| 意味 | 例文 |
TO PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 49986件
Preferably, the object transferred to the archive database is a process instance, which is preferably selected from all of the instances of a certain process model according to a certain characteristic value of the process model.例文帳に追加
好ましくは、アーカイブ・データベースに転送されるオブジェクトはプロセス・インスタンスであり、あるプロセス・モデルのインスタンスすべてから、このプロセス・モデルのある特性値に応じて選択されるのが好ましい。 - 特許庁
The pseudo bonding inspection process includes a pair selection process for selecting combination of two substrates to be bonded, and a relative position calculation process for calculating a bonding position of the substrates to be bonded.例文帳に追加
擬似貼り合せ検査工程は、貼り合せる2枚の基板の組合せを選定するペア選定工程と、2枚の基板の貼り合せ位置を計算する相対位置計算工程とを含む。 - 特許庁
For example, if the user has blue pupils, a process to lower a color temperature (process by which white is tinged with red) is performed, and if the user is a boy, a process to increase a contrast is performed.例文帳に追加
例えば、使用者の瞳が青色であれば、色温度を下げる処理(白色がやや赤味を帯びる処理)を行い、使用者が少年”であれば、コントラストを高くする処理を行う。 - 特許庁
With respect to a production process of a semiconductor device, history information related to a processor used in each the process is stored in a process information collection part 3 as the explanatory variable of multi-valued information.例文帳に追加
半導体デバイスの製造工程に関して、各工程で用いられる処理装置に関する履歴情報を、多値情報の説明変数として、工程情報収集部3に記憶する。 - 特許庁
The duration of the second process is set based on a difference between the highest temperature and the lowest temperature of the material to be defrosted at the point of time of switching from the first process to the second process.例文帳に追加
また、第2工程の継続時間は、第1工程から第2工程への切り換え時点における解凍物の最高温度と最低温度との差に基づいて設定される。 - 特許庁
Namely, the process of fastening the electric wires to the first and second fastening parts 120 and 130 (the process of fixing to the wall surface 100) simultaneously serves as the process of checking whether they are in a complete connection state or not.例文帳に追加
つまり、第一留部120と第二留部130への取つ付け工程(壁面100への固定工程)が、同時に完全接続状態か否かの検査工程を兼ねている。 - 特許庁
In a molding process from a die clamping process to an extraction process, a resin molding having a decorative part of the transfer sheet 10 is molded by fitting a second die 40 to the first die 20.例文帳に追加
型締め工程から取り出し工程に至る成形工程では、第1型20に第2型40を合わせて、転写シート10の加飾部が転写された樹脂成形品が成形される。 - 特許庁
To reduce manufacturing costs by simplifying the manufacturing process of a semiconductor element and to improve the reliability and process yield of the semiconductor element by preventing the defect in the process.例文帳に追加
半導体素子の製造工程を単純化することにより製造原価を節減し、工程の欠陥を防止することにより半導体素子の信頼性及び工程収率を向上させる。 - 特許庁
Data are continuously transmitted to a reception process 10 via a network 1 and completion of distribution (B) is transmitted to the control process 30 via the transmission control connection 21 by the transmission process 20.例文帳に追加
送信プロセス20はデータをネットワーク1を介して連続的に受信プロセス10に送り、配信完了(B)を送信制御コネクション21を介して制御プロセス30に送る。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a display by which a photolithographic process is eliminated by changing a wet etching process to a dry etching process using laser and high productivity is realized.例文帳に追加
ウェットエッチングプロセスを、レーザを用いたドライエッチングプロセスにすることにより、フォトリソグラフィー工程を削減でき、高生産性を実現するディスプレイの製造方法を提案することを目的とする。 - 特許庁
To provide a process for producing an electromagnetic wave shielding layer in which production process is simplified and material can be reduced, and to provide a plasma display panel employing it and its manufacturing process.例文帳に追加
製造工程を単純化し、材料を節減させることができる電磁波遮蔽層の製造方法、これを用いたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
(i) Physical simulation programs for establishing the conditions of the lithography process, etching process or film forming process to transfer mask patterns to conductors, insulators or semiconductors 例文帳に追加
一 導体、絶縁体又は半導体に対してマスクパターンを転写させるためのリソグラフィ工程、エッチング工程又は成膜工程を条件設定するための物理的シミュレーションプログラム - 日本法令外国語訳データベースシステム
To provide an information processor and an information processing method of server machine information for easily acquiring the machine information to process it by utilizing specifications of OPC (OLE for Process Control).例文帳に追加
OPC(OLE for Process Control)の仕様を利用することで、サーバマシン情報を容易に取得し、これを取り扱うことができるサーバマシン情報の情報処理装置および情報処理方法を提供する。 - 特許庁
A process scheduling change part 102 receives an interruption from the memory scheduler 200 to change a process scheduling condition of a CPU core 11 from a priority of a process to the bus use rate thereof.例文帳に追加
プロセススケジューリング変更部102は、メモリスケジューラ200からの割り込みを受け、CPUコア11のプロセススケジューリング条件を、プロセスの優先度からプロセスのバス使用率に変更する。 - 特許庁
Moreover, processes may also be curtailed by applying wiring process to lay wires from the through electrodes to the semiconductor standard process such as common use of the wiring process from the gate electrode.例文帳に追加
さらに貫通電極からの配線工程をゲート電極からの配線工程と共有化する等、半導体標準プロセスに適合させることで工程を短縮することができる。 - 特許庁
To reduce influence on reactive monomers before polymerization alignment process and to improve stability of a liquid crystal medium for the polymerization alignment process, in a manufacturing process of the medium.例文帳に追加
重合配向処理のための液晶媒体の製法において、重合配向処理前の反応性単量体に対する影響を減少し、前記媒体の安定性を改善すること。 - 特許庁
To efficiently discriminate whether or not a process is abnormal from the change of spectrums obtained by carrying out the wavelet-analysis of main component scores corresponding to process result data outputted from a process side.例文帳に追加
プロセス側から出力されるプロセス実績データに対応する主成分スコアをウェーブレット解析して得られるスペクトルの変化からプロセスが正常かどうかを効率良く判別推定する。 - 特許庁
A process liquid supply pipe 63 connected to a process liquid nozzle 50 for discharging a process liquid toward a center of surface of a substrate W is connected to a mixing valve (multiple valve) 80.例文帳に追加
基板Wの表面中央に向けて処理液を吐出する処理液ノズル50に接続された処理液供給管63は、ミキシングバルブ(多連弁)80に接続されている。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a silicon device in which the yield can be enhanced by preventing production of foreign substances in the fabrication process, and to provide a process for manufacturing a liquid ejection head.例文帳に追加
製造過程における異物の発生を防止して、歩留まりを向上することができるシリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of forming the fine metal pattern comprises dry film resist thinning treatments (T1 to T4) which are carried out in a period from a process of coating the dry film resist on a board (a) to a process of carrying out an etching process (d).例文帳に追加
基板上にドライフィルムレジストを貼り付け(a)てから、エッチング(d)を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理(T1〜T4)を行う金属パターンの形成方法。 - 特許庁
To conduct a process of taking an uppermost single plate member off plural plate members laid one upon another, and a process of feeding the plate member to a carrying table in the same process.例文帳に追加
重なり合った複数の板材Wから最上位の板材Wを一枚取りする行程と、この板材を搬送テーブル21へ送り出す行程を同一行程により行う。 - 特許庁
Due to this process, it is possible to considerably reduce the time required for mounting in a subsequent mounting order grouping process S11 and a mounting order sorting process S12.例文帳に追加
この工程を経ることにより、次工程の実装順グルーピング工程S11、および実装順ソーティング工程S12において大幅な実装時間の短縮化を実現することができる。 - 特許庁
To provide a method to form silicon dioxide films that have an extremely low wet etch rate in HF solution using a thermal CVD process, ALD process or cyclic CVD process.例文帳に追加
熱CVDプロセス、ALDプロセス又はサイクリックCVDプロセスを用いてHF溶液中で極めて低いウェットエッチ速度を有する二酸化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method for aluminum foil at least including a process deciding a design, a process investigating the shape of a product, a process studying the casting method, a process for designing a mold, and a process working the mold, three-dimensional computerized information is used in at least one process from the process investigating the shape of a product to the process working the mold.例文帳に追加
デザインを決定する工程と、製品の形状検討する工程と、鋳造の方案検討を行う工程と、金型設計を行う工程と、金型加工を行う工程と、を少なくとも含むアルミホイールの製造方法において、製品の形状検討する工程から金型加工を行う工程までの少なくとも1つの工程において3次元の電子化情報を用いる。 - 特許庁
To provide a process operation support apparatus and a process operation support method capable of effectively supporting an operation relating to a plant by extracting and providing proper information and by analyzing a current state of a process or predicting the process.例文帳に追加
適切な情報を抽出、提示することにより、プロセスの現状を解析し、あるいはプロセスを予測することで、プラントに対する操作を効果的に支援できるプロセス操作支援装置およびプロセス操作支援方法を提供する。 - 特許庁
The process contains the process controlling the temperature of a pedestal 44 at a temperature from approximately 400°C to 650°C during an initial period and the process maintaining a pressure within a range between approximately 1 to 10 millitorr in the process chamber 10 during the initial period.例文帳に追加
プロセスは、また、初期期間中、約400から650℃の間にペデスタル44の温度を制御する工程、上記初期期間中、プロセスチャンバ10内で、約1から10ミリトールの間の範囲で圧力を維持する工程を含む。 - 特許庁
To provide a process cartridge which can be displaced to a maintainable state without disassembling the process cartridge itself, and can be restored, and in which a process gap is easily measured, and an image forming apparatus using the process cartridge.例文帳に追加
プロセスカートリッジ自体を分解することなく保守可能な状態に変位させ、かつ、復元可能なプロセスカートリッジ、プロセスギャップの測定が容易なプロセスカートリッジおよびこれらのプロセスカートリッジを用いた画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a process monitoring and controlling device having a process data-storing function which is ready for various kinds of analysis without preliminarily selecting or registering all process data inputted to a control device or the like, the function storing the process data for a long period of time.例文帳に追加
制御装置等に入力されるすべてのプロセスデータをあらかじめ選択や登録をすることなく、様々な解析等に対応できるプロセスデータの長期データ保存機能を有するプロセス監視制御装置を提供する。 - 特許庁
This treatment method for paper waste includes: (a) a process of burning paper waste for ashing; (b) a process of heating the ash generated in the process (a) to generate a molten body; and (c) a process of quenching the molten body to form a glass solid matter.例文帳に追加
紙廃棄物の処理方法は、(a)紙廃棄物を燃焼させ、灰化する工程と、(b)工程(a)で生じた灰を加熱して、溶融体を生じさせる工程と、(c)前記溶融体を急冷し、ガラス固形物とする工程と、を含む。 - 特許庁
The logic unit BSL is connected to a microprocessor MP through a proper bus B1 and to process data, specially, a process-input part signal and a process-output part signal through the other bus B2 forming a process data interface.例文帳に追加
各レジスタが位置不変の相対識別情報を用いて複合系内にて論理ユニット(BSL)の位置に左右されずに読み込み可能及び読み出し可能となるように、前記レジスタが、入力部及び出力部と接続されていること。 - 特許庁
Therein, a hydrogen concentration in an environment from the annealing process to the retention process is 2 to 40 volume% and a dew point DM of the environment in the annealing process and a dew point DL of the environment in the retention process satisfy the following relation: DL≤-30°C and DM-DL≥10°C.例文帳に追加
ここで、焼鈍処理から保持処理における雰囲気中水素濃度は2〜40体積%、かつ焼鈍処理における雰囲気の露点DMと保持処理における雰囲気の露点DLとは次の関係を満たす: DL≦-30℃、かつDM-DL≧10℃。 - 特許庁
To provide a solid state imaging device whose element pattern is finer, and to provide a manufacturing method of the solid state imaging device which employs a furnace annealing process with no nitriding process of a gate oxide film nor rapid thermal process in a main thermal treating process.例文帳に追加
素子パターンがより微細な固体撮像装置と、ゲート酸化膜の窒化処理と、主要熱処理工程における急速熱処理とを行うことなく、ファーネスアニール処理を採用する固体撮像装置の製造方法とを実現する。 - 特許庁
In this way, a small circuit scale can be used to perform an interleaving process equivalent to a bit interleaving process to effectively improve the reception quality at a receiving end.例文帳に追加
これにより、小さい回路規模でビットインターリーブと等価のインターリーブ処理を行って、受信側での受信品質を有効に向上させることができる。 - 特許庁
To attain high accuracy of processing of an atomic force microscope microprocessing device and to make it possible to remove process waste produced in a cutting step by a process probe.例文帳に追加
原子間力顕微鏡微細加工装置の加工の高精度化と加工探針による切削で発生した加工屑をインラインで除去可能にする。 - 特許庁
To omit a machining process by a lathe, to eliminate the generation of chips and to reduce material in a manufacturing process of a welded joint seat plate for a concrete pile.例文帳に追加
コンクリートパイル用溶接継手座板の製造工程において、旋盤による切削加工工程を省き、切り屑の発生がなく、材料を節減できる。 - 特許庁
Likewise, the drying temperature when the mat is dried is made to be ≤80°C and the time until the beginning of the drying process from the wetting process is made to be 0.5 to 5.0 sec.例文帳に追加
また、マットを乾燥するときの乾燥温度を80℃以下とし、湿潤工程から乾燥工程に入るまでの時間を0.5〜5.0秒とする。 - 特許庁
A screw is allowed to advance at the speed corresponding to the filling process while renewing the position command to a screw at every time interval after the completion of a metering process.例文帳に追加
計量工程の終了後、時間間隔毎にスクリュに対する位置指令を更新しながら、充填工程に対応する速度でスクリュを前進させる。 - 特許庁
To provide a printed circuit board that allows the yield of a process to be increased by simplifying a process of forming a multilayer connection structure, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
多層連結構造を形成する工程を簡素化して、工程収率を増大させるプリント基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a light emitting device having a simplified manufacturing process, to provide a light emitting display device having a simple manufacturing process, and to provide a light emitting display.例文帳に追加
製造プロセスを簡易化する発光表示装置の製造方法、製造プロセスが簡易な発光表示装置、及び発光ディスプレイを提供すること。 - 特許庁
To simplify a manufacturing process only for a process for handling an electric conductor, and to correspond to cables having a plurality of sizes.例文帳に追加
製造工程を導電体を扱う工程のみに簡略化することができるとともに、複数の太さのケーブルに対応することができるようにする。 - 特許庁
When displaying the possible target number of sheets subjected to the sorting process, the possible target number of sheets subjected to the sorting process is calculated based on the reference amount adapted to that original document type.例文帳に追加
ソート処理可能な目安枚数を表示する際には,その原稿タイプに対応する基準量を基にソート処理可能な目安枚数を算出する。 - 特許庁
A process 1008 for subjecting the thin-film surface to oxidation treatment down to a specified depth may be included prior to the process 1010 for thinning the thin film.例文帳に追加
上記薄膜を薄くする工程1010の前に薄膜表面を所定の深さまで酸化処理する工程1008を含めることも可能である。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a seamless sleeve-like relief printing plate which corresponds to a CTP(Computer To Plate) process system and has no developing process.例文帳に追加
CTP(Computer To Plate)製版システムに対応し、且つ現像工程を有しない、シームレススリーブ状凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
To improve both of data processing performance and reliability when a unit for a disk device to process data is different from a unit for a file system to process data.例文帳に追加
ファイルシステムがデータを処理する単位と、データを処理する単位とが異なる場合に、データ処理の性能及び信頼性をともに向上させる。 - 特許庁
To obtain a process and a apparatus simplified by omitting a process for transferring an unfixed toner image to a recording medium and also to improve image quality.例文帳に追加
未定着トナー像を記録媒体に転写するプロセスを省略して簡略化したプロセス及び装置とすると共に、画質を向上させることにある。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus capable of preventing expansion of damage due to liquid which has flowed out, and allowing an exposure process and a measurement process to be properly performed.例文帳に追加
流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To cause less change of quality of an inorganic anti-reflective film even when subjected to a wetting (wet peeling-off) process or a plasma ashing process when it is desired to reprocess the film.例文帳に追加
再工事が必要な場合に、ウェット処理(湿式剥離)や、プラズマアッシング処理を行っても、無機反射防止膜の膜質が変化しにくいようにする - 特許庁
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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