method of the plasma display panel with a plurality of data electrodes 8 arranged on a base plate 1 and with an insulating body layer 9 formed so as to cover the data electrodes 8, a conductive part 12 is fitted on the insulating body layer 9 between the data electrodes 8, and the conductive part 12 is put under an aging process with a prescribed potential.例文帳に追加

基板１上に、複数のデータ電極８を配置するとともにそのデータ電極８を覆うように絶縁体層９を形成したプラズマディスプレイパネルの製造方法において、データ電極８間の絶縁体層９上に導電部１２を設け、その導電部１２に所定の電位を与えながらエージングを行うようにする。 - 特許庁

The structure of the dielectric layer of the plasma display panel 200 includes: a barrier 280 defining a discharge cell 283; a phosphor layer 285 located inside the discharge cell 283; a dielectric layer 270, where the phosphor layer 285 is adhered and a groove 290 is formed at least at one portion of a part positioned in the discharge cell 283.例文帳に追加

放電セル２８３を限定する隔壁２８０と、放電セル２８３内に配置される蛍光体層２８５と、蛍光体層２８５が付着され、放電セル２８３内に位置する部分のうち少なくとも一部に溝２９０が形成された誘電体層２７０と、を含んでなるプラズマディスプレイパネル２００の誘電体層の形成構造である。 - 特許庁

The heat spreader (10) for the display device, such as the plasma display panel, the light emitting diode or the liquid crystal display is constituted by comprising at least one sheet of compressed particles of exfoliated graphite (the sheet has a surface area greater than the surface area of that part of the display device where a localized region of higher temperature is generated).例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル、発光ダイオード、または液晶ディスプレイ等の表示素子用のヒートスプレッダー（１０）であって、少なくとも一枚の、剥離されたグラファイトの圧縮された粒子から形成されたシート（シートは、ディスプレイデバイスの、局所的な高温区域が発生する部分の表面積よりも大きな表面積を有する）を含んでなる。 - 特許庁

To provide an application unit and its method as well as a production method of the member for plasma display using the method that can realize an application membrane of high quality cheaply and easily by realizing the rotary valve that does not produce the gelatinous material and degenerate object even if the work of inflow/outflow/stoppage of high viscous paste is done for a long time.例文帳に追加

高粘度ペーストを長時間にわたって流入・流出／停止の作業を行っても、ゲル状物や変成物を発生しないロータリ型バルブを実現することによって、高品質の塗布膜を安価に、しかも容易に実現できる塗布装置及び方法ならびにこの方法を使用したプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供する。 - 特許庁