「atmospheric pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, an extremely uniform plasma (surface wave plasma) is generated in a micro wave containment chamber M, making it easier to maintain the plasma inside the bottle B even under the atmospheric pressure, whereby the supplied source gas is efficiently plasmatized to uniformly treat the bottle inner surface BI, resulting in an efficient and stable film formation.例文帳に追加

よって、マイクロ波閉じ込め室Ｍには、極めて均一なプラズマ（表面波プラズマ）が生成され、大気圧状態でもボトルＢの内部にプラズマを維持しやすくなり、供給された原料ガスを効率よくプラズマ化してボトル内面ＢＩを均一に処理し、成膜等が効率よくかつ安定して行われることになる。 - 特許庁

A vacuum envelope 10 of the image display device is provided with a back face substrate 12 and a front face substrate 11 opposed to each other, side walls 18 arranged between the back face substrate and the front face substrate, and a plurality of support members 14 arranged between the back face substrate and the front face substrate supporting atmospheric pressure load acting on there substrates.例文帳に追加

画像表示装置の真空外囲器１０は、対向配置された背面基板１２および前面基板１１と、背面基板および前面基板の間に設けられた側壁１８と、背面基板および前面基板の間に設けられ、これらの基板に作用する大気圧荷重を支持する複数の支持部材１４と、を有している。 - 特許庁

The optical film has a metal compound layer formed by atmospheric pressure plasma discharge treatment directly or through another layer on a cellulose ester film of which the modulus of elasticity when immersed in hot water of 60°C is 2.8 to 4.0 GPa and the moisture vapor transmission rate at 40°C and 90% RH is 20 to 850 g/(m^2 24 h).例文帳に追加

６０℃の温水に浸漬したときの弾性率が２．８〜４．０ＧＰａで、且つ４０℃、９０％ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ^２・２４ｈであるセルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を介して大気圧プラズマ放電処理により形成した金属化合物層を有することを特徴とする光学フィルム。 - 特許庁

In an enclosure 5 sealed by installing an outer frame 4 on the interval between a rear plate 2 and a face plate 3, separated in parallel, an electron emitter composed by arranging plural electron emitting elements 1, a fluorescent film 7 facing to the electron emitter, and an atmospheric pressure- resistant support member 21 for supporting the interval between both plates 2, 3 are installed.例文帳に追加

平行に離間させたリアプレート２とフェイスプレート３の隙間に外枠４を設けて封止した外囲器５内に、複数の電子放出素子１を配列した電子放射源と、当該電子放射源１と対向する蛍光膜７と、両プレート２，３の隙間の支持を行う耐大気圧支持部材２１とを設ける。 - 特許庁

The antireflective film has an antireflective layer formed of two or more layers on at least one surface of a base material; and a high-refractive-index layer of the layer is formed by a method of applying coating liquid in which a monomer or oligomer of metal alkoxide or its hydrolysate is dissolved and a low-refractive-index layer is formed by an atmospheric pressure plasma CVD method using nitrogen as discharge gas.例文帳に追加

基材上の少なくとも片面に、２層以上からなる反射防止層を有し、該層のうち高屈折率層が金属アルコキシドのモノマー、オリゴマー、あるいはその加水分解物を溶解した塗布液を塗工する方法によって形成され、かつ、低屈折率層が放電ガスに窒素を用いた大気圧プラズマＣＶＤ法で形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The high specific resistance silicon carbide sintered compact in which the content of nitrogen is 0.4 to 0.5 wt%, a part of the nitrogen is allowed to enter into solid solution in silicon carbide crystals, the balance is present on the grain boundaries of the silicon carbide crystals as boron nitride crystals, and specific resistance is ≥0.1 GΩ cm is obtained by an atmospheric pressure sintering process.例文帳に追加

常圧焼結法により、窒素含有量が０．４ｗｔ％以上０．５ｗｔ％以下であり、前記窒素の一部が炭化ケイ素結晶に固溶しており、残部が炭化ケイ素結晶粒界に窒化ホウ素結晶として存在し、かつ、比抵抗が０．１ＧΩ・ｃｍ以上である高比抵抗の炭化ケイ素焼結体を得る。 - 特許庁

In addition, by bringing the sample S close to the electron-permeable membrane (collodion membrane) 132, electrons R (and secondary electrons) reflected from the sample S by radiation of the electron beam B are detected by using an upper reflected electron detector 304 on the high vacuum side and a lower reflected electron detector 306 on the atmospheric-pressure side (and a secondary electron detector 302 on the high vacuum side).例文帳に追加

さらに、試料Ｓを電子透過膜（コロジオン膜）１３２に近づけて、電子線Ｂの照射による試料Ｓからの反射電子Ｒ（および二次電子）を、高真空側の上部反射電子検出器３０４と大気圧側の下部反射電子検出器３０６（ならびに高真空側の二次電子検出器３０２）を用いて検出する。 - 特許庁

The method for injection molding the thin-walled molding comprises the step of filling a mixture of the amorphous resin composition in a molten state with a carbon dioxide pressurized to an atmospheric pressure or more in a mold cavity regulated to a temperature lower by 20°C or more than the thermal deforming temperature of the resin, thereby obtaining the thin-walled molding.例文帳に追加

少なくとも最小肉厚が０．５ｍｍ以下である部分を有する非晶性樹脂組成物による薄肉成形品であって、かつ、溶融状態にある該非晶性樹脂組成物と大気圧以上に加圧された二酸化炭素の混合物を、該非晶性樹脂の熱変形温度より２０℃以上低い温度に調節された金型キャビティへ充填することにより得られるものであることを特徴とする薄肉成形品。 - 特許庁

It is possible to change the thermal treatment time based on the variation of the atmospheric pressure at least in the thermal treatment in the oxidizing atmosphere, and to set the thermal treatment time so as to nearly fix the sum of the thermal treatment time in the inert atmosphere and that in the oxidizing atmosphere in the process of the thermal treatment in the inert atmosphere.例文帳に追加

また、酸化雰囲気中での熱処理において、熱処理時間を、少なくとも大気圧の変動に基づいて変更し、不活性雰囲気中で熱処理する工程において熱処理時間を、不活性雰囲気中での熱処理時間と酸化雰囲気中での熱処理時間の和が略一定になるように設定してもよい。 - 特許庁

In this method of producing a carbonated inorganic cured body, wollastonite that has ≤1 μm of 10% cumulation diameter in the grain size volume distribution and ≥1 m2/g of nitrogen adsorption specific surface area is mixed with water, formed and the formed product is subjected to the carbonation treatment at 30-200°C under the conditions of the atmospheric pressure (0 MPa)-20 MPa.例文帳に追加

粒体粒度の体積分布において、累積１０％径が１μｍ以下、窒素吸着比表面積が１ｍ^2 ／ｇ以上であるウォラストナイトを、水と混合し、賦形した後に、温度３０〜２００℃、圧力が、大気圧（０ＭＰａ）〜２０ＭＰａの条件で炭酸化処理することを特徴とする無機炭酸化硬化体の製造方法。 - 特許庁

This particulate matter processing device is provided with a plasma processing device 10 for charging particulate matter in exhaust gas by atmospheric pressure plasma and a catalyst processing device 20 for inducing the charged particulate matter in the exhaust gas G2 fed into from the plasma processing device 10 into a catalyst layer 22 selectively by an applied electric field to decompose and process it by catalyst action in the catalyst layer 22.例文帳に追加

排ガス中の粒子状物質を大気圧プラズマにより荷電させるプラズマ処理装置１０と、プラズマ処理装置１０から送入される排ガスＧ２中の荷電した粒子状物質を、印加電界により選択的に触媒層２２に誘導して、触媒層２２の触媒作用によって分解処理する触媒処理装置２０を備える。 - 特許庁

In the case of a capillary lysimeter method, the infiltration chamber 24 is set to an atmospheric pressure, and water is collected through a rod type capillary part 57b.例文帳に追加

前記試料室と第１及び第２浸透室との間に浸透性を有したポ−ラスプレ−トとキャピラリ−を装着し、土壌中に埋設させたテンシオメ−タに接続してその測定値を表示するコンパレ−タ、該テンションメ−タおよび圧力センサ−との偏差およびパラメ−タを表示する表示部、前記真空ポンプ夫々電気的に接続する。 - 特許庁

In this manner while preventing small holes and small gaps between fibers from collapsing to a large extent, the ink absorbing body 160 can exert an enhanced holding force, and therefore even if a multi-functional device 1 is further downsized, ink leaking out of the atmospheric pressure introducing port 193 can be positively absorbed by the ink absorbing body 160.例文帳に追加

したがって、インク吸収体１６０の小さな孔や繊維間の小さな隙間が大きく潰れてしまうことを防止しつつ、保持力を高めることができるので、多機能装置１の更なる小型化を図った場合においても、大気圧導入口１９３から漏れ出たインクをインク吸収体１６０にて確実に吸収させることができる。 - 特許庁

An atmospheric pressure introduction opening 10 opening to the outside is made in the surface of a case 1 and fixed with a water repellent filter 12 for blocking passage of dust and water while allowing air flow such that the filter surface is oriented vertically during use of the sensor.例文帳に追加

ケース１の表面に外部に開口する大気圧を導入するための大気圧導入口１０を形成するとともに、空気の流れを許容しつつ塵埃や水などの通過を阻止する撥水フィルタ１２をこの大気圧導入口１０に取り付け、更に、そのフィルタ面をセンサの使用時にて天地方向に沿った向きとなるように配置する。 - 特許庁

A housing formed of a resin composition whose compressed creep volume is 8% or less at the time of loading the surface pressure of 80 MPa for 168 hours under the atmospheric temperature of 80°C has a sufficient fixing power with the other member fixed with the press fitting force, for example, the bearing sleeve press-fitted into the housing inner periphery after using for a product life equivalent period.例文帳に追加

８０℃の雰囲気温度で８０ＭＰａの面圧を１６８時間負荷した際の圧縮クリープ量が８％以下である樹脂組成物で形成されたハウジングは、製品寿命相当期間使用した後も、圧入力を伴って固定された他部材、例えば、ハウジング内周に圧入された軸受スリーブと十分な固定力を有する。 - 特許庁

The manufacturing method of a membrane electrode assembly is constituted of an aromatic hydrocarbon group polymer electrolyte membrane, and anode and a cathode includes a process in which the anode and/or the cathode are made to contact with a solution containing an organic solvent, with a boiling point 70°C or higher under atmospheric pressure, and an acid in a temperature 70°C or higher and lower than the boiling point of the organic solvent.例文帳に追加

芳香族炭化水素系高分子電解質膜とアノードとカソードからなる膜電極複合体の製造方法であって、アノードおよび／またはカソードを、大気圧の沸点が７０℃以上の有機溶媒と酸を含む溶液に、７０℃以上、該有機溶媒の沸点以下の温度で接触させることで解決できる。 - 特許庁

Under a nearly atmospheric pressure condition, the microwave and plasma generation gas are made to pass through the slit 42 and an electric field of the microwave is concentrated to form a high electric field in the vicinity of the slit 42, and the plasma generation gas is ionized to generate plasma P, and by the plasma P, a treatment object surface 800 of a treatment object 80 is applied a prescribed treatment.例文帳に追加

略大気圧条件下において、マイクロ波とプラズマ生成用ガスとをスリット４２に通過させることによりマイクロ波の電界を集中させスリット４２付近に高電界を形成し、プラズマ生成用ガスを電離させプラズマＰを生成し、プラズマＰにより処理対象物８０の処理対象面８００に所定の処理を施す。 - 特許庁

The stuffed toy is placed in a synthetic resin internal bag, and sealed under the vacuum condition, or tightly sealed, and then, the bag is evacuated, and the stuffed toy sealed in the internal bag is flattened by the atmospheric pressure, and placed in an external case such as an envelope, a box or a tote bag formed of a cardboard and a plastic container to form the packaged body.例文帳に追加

ぬいぐるみ玩具を合成樹脂製の内袋に入れて、真空雰囲気下で密閉するか、あるいは密閉したあと袋内の空気を脱気することにより、内袋に封入したぬいぐるみ玩具を大気圧により偏平に押し潰し、これを封筒、厚紙製の箱や手提げ袋、プラスチック容器などの外ケースに入れて包装体とする。 - 特許庁

In a method for producing the cellulose acylate film in which the cellulose acylate is dissolved in a mixed solvent comprising solvents substantially free of chlorine, and the film is produced from the solution, the mixed solvent containing a solvent the boiling point under the atmospheric pressure of which is at least 110°C is used, and the surface temperature of the film after being peeled off is increased to 110°C or higher.例文帳に追加

セルロースアシレートを実質的に非塩素系溶剤から構成される混合溶剤に溶解後、製膜するセルロースアシレートフイルムの製造方法において、少なくとも常圧での沸点が１１０℃以上の高沸点溶剤を含有する混合溶剤を使用し、剥ぎ取り後のセルロースアシレートフイルムの膜面温度を１１０℃以上に上昇させる。 - 特許庁

The lighting system comprises a bag-like membrane structure 2 formed in a soft heat resistant sheet capable of light dispersion transmission, a lighting lamp 4 supported and arranged by an illumination support constitution body 3 in the inside of the membrane structure 2, and the blower 5 projecting and shape holding the membrane structure 2 by maintaining the inside of the membrane structure 2 to a constant atmospheric pressure state.例文帳に追加

柔軟で光分散透過可能な耐熱性シートで形成した袋状の膜構造体２と、該膜構造体２の内部に照明支持構成体３によって支持配置した照明灯４と、膜構造体２の内部を一定の気圧状態に維持することで膜構造体２を膨出保形するための送風機５とを備えて成る。 - 特許庁

In an ionization chamber 1 which has an ambient atmospheric pressure, toward a region in which various kinds of clusters exist (matrix alone, or aggregate of analytes containing matrices) discharged from the sample 3 by irradiation of the laser beam 7, the laser beam 33 which is emitted from another laser beam 30 and passes through a reflecting mirror 31 and a condensing lens 32 is irradiated.例文帳に追加

大気圧雰囲気であるイオン化室１内において、レーザ光７の照射によって試料３から放出された各種のクラスタ（マトリックスのみ、或いはアナライトを含むマトリックスの集合体）が存在する領域に向けて、別のレーザ光３０から発し、反射鏡３１、集光レンズ３２を経たレーザ光３３を照射する。 - 特許庁

The atmospheric pressure discharge surface treatment device 1, carrying out surface treatment on an object for treatment such as a glass member with the use of an active species such as an OH radical, is provided with a blower 7 blowing humidified gas 12 with moisture on the surface of the object for treatment 10, and a high-voltage electrode 2 generating discharge plasma 11.例文帳に追加

例えばＯＨラジカルなどの活性種を使用して、ガラス部材などの処理対象物１０に対する表面処理を行なう大気圧放電表面処理装置１において、水分を含む多湿化ガス１２を処理対象物１０の表面に吹き付けるブロア７及び放電プラズマ１１を発生する高電圧電極２を有する大気圧放電表面処理装置である。 - 特許庁

The thermal treatment time may be changed based on at least the variation of the atmospheric pressure in the thermal treatment in the oxidizing atmosphere, and in the step of the thermal treatment in the inert atmosphere the thermal treatment time may be set so that the sum of the thermal treatment time in the inert atmosphere and that in the oxidizing atmosphere is nearly constant.例文帳に追加

また、酸化雰囲気中での熱処理において、熱処理時間を、少なくとも大気圧の変動に基づいて変更し、不活性雰囲気中で熱処理する工程において熱処理時間を、不活性雰囲気中での熱処理時間と酸化雰囲気中での熱処理時間の和が略一定になるように設定してもよい。 - 特許庁

This dehydrogenation treatment is characterized by including processes of: forming a hydrogenated amorphous silicon film on a non-heat-resistant substrate; and eliminating bonded hydrogen from the hydrogenated amorphous silicon film by irradiating the hydrogenated amorphous silicon film with an atmospheric-pressure thermal plasma torch for a period of 1-500 ms to heat the surface of the substrate to 1,000-2,000°C.例文帳に追加

非耐熱性の基板上に水素化非晶質シリコン膜を形成する工程、および、前記水素化非晶質シリコン膜に大気圧熱プラズマトーチを１ミリ秒以上５００ミリ秒以下の時間照射して、前記基板の表面を１０００℃以上２０００℃以下に加熱することにより、前記水素化非晶質シリコン膜から結合水素を除去する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the adhesive optical retardation film by laminating the adhesive layer to at least one surface of the optical retardation film obtained by stretching a norbornene-based film, is characterized by making the surface free energy of the optical retardation film surface to which the adhesive layer is to be laminated 60 mN/m or higher with plasma irradiation under atmospheric pressure and subsequently laminating the adhesive layer thereto.例文帳に追加

ノルボルネンを延伸して得られる位相差板の少なくとも片面に粘着剤層を積層して粘着型位相差板を製造する方法において、粘着剤層を積層する前記位相差板の表面を、大気圧下で、プラズマ照射によって表面自由エネルギー６０ｍＮ／ｍ以上とした後に粘着剤層を積層することを特徴とする粘着型位相差板の製造方法。 - 特許庁

Since a labyrinth structure 30 is provided, an air current AF due to the difference between atmospheric pressure at the upper surface side of the mask M and that at the lower surface side causes resistance when passing the narrow gap between labyrinth plates 31, 32, thus suppressing a flow and restraining the scattering of dust, or the like onto the mask M and a substrate S.例文帳に追加

ラビリンス構造３０が設けられているので、マスクＭの上面側の気圧と下面側の気圧との差による気流ＡＦは、ラビリンス板３１，３２の間の狭い隙間を通過する際に抵抗が生じるので、流れが抑制され、マスクＭや基板Ｓ上に塵埃等を飛散させることを抑えることができる。 - 特許庁

In the process for manufacturing microchips, which have a running route structure composed of a channel and a port, the bonding of substrates and confronting members is carried out after improving the surface quality through the radiation of plasma or UV light onto the bonding surfaces of the substrates or the bonding surfaces of both the substrates and the confronting members under an atmospheric pressure.例文帳に追加

基板と対面部材とを貼り合わせることにより、チャネル及びポートからなる流路構造を有するマイクロチップを製造する方法において、基板の貼り合わせ面又は基板と対面部材の両方の貼り合わせ面に、大気圧下でプラズマ又はＵＶ光を照射して表面改質処理してから前記基板と対面部材を貼り合わせることを特徴とするマイクロチップの製造方法。 - 特許庁

A correction coefficient KFCPAE is computed based on the stop estimated value PAESTP or the high load operation estimated value PAEHL as well as the fuel cut operation estimated value PAEFC, and an estimated atmospheric pressure PAEST is computed based on the computed correction coefficient KFCPAE and the fuel cut operation estimated value PAEFC during the fuel cut operation.例文帳に追加

停止推定値ＰＡＥＳＴＰまたは高負荷運転推定値ＰＡＥＨＬ、及び燃料カット運転推定値ＰＡＥＦＣに基づいて補正係数ＫＦＣＰＡＥが算出され、燃料カット運転中においては算出された補正係数ＫＦＣＰＡＥ及び燃料カット運転推定値ＰＡＥＦＣに基づいて推定大気圧ＰＡＥＳＴが算出される。 - 特許庁

A vacuum forming machine 100 has a chamber 20 for accommodating a substrate 16 and the decorative sheet 10, a frame 30 for surrounding the substrate 16 accommodated in the chamber 20, a decompression device 40 for decompressing the chamber 20, and a communication path 50 which makes the inside of the frame 30 communicate with external space of atmospheric pressure.例文帳に追加

本発明による真空成形機１００は、基材１６および装飾用シート１０を収容するチャンバー２０と、チャンバー２０内に収容された基材１６を囲む枠体３０と、チャンバー２０内を減圧する減圧装置４０と、枠体３０の内側と大気圧にある外部空間とを連通させる連通路５０とを備える。 - 特許庁

The control part 104 switches the mode of the ventilation device 102 to control the ventilation device to operate in the pertinent mode, and when the change of a detection value detected by an atmospheric pressure sensor 103 exceeds a preset allowable value in the security ventilation mode, the control part 104 transmits security alert information to a portable terminal 110.例文帳に追加

制御部１０４は、換気装置１０２をモード切換して当該モードで動作するように制御すると共に、セキュリティ換気モード時に、気圧センサ１０３により検出される検出値の変化が予め設定された許容値を超えた場合には、携帯端末１１０に対してセキュリティアラート情報を送信する。 - 特許庁

In the reticle chamber 111 of this aligner 101, the bending force caused by the deformation of a main body 103 when the atmospheric pressure is reduced can be relieved through the spherical bearings of three legs 115a provided on the bottom surface side of a reticle stool 115 and, in addition, can be adjusted by actuating an adjusting mechanism 115X.例文帳に追加

本発明に係る露光装置１０１は、レチクルチャンバ１１１内において、雰囲気減圧時のメインボディ１０３の変形に伴う曲げ力は、レチクル定盤１１５下面側３箇所の脚部１１５ａの球面軸受けで逃がすことができ、さらに調整機構１１５Ｘを作動させて調整することができる。 - 特許庁

In a method in which a SiC single crystal is grown on the substrate surface by contacting the SiC single crystal substrate with a melt containing a Si-containing raw material, a gas containing hydrocarbons is supplied to the melt under an atmospheric or elevated pressure, and the temperature of the contact area of the substrate and the melt is kept lower than that of the melt.例文帳に追加

Ｓｉを含む原料を融解した融液にＳｉＣ単結晶基板を接触させ基板上にＳｉＣ単結晶を成長させる方法において、大気圧下または加圧下で炭化水素を含むガスを前記融液に供給し、かつ融液の温度と比べて基板と融液との接触部を低温にする。 - 特許庁

An n-type semiconductor coating liquid including a binder resin, an electron acceptable inorganic material, and a solvent and a p-type semiconductor coating liquid including a binder resin, an electron donative inorganic material, and a solvent are successively applied to one electrode under an atmospheric pressure at a normal temperature and are dried to form an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer.例文帳に追加

バインダー樹脂、電子受容性無機物及び溶剤を含むｎ型半導体塗布液と、バインダー樹脂、電子供与性有機物及び溶剤を含むｐ型半導体塗布液とを、大気圧及び常温の環境下において、一方の電極の上に、順次それぞれ、塗布、乾燥させることによって、ｎ型半導体層及びｐ型半導体層を形成する。 - 特許庁

The silicon carbide sintered compact has preferably a mode obtained by sintering a mixture containing at least silicon carbide powder and a nonmetallic sintering auxiliary to give a sintered compact and oxidizing the sintered compact in an atmosphere of atmospheric pressure, a mode with ≥106 Ω.cm volume resistivity of surface, and a mode with resistance to at least 100 V voltage.例文帳に追加

前記炭化ケイ素焼結体が、炭化ケイ素粉末と非金属系焼結助剤とを少なくとも含有する混合物を焼結してなる焼結体を大気圧雰囲気下で酸化させて得られる態様、表面の体積抵抗率が１０^6Ω・ｃｍ以上である態様、小さくとも１００Ｖの電圧に対して耐性を有する態様、等が好ましい。 - 特許庁

A piezoelectric element piece used for this application has a water-repellent treated film formed by a spray or dipping method using a fluoride paint, or formed by a reduced or atmospheric pressure plasma processing method using a gas containing fluorine or fluorine compound so as to surround an adhesive surface fixed to a plug.例文帳に追加

プラグに固定される接着面を囲むように、フッ化物系塗料をスプレー法またはディッピング法により撥水処理膜が形成、あるいは、フッ素またはフッ素化合物を含んだガスを用いて減圧プラズマ処理法または大気圧プラズマ処理法により撥水処理膜が形成された圧電素子片を用いる。 - 特許庁

To provide a developing device, which improves the efficiency of development for an electrostatic latent image on an image carrier formed of toner while being little affected by atmospheric pressure change and preventing contamination of a peripheral area due to toner scattering, for forming a uniform and high quality toner image on the image carrier over the long time period.例文帳に追加

気圧変化の影響が少なく、かつトナー飛散による周辺領域の汚染が防止された状態で、トナーによる像担持体上の静電潜像に対する現像効率が向上するとともに、長期間にわたって均一で高品位なトナー像を像担持体上に形成することができる現像装置を提供する。 - 特許庁

This case component is obtained by mixing the thermoplastic resin composition in a molten state with carbon dioxide pressurized more than the atmospheric pressure, and by charging the mixture into the mold cavity the whole area or an optionally selected area of which is coated with at least one layer of a heat insulating layer.例文帳に追加

溶融状態にある該熱可塑性樹脂組成物と大気圧以上に加圧された二酸化炭素を混合させた後、キャビティの全体、または任意に選択された部分が、少なくとも１層の断熱層により被覆されている金型キャビティへ充填することにより得られるものであることを特徴とする筐体部品。 - 特許庁

A base target value IGTHCMNDK is calculated according to engine speed Ne, a throttle valve opening TH and an intake valve operation phase CAIN, and a target value IGTHCMD is calculated by multiplying the base target value IGTHCMDK by a correction coefficient KIGTHPA according to atmospheric pressure PA (S21-S23).例文帳に追加

エンジン回転数ＮＥ、スロットル弁開度ＴＨ及び吸気弁作動位相ＣＡＩＮに応じて基本目標値ＩＧＴＨＣＭＤＫを算出し、大気圧ＰＡに応じた補正係数ＫＩＧＴＨＰＡを基本目標値ＩＧＴＨＣＭＤＫに乗算することにより、目標値ＩＧＴＨＣＭＤを算出する（Ｓ２１〜Ｓ２３）。 - 特許庁

To provide a turbine expander provided with a variable nozzle mechanism in which an actuator and most parts of a nozzle drive mechanism can be installed in a room temperature range at an atmospheric pressure, and in which input heat can be restricted to the minimum in driving a variable nozzle of an expansion turbine, to lead very low temperature gaseous helium to adiabatic expansion.例文帳に追加

アクチュエータとノズル駆動機構の大部分を大気圧下の常温領域に設置することができ、かつ入熱を極微少に抑えて膨張タービンの可変ノズルを駆動することができ、これにより、高い断熱効率で、極低温のヘリウムガスを断熱膨張させることができる可変ノズル機構付きタービン膨張機を提供する。 - 特許庁

The antireflection film is manufactured by forming an antireflection layer by exposing, to a reactive gas converted into a plasma state using an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus, the surface having the higher additive concentration of a cellulose ester film containing organic solvent-soluble additives at least one of which has a concentration gradient in the thickness direction.例文帳に追加

有機溶媒可溶性の添加剤を含有し、該添加剤の少なくとも１種が厚さ方向に濃度勾配を有するセルロースエステルフィルムの該添加剤濃度の高い側の面に、大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、プラズマ状態とした反応ガスに、該セルロースエステルフィルム面をさらすことによって反射防止層を形成させて反射防止フィルムを製造する。 - 特許庁

In an epichlorohydrin rubber-fluorocarbon resin laminate, the surface of the fluorocarbon resin layer which is surface-treated by an atmospheric pressure plasma treatment method and the epichlorohydrin rubber composition layer are vulcanized/bonded.例文帳に追加

大気圧プラズマ処理法により表面処理されたフッ素樹脂層の処理面とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが加硫接着されてなるエピクロルヒドリン系ゴム−フッ素樹脂積層体において、エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、２，３−ジメルカプトキノキサリンまたは６−メチルキノキサリン−２，３−ジチオカーボネート等のその誘導体を加硫剤として含有する積層体。 - 特許庁

In the method, a solid dielectric is fitted to at least one of facing electrodes of a pair under atmospheric pressure in an atmosphere containing at least 4 vol.% of oxygen, and the glass substrate is brought into contact with discharge plasma generated by applying a pulse electric field between the electrodes.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、酸素を４体積％以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。 - 特許庁

To provide an apparatus for analyzing trace amount of impurities in gases, capable of efficiently measuring trace amounts of various impurities in various high-purity gases, by integrally combining an atmospheric pressure ionization mass spectrometer for measuring trace amounts of impurities at ppb to sub-ppb levels in the various high-purity gases with a gas chromatograph.例文帳に追加

各種高純度ガス中のｐｐｂ〜サブｐｐｂレベルの微量不純物の測定に有効な大気圧イオン化質量分析計とガスクロマトグラフとを一体的に結合させることにより、各種高純度ガス中の各種微量不純物を効率よく測定することができるガス中の微量不純物の分析装置を提供する。 - 特許庁

To improve productivity by providing both a production method in small quantity and large variety and a mass production method, which can produce a porous semiconductor with unidirectional porosities comparatively safely and easily under a gas atmosphere higher than atmospheric pressure, by use of a general casting apparatus with a mold, a continuous casting apparatus and a special floating zone melting apparatus.例文帳に追加

鋳型を用いる一般的な鋳造装置、連続鋳造装置及び特殊な浮遊帯溶融装置を用い、大気圧以上のガス雰囲気下において比較的安全ならびに容易に一方向性の気孔を有する多孔質半導体の多種少量の作製方法ならびに大量製造方法を提供して、生産性の向上を計る。 - 特許庁

The atmospheric pressure plasma irradiation section 15 comprises a discharge tube 33 for spouting out primary plasma 46 composed of induction coupling type plasma of inert gas, and a mixer 41 for generating secondary plasma 47 composed of mixed gas resulting in plasma via a collision between a mixed gas region and the primary plasma 46, the mixed gas region including second inert gas and reactive gas.例文帳に追加

大気圧プラズマ照射部１５は、不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマ４６を吹き出す放電管３３と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域と一次プラズマ４６が衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ４７を発生する混合器４１を備える。 - 特許庁