「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(170ページ目) - Weblio英語例文検索

The developing solution discharging nozzle 30 is provided with a slit whose discharging width is bigger than the diameter of the substrate W, while the width of the treatment solution discharged out of the slit is changed in accordance with the flow rate of the developing solution supplied to the slit.例文帳に追加

現像液吐出ノズル３０は基板Ｗの直径以上の吐出幅のスリットを有し、そのスリットに供給される現像液の流量に応じて該スリットから吐出される処理液の幅が変化する。 - 特許庁

In the vehicle W, when a front obstruction alarm and a lane deviation alarm are issued at the same time, alarm intensity of the lane deviation alarm is set larger than that of the front obstruction alarm.例文帳に追加

車両Ｗにおいては、前方障害物警報と車線逸脱警報とが同時に発せられたときには、車線逸脱警報の警報強度が前方障害物警報の警報強度に比べて大きく設定される。 - 特許庁

Pawl frames 21A, 21B and 21C which hold booklets B where commodity information are filled and which are formed at the peripheral part of a through window W of the tag plate 12 by injection molding are installed in the tag plate 12.例文帳に追加

札板１２には、商品情報を記載した冊子Ｂを保持する枠であって、札板１２の貫通窓Ｗの周辺部に射出成形によって形成される爪枠２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃが設けられる。 - 特許庁

A coupon distribution device 9 disposed with a R/W 15 having a wireless communication function in an advertisement medium such as a poster recognizes a wireless function-equipped cellphone 11, and distributes coupon information, the content and restricted contents information.例文帳に追加

ポスター等の広告媒体に無線通信機能を持つＲ／Ｗ１５を設置したクーポン配信装置９は、無線機能付き携帯電話１１を認識し、クーポン情報、コンテンツおよび制限内容情報を配信する。 - 特許庁

This fluid temperature detector T is provided with a protective tube 4 extending into a fluid through the wall face W of a pipe, a container or an apparatus surrounding the fluid and a sheath tube 2 stored in the protective tube 4.例文帳に追加

流体用温度検出器Ｔは、流体を囲む配管、容器または機器等の壁面Ｗを貫通して流体内へ延びる保護管４と、この保護管４内に収納された鞘管２とを備えている。 - 特許庁

In a step S2, when a weight detection value W is judged to be over 2000 g as a preset weight value, steps S9-S14 equivalent to measuring action executing means are executed.例文帳に追加

ステップＳ２において、重量検出値Ｗが予め設定された重量値である「２０００ｇ」以上であることが判断されると、測定動作実行手段に相当するステップＳ９〜ステップＳ１４を実行する。 - 特許庁

The mouthpiece 16 for application is arranged to overlap the front of a mouthpiece 15 for extrusion, and guide surfaces 20a, 21a for guiding the application surface wa of an extruded molding w are formed in the mouthpiece 16.例文帳に追加

押出成形機の押出用口金１５の前面に塗布用口金１６を重合配置し、塗布用口金１６に押出成形品ｗの塗布面ｗａを案内するガイド面２０ａ，２１ａを設ける。 - 特許庁

In the welding gun 1, at the time when the elastic force of the spring 6 reaches a prescribed value, a leaf spring 7b is pushed down by a pusher 7a, and electric current is fed from a condenser stud welder 10 to a washer W.例文帳に追加

かかる溶接ガン１によれば、スプリング６の弾性力が所定値になったときに、プッシャ７ａによって板バネ７ｂが押し下げられ、コンデンサスタッド溶接機１０からワッシャＷに電流が供給される。 - 特許庁

In this connector, electric wires W brought into pressure contact are elastically pinched and sealed between a case side sealing member 15 arranged on a case 10 so as to surround a group of pressure contact blades 21 and a cover side sealing member 38 arranged on a cover 30.例文帳に追加

ケース１０に圧接刃２１群を包囲するように設けたケース側シール部材１５と、カバー３０に設けたカバー側シール部材３８と間で、圧接済みの電線Ｗを弾性的に挟み付けてシールする。 - 特許庁

Mixing ratio of the number of turns of three-phase coils U, V and W is set so that the electrical angle phase of stator flux generated from each coil group is shifted by about 2π/N from each other in the order of coil groups 51, 52, 53, 54, and 55.例文帳に追加

Ｕ，Ｖ，Ｗの３相コイルの巻き数混合比を、各コイル群が生成する固定子磁束の電気角位相がコイル群５１，５２，５３，５４，５５の順番で略２π／Ｎずつずれるように設定する。 - 特許庁

The vapor is supplied into the tube 1 via the tube 93 immediately after the tube 1 is led in the existing tube by utilizing a wire W connected to the member 6, and thereby the tube 1 is radially enlarged.例文帳に追加

更生管引込部材６に接続されたワイヤＷを利用して更生管１を既設管に引き込んだ直後に、蒸気供給管９３により更生管１の内部に蒸気を供給して更生管１を拡径させる。 - 特許庁

Four arms turned up and down freely are independently provided respectively around the turning centers O1, O2 in parallel to a bent line of the sheet material W bent V-shapedly while interposed between a die 2 and a punch 4 of a press brake.例文帳に追加

プレスブレーキのダイ２とパンチ４間に介在してＶ字状に曲げられた板材Ｗの曲げ線と平行な回動中心Ｏ１，Ｏ２回りにそれぞれ独立して起倒回動自在な４本のアームが設けられる。 - 特許庁

The heated gas jetted from the jetting holes 25 works to correct a warpage, etc. even when the protective sheet S has the warpage, etc. and holds the chips W in the non-contact state by a Bernoulli's effect.例文帳に追加

噴出孔２５から噴出する加熱された気体は、保護シートＳに反り等があってもこれを矯正するように作用し、ベルヌーイ効果によって前記チップＷを非接触の状態で保持することができる。 - 特許庁

In order to grasp the movement of the article being processed visually, the control means alters the position of the icon W being displayed on the images 25 of the plurality of chambers as the time elapses according to the carrying order.例文帳に追加

この制御手段は、被処理体の動きを視覚的に捉らえるために、複数のチャンバのイメージ２５上に表示するアイコンＷの表示位置を、搬送手順通りに時間経過とともに変えて表示させる。 - 特許庁

The abrasive grains of the wrapping entering the wafer accommodation hole 15 are accommodated in recessed parts 15b formed between the projecting surface 15a and the projecting surface 15a, and the outer circumferential surface of the semiconductor wafer W is prevented from being worn.例文帳に追加

ウエハ収容孔１５に進入したラッピングの砥粒は、凸面１５ａと凸面１５ａとの間に形成される凹部１５ｂに収容されるので、半導体ウエハＷの外周面の磨耗が防止される。 - 特許庁

Then, the poured water w in the container 10 is heated while it is circulated between the container 10 and a circulating water-heater 16 on the outside under monitoring of the pressure of the decomposed gas g so that it does not fluctuate.例文帳に追加

しかる後に、分解ガスｇの圧力が変動しないように監視しながら、容器１０内の注水ｗを前記容器１０と外部にある循環水加熱器１６との間で循環させながら加熱する。 - 特許庁

The moving nozzle 2 discharges the first chemical liquid, second chemical liquid and pure water in the direction almost vertical to the front surface of the wafer W from a first chemical liquid discharge port, a second chemical liquid discharge port, and pure water discharge port.例文帳に追加

移動ノズル２は、第１薬液吐出口、第２薬吐出口および純水吐出口から、それぞれ第１薬液、第２薬液および純水をウエハＷの表面に対してほぼ垂直な方向に吐出する。 - 特許庁

Reduction in the ON resistance of the pin diode 1 can be realized by forming the p+ type diffusion layer 5 and the n+ type diffusion layer 6 such that the interval W therebetween is shortened.例文帳に追加

また、ｐ^+型拡散層５とｎ^+型拡散層６との間隔Ｗが小さくなるようにｐ^+型拡散層５およびｎ^+型拡散層６を形成することによりｐｉｎダイオード１の低オン抵抗化を実現する。 - 特許庁

A shutter is half-pushed in the state where the direction of an imaging part is adjusted so that the first measuring point of the subject enters inside of a range-finding frame W displayed approximately on the center of a display screen G of an image display part.例文帳に追加

画像表示部の表示画面Ｇの略中央に表示される測距枠Ｗ内に、被写体の第１の測定点が入るように撮像部の向きを調整した状態で、シャッターを半押しする。 - 特許庁

There are provided a furnace 10 for the reflow heating of the work W, a heat capacity increasing medium supply means 26 for supplying a heat capacity increasing medium into the furnace 10 to increase the heat capacity of an atmospheric gas in the furnace.例文帳に追加

ワークＷをリフロー加熱する炉体10と、炉体10の内部に炉体内雰囲気ガスの熱容量を増加させる熱容量増加媒体を供給する熱容量増加媒体供給手段26とを具備している。 - 特許庁

Even in the case the material W ranges out over the rangeout region, the judging means 117 does not make a rangeout sensing so that particular pieces of operations can be done as long as it concerns the input/discharge area and material replacement area.例文帳に追加

材料Ｗがはみ出し領域にはみ出している場合でも、入出庫エリアおよび材料入れ替えエリアについては、各々の作業を行うことができるように、判断部１１７ははみ出し検出を行わない。 - 特許庁

A force-feeding plate 37 of an overhead conveyor 34 approaches the box W from the rear upper side, and presses the rear flap 11a under a semi-folded state in the direction of being superposed with the rear side wall 18, and affixes the rear flap 11a to the rear side wall 18.例文帳に追加

オーバーヘッドコンベヤ３４の押送板３７が箱Ｗに対して後側上方から近接して、半折り状態の後フラップ１１ａを後側壁１８に重合する向きに押圧して貼合わせる。 - 特許庁

It has a jig main body 21 having a positioning part 31 abutting to the work W, and a wedge form of pressing part 32 formed integral in a lower side projecting form at the center of the lower end face of the positioning part 31.例文帳に追加

工作物Ｗに当接する位置決め部31および位置決め部31の下端面の中央部に下方突出状に一体に形成されたくさび状の押付け部32を有する治具本体21を備えている。 - 特許庁

There is improved the in-plane uniformity of the temperature distribution on the semiconductor wafer W at flash heating by performing the flash light irradiation via the optical window to raise a temperature at the peripheral edge where a temperature is low.例文帳に追加

この光学窓を介して閃光照射を行い、温度の低くなる周縁部の温度を上昇させてフラッシュ加熱時における半導体ウェハーＷ上の温度分布の面内均一性を向上している。 - 特許庁

In a state that incident angle (θ_1, θ_2 and the like) of energy beams through the optical system are different, an object W having a photoresistive layer RL on the surface thereof is exposed, and images having a plurality of patterns are formed on the object.例文帳に追加

光学系を介したエネルギビームの入射角（θ_1、θ_2など）が異なる状態で表面に感光層ＲＬを有する物体Ｗが露光され、その物体上に複数のパターンの像が形成される。 - 特許庁

Thus the processing of the bill bundle B in each processing part can be discriminated by the processing discriminating mark w4 printed on the tying band W when the follow-up survey of the bill bundle B is carried out.例文帳に追加

従って、紙幣束Ｂの追跡調査を行う際、結束帯Ｗに印字された処理判別記号ｗ４によって、当該紙幣束Ｂが各処理部において如何なる処理を経たものかを判別することができる。 - 特許庁

The device is provided with a mounting pad removing means 5 for removing the mounting pad Y from the elevating/lowering supporting plate 7 lowering in a state that all the blanks W on the elevating/ lowering supporting plate 7 are fed and the mounting pad Y is supported.例文帳に追加

昇降支持板７上の全てのブランクＷが投入され、載置パッドＹを支持した状態で下降する昇降支持板７上から載置パッドＹを除去する載置パッド除去手段５を設ける。 - 特許庁

To provide a W/O type emulsion base makeup cosmetic product (e.g. makeup base and liquid foundation) giving finished makeup having excellent transparency, free from stickiness, giving moist feeling in use and having excellent stability.例文帳に追加

メークの仕上がりが透明感に優れるとともに、べたつかずにしっとりした使用感触を有し、安定性に優れた油中水型乳化ベースメーキャップ化粧料（例えば、化粧下地、リキッドタイプのファンデーション等）を提供する。 - 特許庁

For this reason, the heat generation and the occurrence of the drift in the electrode 31 for machining can be suppressed, even when the electro chemical machining has been carried out using the workpiece W as a counter electrode for the electrode 31 for machining.例文帳に追加

このため、被加工物Ｗを加工用電極３１に対する反対電極と位置づけて電解加工を行ったときでも、加工用電極３１における発熱や偏流の発生が抑制される。 - 特許庁

Sound pressure of impulse waves w to be generated by a missile 2 (bullet) emitted from a bombardment object 1 is detected in the three-dimensional direction by an impulse wave detection means (acoustic sensor 3), and a sound pressure detection signal u is output.例文帳に追加

衝撃波検出手段（音響センサ３）により、砲撃体１から発射された飛翔体２（銃弾）が発生する衝撃波ｗの音圧が３次元方向で検出され、音圧検出信号ｕが出力される。 - 特許庁

The ion implantation method of implanting ion by irradiating ion beams IB on a semiconductor substrate W through a deflector consists of a process of slanting a beam irradiation face 14a of the deflector 14 against the semiconductor substrate in a stationary state, and a process of irradiating the ion beams IB from the slanted beam irradiation face 14a and implanting ion into the semiconductor substrate W.例文帳に追加

イオンビームＩＢを偏向器１４を介して半導体基板Ｗに照射しイオンを注入するイオン注入方法において、静止させた半導体基板Ｗに対して偏向器１４のビーム出射面１４ａを傾斜させる工程と、傾斜させたビーム出射面１４ａからイオンビームＩＢを照射し、半導体基板Ｗへイオンを注入する工程とを有する。 - 特許庁

The method for measuring the flow an underground water comprises photographing a tracer T in an underground water W with a plurality of photographing means 5, 6 at the same time or several times at required time intervals, calculating the three-dimensional coordinates of the tracer T each time, according to each photographed image and finding the flow rate and direction of the underground water W from each of the three-dimensional coordinates.例文帳に追加

本発明地下水流測定方法は、地下水Ｗ中のトレーサーＴを、複数の撮影手段５，６により同時にかつ所要の時間間隔で複数回撮影し、それら各回毎の撮影画像に基づいて、トレーサーＴの各回毎の３次元座標を算出し、それら各３次元座標から地下水Ｗの流速と流向を求めることを内容としている。 - 特許庁

An electroplating soln. is then supplied by the control part from an electroplating soln. feed line 3 to the surface Ws of the substrate W on which the seed layer is formed and held by the mechanism 10, power is supplied between a first electrode 131 and a second electrode 126, and an electroplating layer is formed on the surface Ws of the substrate W in a specified thickness.例文帳に追加

基板Ｗが基板保持機構１０に保持された状態で、制御部は、次に、シード層が形成された基板Ｗの処理面Ｗｓに電解メッキ液供給系３から電解メッキ液を供給するとともに、第１電極１３１と第２電極１２６との間に給電して、基板Ｗの処理面Ｗｓに電解メッキで所定の厚さのメッキ層を形成する。 - 特許庁

The housing made of resin is obtained from a polyphenylene sulfide resin composition having thermal conductivity in the thickness direction of 4 W/m×K or more measured by laser flash method, preferably from a polyphenylene sulfide resin composition comprising polyphenylene sulfide, carbon fibers having thermal conductivity of 100 W/m×K or more, and metallic silicon powders, and is suitably used especially for portable apparatuses.例文帳に追加

レーザーフラッシュ法により測定した厚み方向の熱伝導率４Ｗ／ｍ・Ｋ以上のポリフェニレンスルフィド樹脂組成物、好ましくはポリフェニレンスルフィド、１００Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する炭素繊維及び金属ケイ素粉末からなるポリフェニレンスルフィド樹脂組成物よりなり、特に携帯機器用として好ましく用いることが出来る樹脂製筐体。 - 特許庁

The quenching apparatus includes: an oil-vessel 1 for storing quenching oil 2; and a plurality of injecting unit 3 having spouting holes 7 set at the center of this workpiece W so as to face the outer peripheral surface 9 of the workpiece W dipped into the quenching oil 2 in the oil vessel 1 and injecting the quenching oil 2 to this outer peripheral surface 9 from the spouting holes 7.例文帳に追加

焼入装置は、焼入油２を貯留する油槽１と、この油槽１内の焼入油２に浸漬したワークＷの外周面９に対向するように当該ワークＷを中心として配置されている噴出口７を有し当該噴出口７から当該外周面９に対して焼入油２を噴射する複数の噴射手段３とを備えている。 - 特許庁

Control is so performed as to start discharging washing water from the inlet nozzle 16, high-pressure nozzle 18 and forcible discharge nozzle 100 before the substrate W is carried in the substitution washing area 201, and to stop discharging the washing water from the inlet nozzle 16, high-pressure nozzle 18 and forcible discharge nozzle 100 after the substrate W is carried out of the substitution washing area 201.例文帳に追加

置換水洗領域２０１内へ基板Ｗが搬入される前に入口ノズル１６、高圧ノズル１８および強制排出ノズル１００からの洗浄水の吐出を開始し、置換水洗領域２０１内から基板Ｗが搬出された後に入口ノズル１６、高圧ノズル１８および強制排出ノズル１００からの洗浄水の吐出を停止するように制御する。 - 特許庁

The displacement sensor includes a control unit 16 for measuring an object W, based on established setting items (the number of feedback times and a dividing condition), and outputting a measured value signal of the object W, based on the light signal received from a two-dimensional CCD 14; and an output period setting unit 22 for setting the output period in which the measured value signal is outputted from a measuring means.例文帳に追加

設定された設定項目（フィードバック回数及び分割条件）に基づいて対象物Ｗの測定を行い、二次元ＣＣＤ１４からの受光信号に基づいて対象物Ｗの測定値信号を出力する制御部１６と、測定手段から測定値信号が出力される出力周期を設定するための出力周期設定部２２とを備える。 - 特許庁

In aligning works W conveyed at random by the robot and carrying out the same, one robot 10 controlled by one robot controller 40 is provided with plural arms 12, 13, and each arm 12 (13) is controlled independently of the other arm 13 (12) by the robot controller 40 to transfer the work W from the conveyance position to the carry-out position.例文帳に追加

ロボット１０を用いてランダムに搬送されてくるワークＷを整列させて搬出する際に、１つのロボットコントローラ４０により制御される１台のロボット１０に複数のアーム１２，１３を備え、前記各アーム１２（１３）を他のアーム１３（１２）とは独立させてロボットコントローラ４０に制御させてワークＷを搬送位置から搬出位置に移送するものである。 - 特許庁

The ion generator is composed of an arc chamber 11, two thermion sources 3, 5 for supplying thermion in the arc chamber, a filament power source 7, and wiring w serially connecting two thermion sources 3, 5 with the filament power source 7, and the direction of the current flowing from the filament power source 7 to the wiring w can be switched with a prescribed timing.例文帳に追加

アークチャンバー１１と、このアークチャンバー１１内へ熱電子を放出するための２つの熱電子発生源３，５と、フィラメント電源７と、２つの熱電子発生源３，５を互いに直列状態でフィラメント電源７に接続する配線ｗとを備え、フィラメント電源７から配線ｗに流される電流の向きは所定のタイミングで切り替えられる構成となっている。 - 特許庁

An electrolytic plating equipment 10 takes a color picture of the plated surface of a semiconductor wafer W during cleaning with a CCD camera 27, when the semiconductor wafer W is washed using a washing nozzle 19 after electrolytic plating in an electrolytic plating process, and controls a solid support 18 and a cleaning mechanism 19 independently based on color- picture signals from the CCD camera 27.例文帳に追加

本発明の電解メッキ装置１０は、電解メッキ工程において、電解メッキ後の半導体ウエハＷを洗浄ノズル１９を用いて洗浄する際に、洗浄中の半導体ウエハＷのメッキ面の状態をＣＣＤカメラ２７を用いてカラー画像で撮像し、ＣＣＤカメラ２７からのカラー画像信号に基づいて保持体１８及び洗浄機構１９をそれぞれ制御する。 - 特許庁

When the reception quality measured by the reception quality measurement circuit 107 is lower than a threshold, a transmission antenna weight control circuit 108 outputs a stored transmission antenna weight, that is, a transmission antenna weight W" when the reception quality exceeds the threshold to multipliers 106_1 to 106N in place of a transmission antenna weight W' outputted from an antenna weight conversion circuit 105.例文帳に追加

送信アンテナウェイト制御回路１０８は、受信品質測定回路１０７により測定された受信品質がある閾値を下回った場合、アンテナウェイト変換回路１０５の出力の送信アンテナウェイトＷ’の代わりに、記憶されている送信アンテナウェイトつまり、最後に受信品質がしきい値を越えた時の送信アンテナウェイトＷ”を乗算器１０６_1〜１０６_Nに出力する。 - 特許庁

Thereby, even if the temperature detected by a temperature detector 14 is a temperature lower than a target temperature -30°C, a relatively low power of 1,000 W is supplied to an induction heating coil 13, and a rapid rise of oil temperature in a pan 6 such as when a high power of 1,800 W is supplied to the induction heating coil 13 can be avoided.例文帳に追加

これにより温度検出器１４によって検出される温度が目標温度−３０℃よりも低い温度であっても１０００Ｗという比較的低い電力を誘導加熱用コイル１３に供給するので、１８００Ｗという高い電力を誘導加熱用コイル１３に供給したときのような鍋６内の油温の急激な上昇を回避することができる。 - 特許庁

The throw-away diaper 1 is constituted by forming sealing zones W which are filmed by crushing the same like wires with heat sealing, etc., in rising segments 5c of rising belt materials 5 formed of nonwoven fabrics made of water repellent synthetic resin fibers, by which the crushed wire-like parts (a) of the sealing ones W are filmed and are made partially liquid impermeable and rigidity is enhanced.例文帳に追加

使い捨ておむつ１において、撥水性の合成樹脂繊維製不織布で成形した立ち上がり帯材５の立ち上がり部分５ｃに、熱シール等で線状に潰すことによりフィルム化させたシール帯域Ｗを形成することにより、このシール帯域Ｗは、潰された線状部ａがフィルム化することで、部分的に不透液性になるとともに剛性が高まるようになる。 - 特許庁

At least one of the tools is mounted on a tool turning unit 17 fitted to the periphery of the turret 16, and the tool turning unit 17 turns the knife edge 65a of the tool 65 on a circular-arc locus in the state where the tool 65 keeps an attitude of directing substantially to the center of the spherical surface of the work W to machine the work W to be spherical.例文帳に追加

前記工具の少なくともに１つは、タレット１６の周囲に取り付けた工具旋回ユニット１７に装着されたものであり、この工具旋回ユニット１７は、前記ワークＷを球面状に加工するために、工具６５がほぼワークＷの球面中心に向かう姿勢を維持した状態で工具６５の刃先６５ａを円弧軌跡上で旋回させる。 - 特許庁

The composition for intranasal administration to a patient contains a therapeutically effective amount of 5-benzoyl-2,3-dihydro-1H-pyrrolidine-1-carboxylic acid, its optically active configuration, its racemic mixture or its pharmaceutically acceptable salt in combination with a pharmaceutically acceptable diluent and the local anesthetic of 4% (w/v) to 10% (w/v).例文帳に追加

患者へ鼻腔投与するための組成物であって、該組成物は、治療上有効な量の５−ベンゾイル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロリジン−１−カルボン酸、その光学活性形態、ラセミ混合物、もしくは薬学的に受容可能なその塩を、薬学的に受容可能な希釈剤および４％ ｗ／ｖ〜１０％(ｗ／ｖ）の局所麻酔薬と組み合わせて含む、組成物。 - 特許庁