「d process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The wedge rock crushing process (b) is executed again without the boring process (a), the high-viscous fluid 22 is supplied as required, and the secondary crushing process (c) and the removal treatment process (d) of the crushed rocks are carried out.例文帳に追加

次に、穿孔工程ａを経ることなく、再びクサビ割岩工程ｂを実行し、更に、必要に応じて高粘性流体２２の補充を行い、二次破砕工程ｃおよび破砕岩の除去処理工程ｄを実行する。 - 特許庁

This method for proliferating the plant belonging to the genus Imperata is characterized by comprising a proliferation process of proliferating a multiple shoot callus of the plant belonging to the genus Imperata in a medium added with a combination of 2,4-D and BAP.例文帳に追加

チガヤ属の多芽体カルスを、2,4-D及びBAPを組み合わせて添加した培地で増殖する増殖工程を含むことを特徴とするチガヤ属の増殖方法。 - 特許庁

A high speed low resolution A/D converter is additionally used and an adaptive signal process using an output signal of the high speed low resolution A/D converter as a teacher signal is used to calculate a correction coefficient.例文帳に追加

高速低分解能AD変換器を別途併用し，この出力信号を教師信号とする適応信号処理によって補正係数を算出する。 - 特許庁

To provide an A-D converter which can perform high-speed A-D conversion with high accuracy without using a capacitative element required for an additional manufacturing process.例文帳に追加

追加的な製造工程の必要な容量素子を用いることなく、高精度で高速のＡ／Ｄ変換を行うことができるＡ／Ｄ変換器の提供を図る。 - 特許庁

The dense layer D therefore can be formed without deforming a resin molded body 21 or partially melting the resin molded body 21 in the dense layer D formation process.例文帳に追加

したがって、緻密層Ｄ形成工程において樹脂成型体２１を変形させる、あるいは部分溶融させること無く緻密層Ｄを形成することができる。 - 特許庁

Then, as shown in Fig.7(d), a portion between two through-holes 40 (recesses 16) is subjected to full cut processing (cutting process).例文帳に追加

次に、図７（ｄ）に示されるように、２つのスルーホール４０（凹部１６）間を、フルカット加工する（切断工程）。 - 特許庁

(d) From the output data outputted in the process (c), existence of a stain is determined by using a modulatable threshold.例文帳に追加

（ｄ）変調可能なしきい値を用いて、工程（ｃ）で出力された出力データから、しみの有無を判定する。 - 特許庁

The discriminating data 'D' means a mark for discriminating that copying process is executed, and the number of copy processing times.例文帳に追加

識別データ“Ｄ”は、コピー処理が実施されたことを識別するマークとコピー処理の回数とを意味している。 - 特許庁

In this production process for cyclic phosphatidic acid(cPA), a phospholipase D is allowed to react with the lysophospholipid.例文帳に追加

本発明の環状ホスファチジン酸(ｃPA)の製造法は、リゾ型リン脂質にホスホリパーゼＤを作用させることからなる。 - 特許庁

That is, the cutting machine 10 forms four cutting lines A to D in a process time for a single cutting line.例文帳に追加

すなわち、本発明の切機１０は、切線１本分の加工時間で４本の切線Ａ〜Ｄを加工する - 特許庁

Then the solution is replaced by a low refractive index photosetting resin solution 26 and the whole body is solidified by UV rays (process (d)).例文帳に追加

次に、低屈折率光硬化性樹脂溶液２６に入れ替え、紫外線で全体を固化する（工程（ｄ））。 - 特許庁

(e) A best focus state is detected based on a plurality of focus evaluation indices calculated in the process (d).例文帳に追加

（ｅ）工程ｄで求められた複数のフォーカス評価指標に基づいて、ベストフォーカス状態を検出する。 - 特許庁

A hybrid porous tube body 100 is obtained by putting the base material 3 under an etching removal process by a wet etching method (d).例文帳に追加

基材３をウエットエッチング法によりエッチング除去して混成型多孔質管体１００を得る〔（ｄ）〕。 - 特許庁

The method for producing a cheese source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加

（ａ）澱粉を含まず、チーズを含有する水分散液を加熱する工程と、（ｂ）工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、（ｃ）工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、（ｄ）工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、チーズソースの製造方法。 - 特許庁

The method for producing carbonara source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing egg yolk and cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加

（ａ）澱粉を含まず、卵黄及びチーズを含有する水分散液を加熱する工程と、（ｂ）工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、（ｃ）工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、（ｄ）工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、カルボナーラソースの製造方法。 - 特許庁

A center chucking mechanism 11 for chucking and fixing the disk D in processing and a transporting robot 21 for transporting the disk D completed of the processing from the center chucking mechanism 11 of the process chamber R to a center chucking mechanism 11' of the adjacent process chamber S are installed in the process chamber R under vacuum.例文帳に追加

真空下の処理室Ｒには、処理時にディスクＤをチャックし固定するセンターチャック機構１１と、処理の完了したディスクＤを処理室Ｒのセンターチャック機構１１から隣接の処理室Ｓのセンターチャック機構１１’へ搬送する搬送ロボット２１とが設置される。 - 特許庁

A method for producing a rubber molding by extrusion comprises a process for extruding a resin such as a polymethyl pentene resin with which the periphery of rubber is coated, a process for fixing the shape of the resin by cooling (sizing), a process for primary vulcanization by high frequency, a process for stripping off the coating resin part of an outer layer, and a process for secondary vulcanization.例文帳に追加

(a) ゴムの外周に樹脂（ポリメチルペンテン樹脂等）を被覆して押し出す工程、(b) 冷却（サイジング）により形状を固定化する工程、(c) 高周波により一次加硫する工程、(d) 外層の被覆樹脂部を剥ぎ取る工程、および(e) 二次加硫工程からなるゴム成形体の押出製造方法。 - 特許庁

The production method of a fine particle removing filter (10) having a gas introduction hole (15) and a gas discharge hole (16) and made of a porous ceramic material comprises a filling process (b), a pin insertion process (c), and a mold releasing process (d) and a degreasing process (e).例文帳に追加

ガス導入穴(15)と、ガス導出穴(16)とを有し、多孔質セラミックスからなる微粒子除去フィルタ(10)の製造方法において、充填工程（ｂ）と、ピン挿入工程（ｃ）と、離型工程（ｄ）と、脱脂工程（ｅ）と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the step (d), an exposure quantity in the reflection areas 2 in the photoengraving process is smaller than that in the transmission display areas 1 in the photoengraving process.例文帳に追加

工程（ｄ）において、反射表示領域２における写真製版の露光量を、透過表示領域１における写真製版の露光量よりも小さくする。 - 特許庁

Furthermore, the method has (d) a process of reacting the silicon of the second impurity diffused layer 8 with nickel, by annealing to form the silicide layer 11, after the process (c).例文帳に追加

そして、（ｄ）工程（ｃ）の後に、熱処理により第２の不純物拡散層８のシリコンと、ニッケルとを反応させてシリサイド層１１を形成する工程を備える。 - 特許庁

A checkpoint collecting part 15 conducts a reading-out D of the condition of a primary process 11 every time when a checkpoint collection time comes, and executes a copy E to a backup process 12.例文帳に追加

チェックポイント採取部１５はチェックポイント採取時期が到来する毎に、プライマリプロセス１１の状態の読み出しＤを行ってバックアッププロセス１２へのコピーＥを実行する。 - 特許庁

A rotary blade B in a return process is again passed through the dicing groove D formed to the unbaked ceramic molded object (work) W by the rotary blade B in a forward process.例文帳に追加

行き工程で回転刃Ｂにより未焼成セラミック成形体（ワーク）Ｗに形成されたダイシング溝Ｄを、帰り工程の回転刃Ｂが再び通過するようにする。 - 特許庁

A compound represented by formula (D) is disclosed, a curing agent using the compound, a process of preparing a flame-retardant epoxy resin by using the compound, and a process of preparing the compound are also provided.例文帳に追加

例えば下式で表される化合物が例示され、この化合物による硬化剤、及び難燃性エポキシ樹脂の調製方法、並びにその調製方法。 - 特許庁

Meanwhile, when the process cartridge 2 does not have the recording medium 3, the image forming operation is performed by general-purpose setting (D).例文帳に追加

一方、記録媒体３を有していないときは、汎用性のある設定（Ｄ）で画像形成動作を実行する。 - 特許庁

A difference D(=d_rE'(k)-f_0) between a disturbance estimated value d_rE' after pulse removing process and a functional value f_0 in step 250.例文帳に追加

ステップ２５０では、脈動除去処理後の外乱推定値ｄ_rE′と関数値ｆ_0 との差Ｄ（＝ｄ_rE′（ｋ）−ｆ_0 ）を求める。 - 特許庁

PROCESS OF MAKING α-ANOMER ENRICHED 2-DEOXY-2,2-DIFLUORO-D-RIBOFURANOSYL SULFONATE AND BETA NUCLEOSIDE例文帳に追加

α−アノマーが濃厚な２−デオキシ−２，２−ジフロロ−Ｄ−リボフラノシルスルホネートの製造方法およびβヌクレオシドの製造方法 - 特許庁

The specific region D is a position not influenced by production work using tools in a battery manufacturing process.例文帳に追加

この特定領域Ｄは、電池製造工程における治具を用いた製造行為によって影響を受けない位置である。 - 特許庁

The distance between the first posture sensor 8 and the side panel 4 is made close to be the set distance d, in a first range finding process.例文帳に追加

第１測距工程では、第１姿勢センサ８とサイドパネル４との距離が設定距離ｄとなるまで近づける。 - 特許庁

An SOI substrate 100 is cleaned with a displacement liquid 6 in process D, and then dried while being revolved.例文帳に追加

工程Ｄにおいて、置換液６によって置換洗浄し、その後、ＳＯＩ基板１００を公転させながら乾燥する。 - 特許庁

Next, the sapphire substrate 11, the InN layer 13, and the GaN layer 14 are separated in the process shown in Fig. 1 (d).例文帳に追加

次に、図１（ｄ）に示す工程で、サファイア基板１１と、ＩｎＮ層１３およびＧａＮ層１４とを分離する。 - 特許庁

POWDER CONTAINING ANHYDROUS CRYSTAL OF 2-O-ALPHA-D-GLUCOSYL-L-ASCORBIC ACID, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND USE THEREOF例文帳に追加

２−Ｏ−α−Ｄ−グルコシル−Ｌ−アスコルビン酸無水結晶含有粉末とその製造方法並びに用途 - 特許庁

d) The patent holder proceeds to exercise his rights after he acquires and holds them through a dishonest manner and process. 例文帳に追加

エ）不誠実な手段・経緯により特許権を自己に取得・帰属させた上で差止請求等の権利行使をする場合 - 経済産業省

Between the calcination heat treatment process B and a final baking heat treatment process D for generating a superconducting layer, an intermediate baking heat treatment process C is performed at a temperature lower than a final baking heat treatment temperature in the final baking heat treatment process D to manufacture a REBa_yCu_3O_z-based oxide superconducting wire including flux pinning points.例文帳に追加

仮焼成熱処理工程Ｂと、超電導層生成のための本焼成熱処理工程Ｄとの間に、本焼成熱処理工程Ｄにおける本焼成熱処理温度より低い温度で中間焼成熱処理工程Ｃを施して、磁束ピンニング点を含むＲＥＢａ_ｙＣｕ_３Ｏ_ｚ系の酸化物超電導線材を製造する。 - 特許庁

A cutting process or a punching process is executed for a sheet S by a processing part 11, and waste D generated by the process is carried to and stored in a waste box 14 attached to a device body 13 by a waste carrying means 12.例文帳に追加

処理部１１により用紙Ｓに断裁または穿孔処理を行い、このとき発生する屑Ｄを、屑搬送手段１２により装置本体１３に装着されている屑箱１４に搬送して収容する。 - 特許庁

In the process (a), both ends in the width direction of the electrode plate precursor 1 are provided with non-coated portions 7 not coated with the active material 4, and a process (d) for cutting the non-coated portions is carried out along with the process (c).例文帳に追加

上記工程（ａ）において、極板前駆体１の幅方向の両端に活物質４の塗工されない非塗工部分７が設けられ、それを切除する工程（ｄ）が、工程（ｃ）に付随して実施される。 - 特許庁

After a menu for checking booking or for changing flight is selected (b), biological information is read at a check-in terminal (process c) for acquiring the biological information of the user (process d), and biological information inside a boarding server 5 is searched (process e).例文帳に追加

予約確認または便変更のメニュー選択（ｂ）後、チェックイン端末で生体情報を読取り（工程ｃ）、利用者の生体情報を取得し（工程ｄ）、搭乗サーバ５内の生体情報を検索する（工程ｅ）。 - 特許庁

The method for producing the frozen processed food comprises (X) a process of preparing processed food retaining the form of the egg boiled plain through using the egg boiled plain subjected to at least (A)-(C) processes, and (D-1) a process of freezing the processed food.例文帳に追加

本発明の冷凍加工食品の製造法は、前記工程(A)〜(C)、少なくともこれら工程を行った後の水煮卵を用いて、該水煮卵の形態を保持した加工食品を調製する工程(X)及び該加工食品を凍結する工程(D-1)を含む。 - 特許庁

It is preferable to include a process (d) adding and mixing the aqueous alkaline solution to the waste liquid after separating the insoluble tannin and flocculating and precipitating the iron contained in the waste liquid, and a process (e) for solid- liquid separating the waste water after flocculating and precipitating the iron.例文帳に追加

更に(d) 不溶性タンニンを分離した廃液にアルカリ水溶液を添加混合して廃液に含まれる鉄を凝集沈殿させる工程と、(e) 鉄を凝集沈殿させた廃液を固液分離する工程とを含むことが好ましい。 - 特許庁

Then, the frequency spectrum of an FFT analysis D is filter processed by a frequency mask process C in accordance with the detected frequency.例文帳に追加

検出した周波数に応じて周波数マスク処理Ｃで、ＦＦＴ分析Ｄの周波数スペクトルにフィルタ処理を施す。 - 特許庁

To accurately express color component signals and to reduce the resolution necessary in an A/D conversion process.例文帳に追加

カラーコンポーネント信号を高精度に表現するとともに、Ａ／Ｄ変換処理において必要とされる分解能を低下させる。 - 特許庁

The method for producing the thermoplastic polyurethane resin powder (D) having particle distribution Cv of 20-55 comprises following processes 1, and process 2-1 and/or 2-2.例文帳に追加

Ｃｖが２０〜５５である（Ｄ）であって、以下の工程１と、工程２−１および／又は２−２を含む（Ｄ）の製造方法。 - 特許庁

Thereafter a hydrofluoric-nitric acid supply process (refer to fig. (d)) is executed, and the back face of the wafer W is etched using hydrofluoric-nitric acid.例文帳に追加

その後、ふっ硝酸供給工程（図（ｄ）参照）が実行され、ウエハＷの裏面がふっ硝酸を用いてエッチングされる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises shaping a coarse material in a hot forging process (Step A) and then giving quenching treatment thereto (Step D).例文帳に追加

この製造方法では、熱間鍛造加工を通じて粗材を成形した後（工程Ａ）、これを焼入処理する（工程Ｄ）。 - 特許庁

(D) After the process (C), the second layer 20U is arranged at a position above a sensor on the top surface of the first layer 20D.例文帳に追加

（Ｄ）工程（Ｃ）の後に、第一の層２０Ｄ上面におけるセンサ部の上方となる位置に、第二の層２０Ｕを配設する。 - 特許庁

In an imaging process, a variable density image of the electronic component D including the terminal T is imaged through cover tape P2 having translucency.例文帳に追加

撮像過程では、透光性を有するカバーテープＰ２を通して端子Ｔを含む電子部品Ｄの濃淡画像を撮像する。 - 特許庁