「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(167ページ目) - Weblio英語例文検索

Even when the common electrode 11 is heated with the generated heat of the fish paste products, the rise in the temperature of the common electrode 11 is thereby inhibited, and the fish paste products W are heated with only the Joule heat.例文帳に追加

したがって、共通電極１１が練り製品Ｗの発熱により加熱されても、共通電極１１の温度上昇が抑制されることになり、練り製品Ｗはジュール熱のみによって加熱される。 - 特許庁

This polishing device has a substrate holding part to hold the substrate W, a tape feeding mechanism 43 to feed the polishing tape 41 in the longitudinal direction and a polishing head 42 to pressurize the polishing tape to the notch of the substrate.例文帳に追加

本発明に係る研磨装置は、基板Ｗを保持する基板保持部２０と、研磨テープ４１をその長手方向に送るテープ送り機構４３と、研磨テープを基板のノッチ部に押圧する研磨ヘッド４２とを備える。 - 特許庁

When selecting an odd numbered scanning line S2N-1 in a descending order, sustaining discharge electrodes J2N+1 and J2N are transitioned to the voltages M and L while applying an address electrode 22 of image data W corresponding to the line S2N-1.例文帳に追加

奇数番目の走査線Ｓ2n-1を降順で選択するに際して、当該走査線Ｓ2n-1に対応する画像データＷのアドレス電極２２への印加時に、各維持放電電極Ｊ2n+1，Ｊ2nを各電圧Ｍ，Ｌに遷移する。 - 特許庁

In such a manner, when it is attached to the optometry frame, since a distance between the polarization filter and the optometry frame W (face) or the like is fixed during the inspection using the polarization filter, the accurate inspection can be performed.例文帳に追加

このように、検眼枠に取付けられておれば、その偏光フィルターを使用した検査時、その偏光フィルターと検眼枠Ｗ（顔）との距離等は一定であるため、正確な検査を行うことができる。 - 特許庁

And, inert gas is jetted from a plurality of gas exhaust nozzles 9b provided at a facing surface 9a in a space formed between a top face of the substrate W and the facing surface 9a of an atmosphere shielding plate 9.例文帳に追加

そして、基板Ｗの上面と雰囲気遮断板９の対向面９ａとの間に形成される空間に対向面９ａに設けられた複数のガス噴出口９ｂから不活性ガスを噴出させる。 - 特許庁

After mounting the fuel cartridge 10 on a fuel cartridge housing part 5, a pump 9 is started, and water W of a reservoir tank 8 is supplied from the water supply port 6 and the guide-in port 11 to the fuel cartridge 10.例文帳に追加

そして、燃料カートリッジ収容部５に燃料カートリッジ１０を装着たらポンプ９を起動してリザーバタンク８の水Ｗを水供給口６及び導入口１１から燃料カートリッジ１０に供給する。 - 特許庁

A specified vehicle distance dw as operation start timing for operating a warning unit W is decided by using a normalization logic expression containing brake stepping quantity Brk in a stabilization item.例文帳に追加

記憶されている複数の相関関係から、警報器Ｗを作動させる作動開始タイミングとしての特定車間距離ｄw が、安定化項にブレーキ踏み込み量Ｂrkを含む正則化理論式を利用して決定される。 - 特許庁

It is thereby easy to lift up sheet pieces T as the unnecessary sheet pieces W between the temporary cutting and the main cutting in lifting up the sheet pieces T cut out by the main cutting.例文帳に追加

それゆえ、本切断によって切り離されたシート片Ｔ，Ｔ・・を持ち上げる際に、捨て切断と本切断間の不要シート片（Ｗ，Ｗ・・）が上側へ変形してシート片Ｔ，Ｔ・・を持ち上げ易くなっている。 - 特許庁

The metal fixture 3 is locked at a flange part 11 situated in a mounting hole 4, a bush 5 made of rubber being an elastic member, and the bolt 7 through a square tubular sleeve 6 made of a metal and mounted on a wall surface W.例文帳に追加

取付金具３は、取付孔４に設けられたフランジ部１１と、弾性部材であるゴム製のブッシュ５と、金属製の角筒状のスリーブ６を介してボルト７に係止され、壁面Ｗに取り付けられている。 - 特許庁

A spindle 30 having a chuck at its lower end for clamping the workpiece W is rotated in normal and reverse directions by a rotating motor and moved up and down vertically by a certain stroke by a lifting motor 56.例文帳に追加

また、下端部に加工物Ｗをクランピングするチャックを有するスピンドル３０は、回転モーターによって、正逆方向に回転され、昇降モーター５６によって上下方向に一定ストロークだけ昇降される。 - 特許庁

As shown in Figs. 6 (a) to 6 (d), one of the plurality of (four) supply pipes are selectively switched, to supply a treatment solution to the substrate W.例文帳に追加

図６（ａ）から（ｄ）に示すように、これらの複数（４つ）の供給管のうちいずれの供給管を用いて処理液の供給を行うかを選択的に切り換えて、処理液を基板Ｗに対して供給する。 - 特許庁

A welding torch 10 incudes an electrode E to which electricity for arc discharge is supplied, an electrode supporting member 12 which supports the electrode E and which is formed in curvature along the side periphery of a base material W.例文帳に追加

溶接トーチ１０は、アーク放電用の電気が供給される電極棒Ｅと、電極棒Ｅを支持すると共に、母材Ｗの側周部に沿うように湾曲して形成される電極支持部材１２と、を備える。 - 特許庁

The light entering the rods 25 makes multiple reflection on the sidewalls of the interiors of the square pole-shaped light guide rods 25 and is emitted from the lower ends of the rods 25 toward substrates W in the space PS.例文帳に追加

導光ロッド２５に入射した光は、四角柱形状の導光ロッド２５内部の側壁において多重に反射を繰り返し、その下端面から処理空間ＰＳ内の基板Ｗに向けて出射する。 - 特許庁

An indexer robot IR installed in an indexer block 9 sends an unprocessed substrate W taken out from a cassette C to the cleaning portion 93 before conveying it to a processing portion, which is a processing block 10 for an anti-reflective coating.例文帳に追加

インデクサブロック９に設けられたインデクサロボットＩＲは、カセットＣから取り出した未処理基板Ｗを、処理部である反射防止膜用処理ブロック１０に搬送する前に洗浄処理部９３に搬送する。 - 特許庁

To provide an O/W emulsion composition which is excellent in UV protection performance, preparation stability and feeling upon application, by compounding an oily organic ultraviolet absorber such as octocrylene and a solid organic ultraviolet absorber.例文帳に追加

本発明は、オクトクリレンなどの油状有機紫外線吸収剤と固体有機紫外線吸収剤とを配合し、紫外線防御能、製剤安定性ならびに使用感に優れるＯ／Ｗ乳化組成物を提供する。 - 特許庁

The shelf 3 having a shelf board 4 and a connector 5 is detachably attached to a panel 1 through fitting of the insertion part 53 of the connector 5 and the groove part 21 in a mounting rail 2 provided on the panel 1 on the wall surface W.例文帳に追加

棚板４と連結具５とを有する棚３を、連結具５の挿入部５３と壁面Ｗ上のパネル１に備えられた取付レール２の溝部２１との嵌合を介してパネル１に着脱自在に取り付ける。 - 特許庁

To provide an arithmetic processing circuit capable of processing input data consisting of plural component data in parallel by using a computing element for w-bit width without using a specific arithmetic circuit capable of computing each component data.例文帳に追加

成分データ毎の演算が可能な特別な演算回路を用いることなく、複数の成分データからなる入力データをＷビット幅の演算器を用いて並列的に処理できる演算処理回路を提供する。 - 特許庁

The wire rope R is retained in the outer circumference grooves 6a, 7a by a holding roller 9 and is applied drawing out resistance during alternating between the tension drums 6, 7 and is wound around the winch W with a designated tension.例文帳に追加

ワイヤロープＲは、押さえローラ９によって外周溝６ａ、７ａ内に保持され、テンションドラム６，７間を往復する間に、その引き出しに抵抗を付与され、所定の緊張を持ってウインチＷへ巻き取られる。 - 特許庁

This electrolyte for extraction analysis of the deposit and/or the inclusion in steel is characterized by using alcohol as a solvent, and containing 0.2-0.4 v/v% acetylacetone, and 0.5-2 w/v% tetramethylammonium chloride.例文帳に追加

アルコールを溶媒とし、アセチルアセトンを０．２〜０．４ｖ／ｖ％、テトラメチルアンモニウムクロライド０．５〜２ｗ／ｖ％を含有することを特徴とする鋼中析出物及び／又は介在物の抽出分析用電解液。 - 特許庁

In the lamination, the substrate S for the reinforcement is held at the lower zipper 11, a wafer W is held at the upper zipper 12, a liquid crystal wax on the substrate S for the reinforcement is melted at the heater 21 after that.例文帳に追加

貼り合せ処理の際には、下部チャック１１に補強用基板Ｓが保持され、上部チャック１２にウェハＷが保持され、その後補強用基板Ｓ上の液晶ワックスが、ヒータ２１により溶融される。 - 特許庁

The carrying device 10 is provided so that the semiconductor wafer W having the projection portion W2 formed along the outer edge can be carried by making the semiconductor wafer thicker on the outer edge side than in other regions.例文帳に追加

搬送装置１０は、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成された凸部Ｗ２を有する半導体ウエハＷを搬送可能に設けられる。 - 特許庁

The pushing-up device 10 has supporting levers 15, 15 for supporting a prescribed quantity of workpiece groups WS which are loaded in a cylinder case 12 and a piston 13 for placing a workpiece W charged anew and pushing up it upward.例文帳に追加

押上装置１０は、シリンダケース１２内で所定量積載するワーク群ＷＳを支持する支持レバー１５、１５と、新たに装填されたワークＷを載置して上方に押し上げるピストン１３と、を有している。 - 特許庁

In particular, when the user coordinate system Cu is set according to the shape of the work W mounted to the positioner P (or a manipulator other than the manipulator M), the coordinate values of the positions of the characteristic points are stored as work coordinate values.例文帳に追加

特に、ユーザ座標系Ｃｕを、ポジショナＰ（またはマニピュレータＭとは別のマニピュレータ）に搭載されたワークＷの形状に応じて設定するときは、特徴点の位置座標値をワーク座標値で記憶する。 - 特許庁

The formed ion beam is converged by an electrostatic lens 21, is accelerated by an after-accelerator 22, is shaped by a quadrupole lens 23, and irradiates a semiconductor wafer W arranged in a process chamber 31.例文帳に追加

生成されたイオンビームは、静電レンズ２１によって収束され、後段加速器２２によって加速され、四重極レンズ２３によって整形されて、処理室３１内に配置された半導体ウエハＷ上に照射される。 - 特許庁

A first controlling means 15 for controlling the quantity of the wash water in a washing tank 3 is provided according to the flow rate of the wash water W to be supplied to the wash water ejectors 9A, 9B from the pump 4.例文帳に追加

また、ポンプ４から洗浄水噴射体９Ａ，９Ｂに供給すべき洗浄水Ｗの流量に応じて、洗浄槽３内への給水量を加減する第１の制御手段１５を設けた。 - 特許庁

The pressurized air is discharged in a collection cup 40 from an exhaust vent 16 via a discharge path 32, so that the pressurized air and the treatment solution or the like which is discharged together with the pressurized air are not brought into contact with the substrate W.例文帳に追加

加圧空気は、排出経路３２を介して、排気口１６から、回収カップ４０内に排出され、この加圧空気やそれとともに排出される処理液等が基板Ｗに接触することはない。 - 特許庁

The IPA with moisture concentration 0.01 weight% or less is supplied from the intermediate tank 6 to a processing chamber 11, where a wafer W is processed with the IPA being in a high temperature and highly pressurized.例文帳に追加

中間タンク６からは、処理チャンバ１１に水分濃度が０．０１重量％以下のＩＰＡが供給され、処理チャンバ１１では、当該ＩＰＡを高温、高圧状態として、ウエハＷの処理が行われる。 - 特許庁

A light source 171 and a light-detecting part 172 are respectively provided in the vicinity of a heat-treating part 160 on the upstream side of the heat-treating part 160, when seen from the feed direction AR1 of the substrate W.例文帳に追加

光源１７１および受光部１７２のそれぞれは、加熱処理部１６０付近に設けられるとともに、基板Ｗの搬送方向ＡＲ１から見て加熱処理部１６０の上流側に設けられている。 - 特許庁

In zooming from the wide angle end (W) up to the telephotographing end (T), the zooming system has a fixed aperture (ST) on an image plane side behind the 2nd group (Gr2), having a movable 3rd group (Gr3) on the image plane side behind the aperture (ST).例文帳に追加

広角端（Ｗ）から望遠端（Ｔ）までのズーミングにおいて、固定の絞り（ＳＴ）を第２群（Ｇｒ２）よりも像面側に有し、可動の第３群（Ｇｒ３）を絞り（ＳＴ）よりも像面側に有する。 - 特許庁

The wafer W after the sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture treatment is transferred to the ammonia hydrogen peroxide water treatment chamber 2 from the sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture treatment chamber 1 and is subjected to ammonia hydrogen peroxide water treatment using SC1 in the ammonia hydrogen peroxide water treatment chamber 2.例文帳に追加

硫酸過水処理後のウエハＷは、硫酸過水処理チャンバ１からアンモニア過水処理チャンバ２へ移送され、アンモニア過水処理チャンバ２内において、ＳＣ１を用いたアンモニア過水処理を受ける。 - 特許庁

Whenever each silicon wafer W in rotation rotates by a prescribed angle, it falls into plane cut-out portions 13a, 13b of wafer rotation rollers 13, 13 each and thereafter it vertically moves by running on a roller outer circumferential surface, respectively.例文帳に追加

回転中の各シリコンウェーハＷは所定角度回転する毎、ウェーハ回転ローラ１３，１３の平面切欠部１３ａ，１３ａにそれぞれ落ち込み、その後、ローラ外周面にそれぞれ乗り上げることで上下動する。 - 特許庁

Thereby, even in winter or the like whose atmospheric temperature is low, water temperature is high and saturated vapor pressure of water W is high, so that cavitation is generated even when the pressure on the suction opening side of the pump 4 is not significantly lowered.例文帳に追加

これにより、気温が低い冬季などにおいても、水温が高く水Ｗの飽和蒸気圧が高いため、ポンプ４の吸込口側の圧力を大きく下げなくてもキャビテーションを発生させることができる。 - 特許庁

Respective terminal fittings 11 of chained terminal 10 are supplied to the automatic crimping machine 20 according to the intermittent movement of a carrier 12 in the longitudinal direction, and barrel parts 14, 15 of supplied terminal fittings 11 are fixed to the electric wire W by crimping.例文帳に追加

連鎖端子１０の各端子金具１１を、キャリア１２の長さ方向に間欠移動しつつ自動圧着機２０に供給し、その供給された端子金具１１のバレル部１４，１５を電線Ｗにカシメ付ける。 - 特許庁

The droplet discharging device then arranges droplets Fb2 at target discharge points P3 and P4 shifted from the target discharge points P1 and P2 by a half of the discharge interval W in the X arrow direction.例文帳に追加

次に、液滴吐出装置は、液滴Ｆｂ２を、それぞれＸ矢印方向に、目標吐出位置Ｐ１，Ｐ２から吐出間隔Ｗの半分の間隔だけずれた各目標吐出位置Ｐ３，Ｐ４に配置する。 - 特許庁

In the dry etching system 10, a chamber 12 for containing an Si wafer W is coupled with supply sources 32, 38, 40 and 42 of SF6 gas, N2 gas, CF4 gas and O2 gas through a gas mixing chamber 30.例文帳に追加

ドライエッチング装置１０は、ＳｉウェハＷが収容されるチャンバ１２に、ガス混合室３０を介して、それぞれＳＦ_6ガス、Ｎ_2ガス、ＣＦ_4ガス及びＯ_2ガスの供給源３２，３８，４０，４２が接続されたものである。 - 特許庁

The central core 4 is formed by laminating a plurality of flat lamination steel plates 43 via bonding layers 44 in the cross-sectional direction W which is one radial direction orthogonal to the axial direction L of the ignition coil 1.例文帳に追加

中心コア４は、複数の平板状の積層鋼板４３を接着層４４を介して点火コイル１の軸方向Ｌに直交するいずれかの径方向である横断面方向Ｗに向けて積層してなる。 - 特許庁

In this apparatus, an optical measuring device 40 is provided on the device 20 to optically measure a state of the surface WUS of the wafer W from the upper part through measuring openings 27 formed on the pad 25.例文帳に追加

そして、パッド保持装置２０に、研磨パッド２５に形成した測定用開口２７を通して、上方からウエハＷの被研磨面ＷUSの状態を光学的に測定する光学測定装置４０が設けられている。 - 特許庁

The locating pins 21 engaged with spark plug mounting holes 22 in the workpiece W each have a substantially semicircular frustum shape with a pair of positioning edge portions 24, and are also capable of being positioning by an NC motor 25.例文帳に追加

ワークＷ側の点火栓取付穴２２に係合するロケートピン２１は略半円錐台形状として一対の位置決め稜線部２４をもたせ、同時にＮＣモータ２５にて位置調整可能な構造とする。 - 特許庁

A cutout portion 9 is provided in the baffle member 8 for passing the rolling-ease fluid W therethrough and the total area of the cutout portion 9 is set to be 15-50% of the area of the baffle plate 8.例文帳に追加

そして、邪魔部材８には動揺緩和流体Ｗを通過させるための切り欠き部９が設けられており、その切り欠き部９の総面積は邪魔部材８の面積の１５〜５０％に設定されている。 - 特許庁

In each liquid phase treatment chamber, a chemical is supplied to a chemical spray nozzle 122 and a chemical, which is subjected to ultrasonic vibration by a supersonic vibration plate 136, is supplied to the surface of the wafer W from the chemical spray nozzle 122.例文帳に追加

各液相処理室では、薬液を薬液吹付ノズル１２２に供給し、超音波振動板１３６により超音波振動された薬液を薬液吹付ノズル１２２から基板Ｗの表面に供給する。 - 特許庁

When making a desired print on the printable layer 7 of this CD-R, the printer is set to the CD-R/CD-W drive mode, and the information has to be read in advance about the above printable area.例文帳に追加

このＣＤ−Ｒの印刷可能な層７に所望の印刷を施すに際しては、あからかじめ、これをＣＤ−Ｒ／ＣＤ−ＲＷドライブにセットして、前記印刷可能領域に関する情報を読み取る。 - 特許庁

In such a case, the plurality of the heating units 12 are arranged so that the heat ray from each heating unit 12 ranges on the same straight line to collect heat to heat a part P to be heated of the material W to be worked.例文帳に追加

この場合、各加熱ユニット１２からの熱線が略同一直線上にライン状に連なって集熱し、被加工物Ｗの被加熱部位Ｐを加熱するように、複数の加熱ユニット１２が配置されている。 - 特許庁

The distance W between the aperture sections 7c is 70 to 95% of the length H in the axial direction of the disposable diaper P, and the length of each aperture section 7c is 1/5 to 3/5 of the horizontal length of the front face 3.例文帳に追加

開き部７ｃ間の離間幅Ｗは、紙おむつＰの軸線方向長さＨに対して７０％〜９５％とされ、各開き部７ｃの長さは、前面３の水平長さの１／５〜３／５とされる。 - 特許庁

To obtain a salt-tolerant Bacillus cereus CH-6 capable of efficiently carrying out purifying treatment of a waste liquid having a high salt concentration in which a salt concentration containing organic substances is ≥3.5 %w/v and provide a method for treating a waste liquid having the high concentration.例文帳に追加

有機物を含む塩濃度が３．５％ｗ／ｖ以上の高塩濃度廃液を効率良く浄化処理できる耐塩性バチルス・セレウスＣＨ−６及び高塩濃度廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

Support edges 7 for supporting a ground device P installed on an upper opening of the electrical cable common duct body 1 are provided on the right and left edges of the upper opening of the electrical cable common duct body 1 buried in the sidewalk zone W.例文帳に追加

歩道域Ｗ内に埋設する電線共同溝本体１における上部開口の左右縁に、この電線共同溝本体１の上部開口に設置する地上機器Ｐを支持する支持縁７を設ける。 - 特許庁