「coupling processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface treatment device 1 includes: a processing container 2 that stores the workpiece 9 and has a sealed structure; a decompression pump 3 (decompression device) for reducing the pressure inside the processing container 2; and a raw material feeding mechanism 4 (liquid raw material feeding device) for feeding a liquid raw material containing the coupling agent into the processing container 2.例文帳に追加

表面処理装置１は、被処理物９を収納し、密閉構造を備える処理容器２と、処理容器２内を減圧する減圧ポンプ（減圧手段）３と、処理容器２内にカップリング剤を含む液状原料を供給する原料供給機構（液状原料供給手段）４とを有している。 - 特許庁

If the permutation processing of the music numbers is performed by the edition processing, such as dividing and coupling of musical pieces, and the mismatching occurs, the step is progressed to the ST 13 and the group management information is subjected to abnormal occurrence set processing to set a flag added with intrinsic data to invalidate the group management information.例文帳に追加

楽曲の分割や結合等の編集処理によって曲番の付け替え処理が行われて不整合を生じる場合があるときにはＳＴ１３に進み、グループ管理情報に固有データを付加したりフラグを設定する異常発生設定処理を行って、グループ管理情報を無効化する。 - 特許庁

The plotting device parallelly processing a plotting processing is provided with a plurality of plotting parts by loose coupling parallelly performing image generation, The respective plotting parts update a display image only in the case that all the respective plotting parts are not during the plotting processing at the determined point of time of updating the display image.例文帳に追加

描画処理を並列処理する描画装置において、並列して画面生成を実行する、疎結合による複数の描画部を備え、各描画部は、表示画面の定められた更新時点において、各描画部が全て描画処理中でない場合に限り、表示画面を更新することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma processing apparatus capable of suppressing a bent of a partition structure for partitioning between a processing chamber and an antenna chamber including a dielectric wall without the need for upsizing a support part of the dielectric wall and thickening the dielectric wall.例文帳に追加

誘電体壁の支持部分を大きくすることなく、しかも誘電体壁を厚くすることなく、誘電体壁を含む、処理室とアンテナ室との間を仕切る仕切構造の撓みを抑制することができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The inductive coupling type plasma etching apparatus is configured to generate inductive coupling plasma like a donut under a dielectric window 52 in proximity to an RF antenna 54, and distribute the donut-like plasma in a wide processing space to equalize the density of the plasma in the vicinity of a susceptor 12 (i.e. on a semiconductor wafer W).例文帳に追加

この誘導結合型プラズマエッチング装置は、ＲＦアンテナ５４に近接する誘電体窓５２の下で誘導結合のプラズマをドーナツ状に生成し、このドーナツ状のプラズマを広い処理空間内で分散させて、サセプタ１２近傍（つまり半導体ウエハＷ上）でプラズマの密度を平均化するようにしている。 - 特許庁

An electromagnetic coupling module 1 is mounted on the license plate 20 of an automobile 100, the coupling module 1 comprising: a radio IC chip therein storing information while being capable of transmission/reception processing on radio signals; and a feeder circuit board mounted with the IC chip and provided with a feeder circuit including a resonant circuit having a prescribed resonant frequency.例文帳に追加

情報を記憶するとともに無線信号の送受信処理が可能な無線ＩＣチップと、該無線ＩＣチップを搭載し、所定の共振周波数を有する共振回路を含む給電回路を設けた給電回路基板とからなる電磁結合モジュール１が自動車１００のナンバープレート２０に取り付けられている。 - 特許庁

A mode coupling coefficient calculation device 19 obtains a power spectrum to the longitudinal distribution of the signal of the interfering light, between the excited linearly-polarized light and the mode coupled linearly-polarized light based on the signal output from a signal processing-recording device 18, and calculates the spatial frequency dependence of the mode-coupling coefficient.例文帳に追加

モード結合係数演算装置１９は、信号処理・記録装置１８から出力された信号を基に、励振した直線偏光とモード結合した直線偏光との干渉光の信号の長手方向分布に対するパワースペクトラムを求め、モード結合係数の空間周波数依存性を算出する。 - 特許庁

A symbol signal conversion circuit 12 includes: a bit coupling part 21 for coupling symbol mapping data included in a symbol signal with a synchronous bit corresponding to a super frame synchronous pulse, so as to output a data block; and a TS packetization processing part 24 for generating an MPEG2-TS packet which is obtained by mapping the data block to a payload part.例文帳に追加

シンボル信号変換回路１２は、シンボル信号に含まれるシンボルマッピングデータと、スーパーフレーム同期パルスに応じた同期ビットとを結合してデータブロックを出力するビット結合部２１と、このデータブロックをペイロード部にマッピングしたＭＰＥＧ２−ＴＳパケットを生成するＴＳパケット化処理部２４とを備える。 - 特許庁

In the induction coupling type plasma processing apparatus, an RF antenna 54 provided on a dielectric window 52 is divided into an inside coil 58, an intermediate coil 60, and an outside coil 62, along the radial direction.例文帳に追加

この誘導結合型プラズマ処理装置においては、誘電体窓５２の上に設けられるＲＦアンテナ５４が径方向で内側コイル５８、中間コイル６０および外側コイル６２に分割されている。 - 特許庁

To provide a server system which has, in addition to extensibility of scale-out type of a conventional blade server system, extensibility of scale-up type by making SMP (Symmetric Multi Processing) coupling among a plurality of blade server modules.例文帳に追加

従来のブレードサーバシステムのスケールアウト型の拡張性に加え、複数のブレードサーバモジュール間をＳＭＰ結合することによるスケールアップ型の拡張性を備えたサーバ装置を提供する。 - 特許庁

A background noise power estimating and switching part 4 stops an estimation processing in a background noise power estimating part 2 when the ratio of an acoustic coupling gain component contained in a reference signal Vx is large.例文帳に追加

背景雑音パワー推定切替部４では、参照信号Ｖｘに含まれる音響結合成分の割合が大きいときに背景雑音パワー推定部２の推定処理を停止させる。 - 特許庁

To provide a light source module that has enhanced coupling efficiency from a light source to a light guide plate without accompanying processing of the light guide plate and can improve light use efficiency, as well as a liquid crystal display device equipped with the same.例文帳に追加

導光板の加工を伴うことなく、光源から導光板への結合効率を高め、光利用効率を向上し得る光源モジュール、及びそれを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

By setting the coupling surfaces of the fixed mold 1 and the movable mold 2 on the tip side from the base end part D of the piece B, the processing of the chamfer R is eliminated, and the demolding of the molding A is facilitated.例文帳に追加

固定型１と可動型２の合せ面を突片Ｂの基端部Ｄよりも先端側に設定して面取りＲの加工を不要にし、成形品Ａの離型も良好に行えるようにした。 - 特許庁

High frequency current flowing through the antenna 41 is picked up by capacitor coupling at a pickup circuit 51, and a pulse signal is generated through a detection circuit 521 and a waveform shaping circuit 522 of a signal processing section 52.例文帳に追加

アンテナ４１に流れる高周波電流がコンデンサカップリングによってピックアップ回路５１で拾われ、信号処理部５２の検波回路５２１、波形整形回路５２２を経てパルス信号が生成される。 - 特許庁

A predetermined timing pulse ϕOG is supplied to a horizontal output gate part 6, the potential of a floating diffusion area 7 is supplied deep via a coupling capacitance, and a range of signal charge processing is expanded large.例文帳に追加

水平出力ゲート部６に所定のタイミングのパルスφOGを与え、カップリング容量を介してフローティングディフュージョン領域７の電位を深くし、信号電荷取り扱い範囲を大幅に拡大させる。 - 特許庁

Thus, since the tilt are matched, processing setting such as oblique correction to the original front image and the original rear image becomes unnecessary to be individually performed to each of a CCD (charged coupled device) image sensor 59 and a close coupling image sensor 67 and the oblique correction processing setting is facilitated.例文帳に追加

よって、当該傾きが一致しているため、原稿表面画像及び原稿裏面画像に対する斜め補正等の処理設定を、ＣＣＤイメージセンサ５９及び密着型イメージセンサ６７それぞれに対して個別に行う必要がなくなり、斜め補正処理設定の簡易化が図れる。 - 特許庁

When a value which is obtained by subtracting a time shown by a timestamp included in an arriving packet from an arrival time of the packet at the coupling means is outside a prescribed range, at least any of the processing means switches a mode and processes a packet which has subsequently arrived at the processing means.例文帳に追加

結合手段にパケットが到着した時刻から、該到着したパケットが含むタイムスタンプの示す時刻を減じた値が所定の範囲外の場合に、処理手段の少なくともいずれかはモードを切り替えて、それ以降に該処理手段に到着したパケットに対して処理を施す。 - 特許庁

In another embodiment, a method monitoring the integrity of a ground member coupling a substrate support to a chamber body in a plasma processing chamber includes monitoring a metric indicative of current passing through the ground member during processing, and setting a flag in response to the metric exceeding a predefined threshold.例文帳に追加

別の実施形態において、プラズマ処理チャンバ内で基板支持体をチャンバ本体部に連結している接地部材の完全性のモニタ方法は、処理中に接地部材を流れる電流を示す計量値をモニタし、所定の閾値を越えた計量値に応答してフラグを設定することを含む。 - 特許庁

To provide a display with a touch panel of capacitance coupling type and a method for manufacturing the same, which saves a photolithography process dedicated for processing a metallic film and use a photolithography process for processing a transparent conductive film to serve for both in manufacturing the touch panel, thereby reducing the number of processes and manufacturing cost.例文帳に追加

タッチパネルの製造時に、金属膜加工専用のホト工程を省略し、透明導電膜加工用のホト工程と兼用することにより、工程数を削減し、製造コストを低減した静電容量結合方式のタッチパネル付き表示装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ISDN communication terminal and a communication method using it by which call processing can be attained even if making communication by directly coupling communication terminals by using B-channels without using a D-channel.例文帳に追加

Ｄチャネルを使用せずに通信端末同士をＢチャネルを利用して直結して通信をする場合でも、呼処理を可能にしたＩＳＤＮ用通信端末及びそれを用いた通信方法を提供する。 - 特許庁

The bumper reinforcement member 5 has an upper and lower walls 5c and 5d coupling the collision surface side and the back surface side, and in front of the bumper stay 6s, friction stir processing (friction stir processed parts 4) is applied to the upper and lower walls 5c and 5d.例文帳に追加

バンパー補強材５は衝突面側と背面側を連結する上下壁５ｃ，５ｄを有し、バンパーステイ６の前方位置において、上下壁５ｃ，５ｄに、摩擦攪拌処理（攪拌処理部４）が施されている。 - 特許庁

The image processing apparatus 1 also includes an address coupling part 24 which couples an address specifying a group and data indicating which is used from a plurality of CLUT data in the group, and outputs the coupled data to the CLUT 25.例文帳に追加

また、画像処理装置１は、グループを指定するアドレスと、グループ内の複数のCLUTデータからいずれを使用するかを指定するデータとを結合し、結合したデータをCLUT２５に出力するアドレス結合部２４を有する。 - 特許庁

The processing unit 20 executes computation based on voltage signals V1, V2, and detects a leakage current caused by a failure of a HART transmission/reception circuit 11 or a coupling capacitor 12.例文帳に追加

また、信号処理部２０では、電圧信号Ｖ１および電圧信号Ｖ２に基づく演算を実行し、ＨＡＲＴ送受信回路１１や結合コンデンサ１２の故障により発生する漏洩電流を検出する。 - 特許庁

The rubber composition comprises >10 pts.wt. and <120 pts.wt. silica per 100 pts.wt. dien rubber and a silane coupling agent, wherein the silica is surface-treated by atmospheric plasma processing.例文帳に追加

ジエン系ゴム１００重量部に対して、シリカを１０重量部を超え１２０重量部未満、及びシランカップリング剤を含んでなるゴム組成物であって、前記シリカが大気圧プラズマ処理による表面処理が施されている。 - 特許庁

In the laser processing step, output energy of laser is made larger and the scanning speed of the laser is made faster in cutting out a connection 44b and a coupling part 44c than in cutting out a plurality of opposite parts 44a.例文帳に追加

レーザ加工工程では、接続部４４ｂ及び連結部４４ｃを切り出す際に、複数の対向部４４ａを切り出す際よりも、レーザの出力エネルギーを大きくするとともに、レーザの走査速度を速くする。 - 特許庁

A CCD output signal having a feed through period and a signal period, which is outputted from the CCD, is inputted to an input terminal 1 of an analog signal processing circuit 210 through an external input coupling capacitor.例文帳に追加

アナログ信号処理回路２１０は、外付けの入力カップリングコンデンサを介して、ＣＣＤから出力されるフィードスルー期間と信号期間とを有するＣＣＤ出力信号を入力端子１に入力される。 - 特許庁

To provide a bus coupling type multiprocessor for reducing the number of times of snoop processing of each processor (CPU) configuring a multiprocessor, and for achieving performance improvement and low power consumption of the CPU.例文帳に追加

マルチプロセッサを構成する各プロセッサ（ＣＰＵ）のスヌープ処理回数を減らすことができ、これにより、ＣＰＵの性能向上および低消費電力化を図ることができるバス結合型マルチプロセッサを提供する。 - 特許庁

When a signal coupling a plurality of blocks B1, B2... is received, correction processing is performed while distributing the error included in the range of each block within the range of each block in the digital demodulator.例文帳に追加

デジタル復調装置において、複数のブロックＢ１、Ｂ２…が連なった受信信号が受信されると、各ブロックの範囲内に含まれる誤りが各ブロックの範囲内で分散されつつ訂正処理が施される。 - 特許庁

To provide an induction coupled antenna with improved uniformity of plasma, capable of reducing a capacity coupling, power loss, and damage generated at a base board, and provide a plasma processing device using the same.例文帳に追加

プラズマの均一度が向上され、容量結合とパワー損失および基板に加えられる損傷を減らすことができる構造を有した誘導結合型アンテナおよびこれを採用したプラズマ処理装置の提供。 - 特許庁

Projection means 22 makes the extracted part correspond to an index arranged in a virtual three-dimensional space, and tool coupling means 28 couples a processing tool making a predetermined action on the virtual object with the index.例文帳に追加

抽出された特定部位は射影手段２２により仮想三次元空間に配置される指標に対応付けられ、仮想物体に所定の作用を及ぼす処理ツールがツール結合手段２８により指標に結合される。 - 特許庁

To prevent overvoltage from being applied to a signal processing IC, by generating a CCD output signal noise immediately after power-on at the timing, when the offset voltage of a coupling capacitor is low.例文帳に追加

電源投入直後に発生するＣＣＤ出力信号のノイズを、結合コンデンサでのオフセット電圧が低い電圧になったタイミングで発生させるようにして、信号処理ＩＣに過電圧がかからないようにする。 - 特許庁

In a state where an N- or P-type silicon substrate subjected to dopant processing is not subjected to oxidation treatment but subjected to hydrogen termination treatment, surface treatment is performed by a silane coupling reagent to obtain a surface modification semiconductor silicon substrate.例文帳に追加

ドーパント処理されたＮ−またはＰ−型シリコン基板を、酸化処理せず、水素終端化処理されている状態でシランカップリング試薬による表面処理を行い、表面修飾半導体シリコン基板を得る。 - 特許庁

This wireless IC device is provided with a feeder circuit substrate 10 including the wireless IC chip processing transmission/reception signals and a resonance circuit having an inductance element, and an emission plate 21 performing electromagnetic field coupling with the resonance circuit.例文帳に追加

送受信信号を処理する無線ＩＣチップと、インダクタンス素子を有する共振回路を含む給電回路基板１０と、該共振回路と電磁界結合する放射板２１とを備えた無線ＩＣデバイス。 - 特許庁

To provide a surface treated copper foil enhancing adhesiveness when gluing together by hot press processing of the surface treated copper foil having a silane coupling agent treated layer and a resin base material, a manufacturing method of the surface treated copper foil, and a copper clad laminate using the surface treated copper foil.例文帳に追加

シランカップリング剤処理層を備える表面処理銅箔と樹脂基材との熱間プレス加工し張り合わせたときの密着性を向上させる表面処理銅箔の提供を目的とする。 - 特許庁

By providing a means for comprising a queue for vacant area, by relating all basic packet areas to be set to a sequence control circuit 102 as vacant areas by the address link information, processing for releasing, coupling, acquiring and inserting the area of a queue for packet data storage can be provided with little hardware resources, control processing can be simplified, and the performance processing time can be shortened.例文帳に追加

シーケンス制御回路１０２に空き領域として設定する全ての基本パケット領域をアドレスリンク情報により関連づけ、空き領域用キューを構成する手段を設けることで少ないハードウエア資源でパケットデータ格納用キューの領域解放、結合、取得、挿入処理が実現できると共に制御処理の簡略化と実行処理時間の短縮を可能とする。 - 特許庁

A metal mold after release processing is coated with ultraviolet-ray setting resin 16, and a light-transmissive product substrate 2 after silane coupling processing is pressed against the resin; and the reverse surface side of the product substrate 2 is irradiated with uniform ultraviolet rays to set the ultraviolet-ray setting type resin layer 16 and then the metal mold is released.例文帳に追加

離型処理した金型上に紫外線硬化型樹脂１６を塗布し、その上にシランカップリング処理した光透過性の製品基板２を押し当て、製品基板２の裏面側から均一な紫外線光を照射して紫外線硬化型樹脂層１６を硬化させた後、金型を剥離する。 - 特許庁

Deformation processing and coupling processing are conducted for all the synthesis elements provided from the selecting part 111 to fit to a target pitch form and a target phoneme continuing time length provided by the generating part 107 through the selecting part 111, and a synthetic voice is generates thereby to be output through an output terminal 115.例文帳に追加

選択部１１１を通じて生成部１０７から与えられた目標とするピッチ形状及び音韻継続時間長に適合するよう、選択部１１１から与えられた全ての合成素片に変形処理、結合処理を施して合成音声を生成し、出力端子１１５を通じて出力する。 - 特許庁

In this control method for an external control type fan coupling device 3, the arithmetic processing for setting the rotational speed of the fan 4 with the sudden acceleration detecting signal as a parameter, is executed at a frequency higher than the arithmetic processing for setting the rotational speed of the fan 4 with the signal other than the sudden acceleration detecting signal as a parameter.例文帳に追加

外部制御式ファン・カップリング装置３の制御方法は、急加速検出用信号をパラメータとしてファン４の回転速度を定めるための演算処理を、急加速検出用信号以外の信号をパラメータとしてファン４の回転速度を定めるための演算処理よりも高い周波数で実行する。 - 特許庁

In this apparatus, by coupling a plurality of processing portions 6-9 to each other via a single-wafer carrying mechanism 3 whereby a plurality of different processings can be applied continuously to a semiconductor substrate 1, at least one manufacturing line 11 is so formed that the single-wafer carrying mechanism 3 can carry the semiconductor substrates 1 selectively one by one to the individual processing portions 6-9.例文帳に追加

複数の異なった処理を半導体基板１に連続して施すことができる複数の処理部６〜９が枚葉搬送機構３で結ばれることで少なくとも一つの製造ライン１１を構成し、枚葉搬送機構３が選択的に個々の処理部６〜９に半導体基板１を一つずつ搬送可能とした。 - 特許庁

To provide an image forming device and a printing job production device capable of collectively applying staple processing to a recording medium relating to a plurality of printing jobs without performing a complex work for coupling the plurality of printing jobs.例文帳に追加

複数の印刷ジョブを結合するという煩雑な作業を行うことなく、複数の印刷ジョブに係る記録媒体にまとめてステープル処理を施すことができる画像形成装置及び印刷ジョブ生成装置を提供する。 - 特許庁

In an inductive-coupling plasma processing apparatus 1, the protecting plate 41 functions as an anode electrode to a bias electric field formed by a high-frequency power supplied to a susceptor 22 from a high-frequency power supply 29.例文帳に追加

また、誘導結合プラズマ処理装置１では、保護プレート４１が、高周波電源２９からサセプタ２２に対して供給される高周波電力によって形成されるバイアス電界に対するアノード電極として作用する。 - 特許庁

On a computation formula display part 2 of a computation formula processing apparatus 1, computation formulae are created via a computation formula creation means 4 (numerical object positioning means 4a and numerical object coupling means 4b) according to a user's inputs.例文帳に追加

計算式処理装置１の計算式表示部２において、ユーザーの入力に基づき、計算式生成手段４（数値オブジェクト配置手段４ａおよび数値オブジェクト連結手段４ｂ）を介して計算式が生成される。 - 特許庁

On at least one of opposite surfaces of the pair of substrates of the display medium 12, a processing layer is provided which contains a silane coupling agent expressed by general formula (1) R^1-Si(OR^2)_3 (where R^1 represents a monovalent aliphatic hydrocarbon radical with ≥C7 and R^2 represents a monovalent aliphatic hydrocarbon radical with ≤C4).例文帳に追加

一般式（１）Ｒ^１−Ｓi（ＯＲ^２）_３（上記一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数７以上以下の１価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^２は、炭素数４以下の１価の脂肪族炭化水素基を表す。） - 特許庁

To provide an error correction device for turning the mark rate of reliability information to 1/2 by a simple low power consumption circuit, executing AC coupling, normally operating CDR for sampling the change point of data, and performing deskew processing as well.例文帳に追加

簡単な低消費電力回路で信頼度情報のマーク率を１／２にするとともに、ＡＣ結合が可能で、データの変化点をサンプルするＣＤＲが正常動作し、また、デスキュー処理も可能な誤り訂正装置を得る。 - 特許庁

In the inductively coupled plasma processor for processing an article by plasma generated by the inductive coupling of electromagnetic waves through a dielectric window, the surface of the dielectric window is covered with a conductor and surrounded by the conductor, a part of the conductor is cut to expose its surface, and the inductive coupling of electromagnetic waves takes place through the exposed dielectric window.例文帳に追加

誘電体窓を介した電磁波の誘導結合によりプラズマを発生させ、被処理物を加工する誘導型プラズマ処理装置に関し、誘電体窓表面が導電体部で被覆されるとともに、導電体部で囲まれ、表面が露出するように導電体部の一部が切り欠かれており、露出する誘電体窓を介して電磁波の誘導結合が行われるように構成した。 - 特許庁