「controlling process」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an optical recording medium capable of controlling the optical constant of a protective layer, the film thickness and the optical constant of a recording layer or the like by frequently evaluating the variation of the film thickness and optical characteristics during manufacture and rapidly and inexpensively feeding back the evaluation results to a manufacturing process.例文帳に追加

製造時の膜厚および光学的特性の変動を頻繁に評価し、迅速かつ安価に製造プロセスへフィードバックすることにより保護層の光学定数、記録層の膜厚および光学定数などを管理できる光記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This invention relates to: a thermoplastic composition having as an impact resistance improver, rubber containing a graft polymer produced by an emulsion polymerization process and recovered by a special method for controlling and adjusting a pH value; use of the thermoplastic composition in production of a molded article; and the molded article obtained by molding.例文帳に追加

乳化重合プロセスで製造し且つｐＨ値を制御および調整する特殊な方法で回収したグラフトポリマーを含むゴムを耐衝撃性改良剤として有する熱可塑性組成物と、この熱可塑性組成物の成形品の製造での使用と、成形で得られる成形品である。 - 特許庁

In a process for controlling a power consumption level in the device, the device is operated at a complete-operation power level; a first standby time is counted; and a first standby time changer is changed in response to the detection of the use of the device before the completion of the first standby time.例文帳に追加

デバイス内の電力消費レベルをコントロールするためのプロセスであり、デバイスを完全動作電力レベルにおいて動作させ、第１待機時間をカウントし、第１待機時間の満了の前のデバイスの使用検出に応答して第１待機時間変更子を変更する。 - 特許庁

The controlling part rotates the substrate where the developer is supplied to make the film thickness of the developer supplied on the substrate thinner than that of the developer in a normal state of dripped liquid, and maintains the developer in a thin film state to be in almost the same size as that of the substrate (process of maintaining the thin film).例文帳に追加

制御部は、現像液が供給された基板を回転させて、基板上に現像液を液盛りした場合における通常時の現像液の膜厚より薄く、基板と略同じ大きさに引き伸ばされた薄膜状態で現像液を維持する（薄膜維持過程）。 - 特許庁

Moreover, the waveform data stored in the memory 26 and the memory 28 is read out under controlling of a processor 40 to process with a graphical engine 34 and, finally, by superposing the waveforms as a foreground and a background waveform so as to be mutually identifiable with different brightness and colors through a display logic 36 to indicate on a display 38.例文帳に追加

そして、これらのメモリ２６、２８にストレージされた波形データをプロセッサ４０の制御下で読み出してグラフィック・エンジン３４で処理し、ディスプレイ・ロジック３６を介して異なる輝度や色で相互に識別可能に前景及び背景波形として重ね合わせてディスプレイ３８に表示する。 - 特許庁

To provide such a process for the synthesis of a conductive polymer by a vapor-phase polymerization as is capable of shortening the manufacturing steps less than those of the conventional processes and reducing the manufacturing cost and, on the other hand, of giving the polymer an excellent thin film characteristics and freely controlling the electroconductivity thereof.例文帳に追加

従来の方法より製造過程を短縮すると共に、製造原価を節減することができる一方、薄膜特性が優秀であり、電気伝導度を自由に調節することができる気相重合法による伝導性分子の合成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce distribution cost by coping speedily with an abnormal condition such as missing of a product and erroneous delivery occurring in a distribution process of articles and controlling from an entrepreneur on the most upstream to an entrepreneur on the most downstream in one distribution system in the optimum condition.例文帳に追加

物品の流通過程で発生する欠品や誤配などの異常状態に迅速に対処し、最上流側の事業者から最下流側の事業者までを一つの流通システムとして最適な状態に管理可能にすることによって、流通コストの低減に寄与すること。 - 特許庁

To provide a microstructure in which a new microstructure having a frame shape and a semiconductor element for controlling the microstructure are integrally formed on a same insulative surface by a same process, and a manufacturing method thereof, by which cost reduction can be achieved.例文帳に追加

枠形状を有する新たな微小構造体と、当該微小構造体を制御する半導体素子とを同一絶縁表面上に同一工程で一体形成することで、より低コスト化を図ることが可能な微小構造体ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

CPU for controlling a display and VDP (Video Display Processor), in response to the operation of a start lever, develop and store material picture data of a character CH1 in an input buffer, execute a filtering process, and then transmits pixels of an alpha reference value or more alone as display object pixels.例文帳に追加

表示制御用ＣＰＵ及びＶＤＰは、スタートレバーの操作に応答して、キャラクタＣＨ１の素材画像データを入力バッファに展開記憶してフィルタリング処理を施した後、アルファ参照値以上の画素のみを表示対象画素としてフレームバッファに転送する。 - 特許庁

To provide a lamp system equipped with a stabilizer which can offer stabilized reference voltage without influenced by the fluctuation and temperature at resistor manufacturing process, and can prevent sharp deviation of the reference voltage at light adjusting control time, and light adjusting and on/off controlling are achieved with one terminal.例文帳に追加

抵抗製造工程におけるバラツキや温度に影響を受けずに安定した基準電圧を提供し、調光制御時の急激な基準電圧の変化を防止し、調光制御とオン／オフ制御を一個の端子で行える安定器を備えたランプシステムを提供する。 - 特許庁

In the molding process, by temperature-controlling a part for molding the contact end part 11a locally among the molding molds 21-23 for molding the first molding member 11, the resin crystallinity of the contact end part 11a is lowered as compared with other parts to increase the laser beam transmittance.例文帳に追加

上記成形工程で、第１成形部材１１を成形する成形型２１〜２３のうち当接端部１１ａを成形する部分を局所的に温度制御することにより、当接端部１１ａの樹脂結晶化度を他の部分より低くしてレーザ光透過率を増大させる。 - 特許庁

To provide an ink temperature adjusting mechanism which can shorten an idling time before recording process by controlling power consumption caused by heated ink and promptly keeping the ink at a predetermined temperature, an image recording device, an ink temperature adjusting method, and a program.例文帳に追加

インク加熱における電力消費量を抑えると共に、インクを速やかに所定温度に保つことにより、記録処理前の待ち時間を短縮することが可能な、インク温度調整機構、画像記録装置、その装置によるインク温度調整方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To improve welding quality and welding workability in a weld termination part by controlling droplet formation on a wire tip at the time of weld termination so as to stably make the droplet a proper size in the weld termination control process of consumable electrode type arc welding and consumable electrode type pulse arc welding.例文帳に追加

消耗電極式アーク溶接及び消耗電極式パルスアーク溶接の溶接終了制御方法において、溶接終了時のワイヤ先端の溶滴を安定して適正な大きさに制御し、溶接終了部の溶接品質と溶接作業性を向上すること。 - 特許庁

To provide a control device for a piezoelectric injector capable of more appropriately controlling discharge time when discharge process of a piezoelectric element is performed by repeating increase operation and decrease operation of current flowing through the piezoelectric element functioning as an actuator by chopper control.例文帳に追加

チョッパ制御により、アクチュエータとして機能するピエゾ素子を介して流れる電流量の増加操作及び減少操作を繰り返すことでピエゾ素子の放電処理を行なうに際し、その放電時間をより適切に制御することのできるピエゾインジェクタの制御装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process control system for semiconductor device calculates a recipe, indicative of the conditions for controlling the processing of a semiconductor production apparatus by an operation that uses manufacturing data acquired in the manufacturing process of semiconductor device and a prescribed algorithm, and transmits a previously prepared alternative recipe to a manufacturing management system for managing the semiconductor manufacturing apparatus, when the recipe cannot be derived.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセス制御システムは、半導体装置の製造プロセスにおいて取得する製造データと所定のアルゴリズムを用いて行う演算によって半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピの計算をし、前記レシピが導出できなかったときに、半導体製造装置の管理を行う製造管理システムに、予め用意した代替レシピを送信する。 - 特許庁

The plasma source assembly 160 includes: coils 109, 111 configured to inductively couple RF energy into the process chamber 110 to form and maintain plasma in the process chamber 110; a phase controller for controlling the relative phase of an RF current applied to each of the coils 109, 111; and an RF generator 118 coupled to the phase controller 104 and the coils 109, 111.例文帳に追加

プラズマソースアセンブリ１６０は、ＲＦエネルギーを処理チャンバ１１０に誘導結合することによっての処理チャンバ１１０内でプラズマを形成し及び維持するように構成されたコイル１０９，１１１と、コイル１０９，１１１のそれぞれに印加されるＲＦ電流の相対位相を制御するための位相コントローラと、位相コントローラ１０４及びコイル１０９，１１１に連結されたＲＦ発生器１１８を含む。 - 特許庁

This method of controlling the condenser cooling water includes a process for measuring the water level of the cooling water of the condensers 1, 2 by using a measuring means 10 suitable for vacuuming processing in a measurement pot 9 mounted outside of the condenser as a container communicated with the condensers 1, 2, and a process for using the measurement value as measurement variable to adjust a transporting amount of a speed-controlled cooling water pump 8.例文帳に追加

本発明のコンデンサ冷却水制御方法は、コンデンサ１，２の冷却水の水位を、真空引き処理に適した測定手段１０を用いて、コンデンサ１，２に連通する容器として当該コンデンサの外部に取り付けられた測定ポット９内で測定する過程と、この測定値を、速度制御される冷却水ポンプ８の輸送量を調節するための測定変数として使用する過程とを備えている。 - 特許庁

To make an image forming apparatus, which forms an image consisting of a fixed toner image on a recording medium by finally transferring and fixing the toner image on the recording medium through an image forming process including a process of imparting a charge to a charge receptor moving in a prescribed moving direction and controlling the movement of the toner by the imparted charge on the charge receptor, low in cost and small in size.例文帳に追加

所定の移動方向に移動する電荷受容体上に電荷を与えその電荷受容体上の電荷によってトナーの移動を制御するプロセスを含む画像形成プロセスを経て最終的に記録媒体上にトナー像を転写および定着することによりその記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置に関し、低コストで小型化する。 - 特許庁

The method for roasting coffee beans comprises a roasting process to be performed by throwing raw material coffee beans into a roasting device (for instance, a batch type or continuous flow type device of rotating drum type or boiler type, with a heating method either of hot air type, direct fire type, heating steam type or radiant heater), and controlling roasting temperature by watering in the middle of the roasting process.例文帳に追加

焙煎装置（例えば、回転ドラム式もしくは釜式のバッチ式または連続流動式の装置であり、加熱方式が熱風式、直火式、加熱蒸気式または輻射熱ヒーター式のもの）中に原料コーヒー豆を投入して焙煎工程を行なうコーヒー豆の焙煎方法において、焙煎工程の途中で、散水により焙煎温度を抑制することを特徴とする、コーヒー豆の焙煎方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and manufacturing device of inorganic microcrystals capable of easily controlling the deposition condition and growth condition of the inorganic microcrystals and optimizing the manufacture condition of the inorganic microcrystals as a result by facilitating temperature control in a process of depositing a crystal nucleus and a crystal growth process of growing the crystal on the basis of the crystal nucleus, etc., at the time of continuously manufacturing the inorganic microcrystals.例文帳に追加

無機微結晶を連続して製造する際に、結晶核の析出過程、結晶核を基に結晶成長させる結晶成長過程等における温度制御を容易にすることにより、無機微結晶の析出条件や成長条件を容易に制御することが可能であり、その結果、無機微結晶の製造条件の最適化が可能な無機微結晶の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method with which only the quality of semiconductor silicon wafers can be evaluated by properly setting conditions for manufacturing MOS capacitors and conditions of TDDB measurement, when MOS capacitors are formed on a semiconductor silicon wafer and to provide a method for controlling the process of their manufacturing, by feeding back the results obtained by the evaluating method to the manufacturing process of semiconductor silicon wafers.例文帳に追加

半導体シリコンウェーハにＭＯＳキャパシタを形成する際のＭＯＳキャパシタの作製条件およびＴＤＤＢ測定条件を適切に設定することにより、半導体シリコンウェーハの品質のみを評価することができる方法を提供し、この評価方法により得られた結果を半導体シリコンウェーハの製造工程にフィードバックしてその製造工程を管理する方法を提供する。 - 特許庁

This method for screening the skin barrier function recovery-promoting substance is provided by comprising a process of incubating caspase-14 and prosaposin in the presence of a candidate substance of the skin barrier function recovery-promoting substance, and a process of selecting the candidate substance as the skin barrier function recovery-promoting substance in the case that the decomposition from the prosaposin to saposin A is significantly promoted as compared with that of a controlling substance.例文帳に追加

本発明は、皮膚バリアー機能回復促進物質のスクリーニング方法であって、皮膚バリアー機能回復促進物質の候補物質の存在下、カスパーゼ−１４とプロサポシンとをインキュベートする工程、及び対照物質と比較してプロサポシンからサポシンＡへの分解が有意に促進されている場合に当該候補化合物を皮膚バリアー機能回復促進物質として選定する工程を含んで成る方法、を提供する。 - 特許庁

The method for controlling the elevator device provided with an elevator cage EC for transporting passengers between stories of a building, comprises a process for inputting travel requests of the passengers by the destination call control device and booking them as destination calls by the destination call control device, and a process for determining an instantaneous load in the elevator cage by a load measuring device at a predetermined time.例文帳に追加

建物の階の間で乗客を搬送するエレベータケージ（ＥＣ）を備えるエレベータ装置を制御する方法であって、乗客の移動要求が、行き先呼び出し制御装置によって入力されるとともに、行き先呼び出し制御装置により行き先呼び出しとして予約される工程と、エレベータケージ内における瞬間の積載量が所定の時間点で積載量測定装置によって決定される工程と、を含む方法。 - 特許庁

The apparatus for planning and controlling a manufacturing progress or particularly a printing process of a printing facility comprises a progress controller containing at least one data input unit, data output unit, a data processing facility and a memory unit connected to communicate with each other and with the printing facility and at least one plan table having a display member for displaying one or a plurality of printing process.例文帳に追加

本発明は、相互におよび印刷設備と通信をするように接続されている、少なくとも１つのデータ入力ユニットと、データ出力ユニットと、データ処理設備と、記憶ユニットとを含んでいる進行制御装置を備え、ならびに１つまたは複数の印刷プロセスを表示する表示部材を有する少なくとも１つの計画表を備えた、製造進行、特に印刷設備の印刷プロセスのを計画および制御する装置に関する。 - 特許庁

By evacuating the resin feed tank to a pressure below atmospheric pressure, employing cyclic compaction, and controlling the net compaction pressure, a resin infusion process, particularly a vacuum assisted resin transfer molding process is better controlled, and aerospace-grade fiber-reinforced resin composite having fiber volume fractions and tool-side surface finishes comparable to or exceeding those made using an autoclave is produced.例文帳に追加

樹脂供給タンクを大気圧よりも低い圧力まで排気し、循環圧縮を用い、かつ正味の成形圧力を制御することにとよって、樹脂注入プロセス、特に真空補助樹脂トランスファ成形プロセスをより適切に制御し、かつオートクレーブを用いて製造されたものに匹敵する、またはそれを超える繊維体積分率およびツール側表面の仕上げを有する航空宇宙級の繊維強化樹脂複合材料を生成することができる。 - 特許庁

Command data corresponding to the Vwc profile prepared prior to the growth process are set in the computer control part 18, the firing angle of a thyristor 141 is automatically set so that the coil voltage (Vwc) detected by the circuit 20 coincides with the command data, thereby controlling the power inputted to the work coil 11 variably.例文帳に追加

コンピュータ制御部１８は、本プロセスに先だって作成されたVwcプロファイルに対応する目標値データが設定されており、コイル電圧検出回路２０により検出されたコイル電圧（Vwc）が上記目標値データと一致するようにサイリスタ１４１の点弧角を自動設定し、ワークコイル１１の入力電力を可変制御する。 - 特許庁

The improvement of the process and method resides in forming finely divided droplets of the reactive liquid 14 and controlling the temperature, pressure, and concentration of the Lewis gas of opposite character, to (a) form a complex between the gas and the reactive liquid or (b) break the complex and thus to recover the atomized droplets of the reactive liquid.例文帳に追加

その改良は、反応性液体１４の微細に分割された液滴を生成させ、次いで、逆の特性の前記ルイス気体の温度、圧力及び濃度を制御して、(a)前記気体と反応性液体の前記錯体を生成させ又は(b)前記錯体を分解して反応性液体の噴霧された液滴を回収することにある。 - 特許庁

To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁

After an active layer 3, an etching stopping layer 4, and a cap layer 5 are successively grown on a substrate 1 composed of a III-V compound semiconductor, an element region is separately formed by subjecting it to mesa etching (first process), and a mask having an opening for controlling the width of a gate electrode G is formed on the formed mesa.例文帳に追加

III-Ｖ族化合物半導体からなる基板１上に活性層３、エッチング停止層４、およびキャップ層５を順に成長させた後、メサエッチングを施して素子領域を分離形成し（第１の工程）、上記メサ上にゲート電極Ｇの幅を規定する開口部を有するマスク１１を形成する。 - 特許庁

To improve controllability for an etching process, crystallinity at the time of regrowth and luminous efficiency in a surface emitting laser element of a selective oxidation current constrictive with a controlling system in an oxidation shape by arranging each semiconductor layer with different compositions in a current path and an oxidation area by means of etching and regrowth.例文帳に追加

エッチング及び再成長により電流通路と酸化領域にそれぞれ組成の違う半導体層を設けて酸化形状の制御を行う方式の選択酸化電流狭窄型の面発光型レーザ素子において、エッチング工程の制御性，再成長時の結晶性、および発光効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加

加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this molten metal holding furnace, the quality of molten metal is prevented from getting low in accompaniment to oxidation of the molted metal generated in a molten metal holding process, by controlling the combustion air ratios to the unburnt gases in respective combustion parts of the fusion chamber and the holding chamber to reduce an oxygen concentration existing in the molten metal holding furnace.例文帳に追加

溶融金属保持炉は、保持室及び溶解室のそれぞれの燃焼部に発生する未燃焼ガスに対する燃焼空気比を制御して、溶融金属保持炉内に存在する酸素濃度を低減することで、溶湯保持工程において発生する溶湯酸化に伴う溶湯品質低下を防止することができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for multiple-process processing in which sequential responses are made as multiple processes permit mismatching between data to some degree while properly controlling the mismatching when a client processing having a restriction on the number of times for a predetermined range as a whole is executed, so that the response speed can be increased.例文帳に追加

全体として一定範囲の回数制限を有するクライアント処理を行う際に、複数のプロセスによってある程度のデータの不整合を許容して逐次応答を行いつつもこれを適切に制御し、応答速度を向上させることができる複数プロセス処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

The slag discharge system is equipped with: a tilting device tilting the converter to be used in a copper refining process; an infrared camera detecting a temperature of fluid discharged from the converter within a wavelength range of 8-14 μm; and a control part controlling an inclination of the converter by the tilting device in response to a detected temperature of the infrared camera.例文帳に追加

スラグ排出システムは、銅製錬工程で用いる転炉を傾転させる傾転装置と、転炉から排出される流体の温度を８μｍ〜１４μｍの波長範囲で検出する赤外線カメラと、赤外線カメラの検出温度に応じて傾転装置による転炉の傾きを制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

Then particle size information and/or turbidity information of the particles in the fluid to be measured are acquired from the scattered light intensity data, thereby monitoring the effect of the additive chemical in the pressure flotation operation or the coagulating sedimentation operation of the white water recovering process, and controlling the amount of injection from a result of above information processing.例文帳に追加

この散乱光強度データに基づき被測定流体中の粒子の粒径情報及び／又は濁度情報を求め、この結果に基づいて、白水回収工程の加圧浮上処理又は凝集沈殿処理において添加される薬剤の効果を監視すると共に、注入量を抑制する。 - 特許庁

In the four tower-type pressure-swing adsorption equipment for purifying hydrogen, having the offgas storage tank, a method of controlling the flow rate of offgas at the time of the blowdown process in each adsorption tank is characterized in that the opening degree of a valve provided on the upstream side from the offgas storage tank is opened in stages or linearly.例文帳に追加

オフガス貯蔵タンクを有する水素精製用４塔式圧力スイング吸着装置において、各吸着塔におけるブローダウン工程時に、オフガス貯蔵タンクの上流側バルブの開度を段階的に開けていくか、直線的に開けていくことを特徴とするブローダウン工程時のオフガス流量の制御方法。 - 特許庁

The optical disk device has a main control part for controlling the optical pickup to emit a light beam by a light emission power for multilayer disks having three or more layers when determining that an optical disk is a multilayer disk having three or more layers in a spin-up process of the optical disk and succeeding in acquiring address information from the optical disk.例文帳に追加

また、光ディスクのスピンアップ処理において、光ディスクが三層以上の多層ディスクであると判別され、且つアドレス情報を光ディスクから取得するのに成功した時点で、三層以上の多層ディスク用の発光パワーにより光ビームを照射するよう光ピックアップを制御する主制御部を備える。 - 特許庁

To provide a method for simply and quantitatively detecting the solidifying process of molten metal filled up in a metallic die, in a metallic die casting, such as die casting, and to provide a casting method for suitably controlling the opening movement of the dies in the die casting.例文帳に追加

本発明の課題は、ダイカスト鋳造などの金型鋳造において、金型内に充填された溶融金属の凝固過程を簡便かつ定量的に検出する方法を提供することと、ダイカスト鋳造において金型の型開き動作を適切に制御する鋳造方法を提供することである。 - 特許庁

During processing, the opening commands are output to the conductance valve 1 (18) and the conductance valve 2 (20) in accordance with a value for a vacuum gage (12) and the exhaust property data 3 so as to maintain a degree of vacuum as set for controlling the pressure of a process chamber 11 to be a preset value and the exhaust amount of an exhaust line to be the same value.例文帳に追加

プロセス処理の際は、設定された真空度となるように、真空計（１２）の値と排気特性データ３から、コンダクタンスバルブ１（１８）とコンダクタンスバルブ２（２０）に開度指令を出力し、プロセスチャンバ１１の圧力をあらかじめ設定された値に制御すると共に排気ラインの排気量を同じ値に制御する。 - 特許庁

To provide a progressive press die, which can use an ordinary material for blanking without using an expensive material, further reduces the cost of the quality control for controlling the material, makes production equipment small in size by eliminating a repressurizing step in the other process using a pressure device, and contributes to the reduction of a production cost.例文帳に追加

高価格の抜材料を使用せずに、通常の抜材料を使用可能にするとともに、抜材料を管理する品質管理のコストを低減し、プレス設備以外の、加圧装置による別工程での積層コアの再加圧工程をなくし生産設備を小型化し、生産コスト低減に寄与するプレス順送金型を提供する。 - 特許庁

The processing stations are partitioned into a processing block B1 comprising a processing unit for applying and developing a resist as well as a second cooling part 3, and a transfer block B2 comprising a wafer transfer means MA, heating part, first cooling part, while the process block B1 is in a high-precision adjusted atmosphere for controlling a temperature.例文帳に追加

これら処理ステ−ションは、レジストの塗布処理や現像処理を行う処理ユニットＵと第２の冷却部３と備えた処理ブロックＢ１と、ウエハ搬送手段ＭＡと加熱部と第１の冷却部とを備えた搬送ブロックＢ２とに区画され、処理ブロックＢ１は温度の制御を行う高精度調整雰囲気となっている。 - 特許庁

A controller for operation-controlling the operation frequency of the inverter of the compressor 34 at a variable speed executes the control of operating the compressor 34 at ≤ a prescribed rotation number Rt (85 Hz) lower than the target maximum frequency Rmax (100 Hz) after the lapse of prescribed time T (30 minutes) from the start of the drying process.例文帳に追加

圧縮機３４のインバータの運転周波数を可変速で運転制御する制御装置は、乾燥行程の開始から所定時間Ｔ（３０分）が経過した後は、圧縮機３４を目標最大周波数Ｒｍａｘ（１００Ｈｚ）よりも低い所定の回転数Ｒｔ（８５Ｈｚ）以下で運転する制御を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing thermoplastic resin film which has a process of using an embossing apparatus obtaining the uniform height of a projecting part by embossing while controlling the temperature of a bearing of a heated roller with projecting parts within a use temperature when applying the embossing to the thermoplastic resin film.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムにエンボス加工を施す際に、加熱する突起付きローラの軸受の温度を使用温度範囲内に押さえ、均一なエンボス加工による突起部の高さが得られる生産性の高いエンボス加工装置を用いる工程を有する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and system for controlling a predictive model of a controlled system having one or more physical components using a model predictive control (MPC) model, determining an iterative finite interval optimization of a system model of the controlled system, in order to generate a manipulated value trajectory as part of a control process.例文帳に追加

制御プロセスの一部分として操作値軌跡を生成するために、モデル予測制御モデル（ＭＰＣ）を使用し、被制御システムのシステムモデルの反復有限区間最適化を決定する１つまたは複数の物理的構成要素を有する被制御システムの予測モデル制御の方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

The arc detecting device includes an RGB sensor 200 including an RGB module measuring red, green and blue hues of light generated from plasma in a chamber 100, and a master board 300 processing signals generated from the RGB sensor 200, controlling the operation of the chamber 100 and externally displaying the process state.例文帳に追加

チャンバ１００内部のプラズマから発生する光を赤色、緑色及び青色の色相別にそれぞれ測定するＲＧＢモジュールを含むＲＧＢセンサ部２００と、ＲＧＢセンサ部２００から発生した信号を処理し、チャンバ１００の動作を制御したり、工程状態を外部に表示するマスターボード３００とを備える。 - 特許庁