「d process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The processing system in the adjustment process includes a horizontal parallax correction function (a), a vertical parallax correction function (b), a left/right field inverse correction function (c), an image size adjustment function (d), an image angle adjustment (distortion correction) function (e), and a stereoscopic image reproduction position calculating function (f).例文帳に追加

調整プロセスにおける処理システム中に（ａ）水平視差補正機能、（ｂ）垂直視差補正機能、（ｃ）左右フィールドの逆転補正機能、（ｄ）画像サイズの調節機能、（ｅ）画像アングル調整（歪補正）機能、（ｆ）立体像再生位置計算機能が含まる。 - 特許庁

To provide an image sensor which comprises a light receiving element array and an A/D conversion circuit in a single IC chip, wherein it can be intended to efficiently execute such a high functional process as materializing a zoom-up function, and to make compact the image sensor, and increase its speed and accuracy.例文帳に追加

単一のＩＣチップに受光素子アレイとＡ／Ｄ変換回路とを備えるイメージセンサにおいて、ズームアップ機能を実現するなど高機能な処理を効率良く実行できるようにすること、及びイメージセンサの小型化，高速化，高精度化を図ること。 - 特許庁

Further, prior to the arithmetic processes of the D-mode arithmetic circuit and the T-mode arithmetic circuit, an arithmetic process of an arithmetic mode deciding circuit is conducted, and a fixed value is input to a not adaptive arithmetic circuit instead of an input pixel value to thereby reduce its power consumption.例文帳に追加

さらに、Ｄモード演算回路およびＴモード演算回路の演算処理に先立って演算モード判定回路の演算処理を行い、適応しない演算回路には入力画素値の代わりに固定値を入力することにより低消費電力化を図る。 - 特許庁

In the flat surface optical circuit having a plurality of optical path changing mirrors within a substrate, a mirror surface direction (β) is so set that the prescribed mirror angle (δ) can be obtained based on the positional relations (D and θ) on the vapor deposition source and the substrate surface in a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

基板内に複数の光路変換ミラーを有する平面光回路において、斜め蒸着工程における蒸着源と基板面上との位置関係（Ｄ，θ）をもとに、所定のミラー角度（δ）を得られるようにミラー面方向（β）を設定する。 - 特許庁

In the process of a goods transaction, the user information of the buyer 1 is used after identified by the ID D, so that the card number C and the like are protected against leakage through a communication network to a third party, the shopping site 3 and home delivery service 4 and that the credit card can be protected against a fraudulent use.例文帳に追加

商品の取引過程では、買い手（１）のユーザー情報をＩＤ（ニ）で特定して用いるので、カード番号（ハ）等が通信ネットワークを介した第三者や、ショッピングサイト（３）、宅配業者（４）に漏れず、クレジットカードの不正使用を防止できる。 - 特許庁

An electrode pad 150 where a silicon sticking symptom is likely to occur in a cleavage process is set in such a way that the length of a side thereof which is close to a cleaved portion in a plan view is longer than a dimension d in a direction parallel to the cleaved portion.例文帳に追加

そして、ヘキ開工程で、シリコーン付着現象を生じるおそれがある電極パッド１５０は、平面視において、ヘキ開された部分に近い辺の長さが、該ヘキ開された部分に平行な方向の寸法ｄよりも長くなるように設定されている。 - 特許庁

After a first compound nano-crystalline layer in which numerous grains of polycrystalline silicon and numerous silicon microcrystals are intermingled is formed by a nano-crystallization process, the first compound nano-crystalline layer is oxidized electrochemically, and an intense-field drift layer 6 is formed (Figure (d)).例文帳に追加

ナノ結晶化プロセスにより多結晶シリコンの多数のグレインと多数のシリコン微結晶とが混在する第１の複合ナノ結晶層を形成してから、第１の複合ナノ結晶層を電気化学的に酸化するこで強電界ドリフト層６を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

In an insertion process (b, c) for inserting a lead 22 into a through hole 11, the electronic component 2 is lowered in the step (c) to an insertion confirmation position where the insertion of the lead 22 into the through hole 11 is confirmed, and then the electronic component 2 is slightly elevated in a step (d).例文帳に追加

スルーホール１１にリード２２を挿入する挿入工程（ｂ、ｃ）で、リード２２がスルーホール１１に確実に挿入できたことを確認する挿入確認位置まで部品２を降下させた（ｃ）後、微上昇工程（ｄ）で部品２を僅かに上昇させる。 - 特許庁

Further, this image processor is able to perform more natural color reproduction since a process for putting the chromaticity of the target white point closer to the real chromaticity of white is carried out by making the value D smaller with the elapsed time after the start of color correction.例文帳に追加

さらに、本発明による画像処理装置は、色補正開始後、時間の経過とともにＤの値を小さくすることによって目標の白色点の色度を真の白の色度に近づける処理を行っているので、より自然な色再現が可能である。 - 特許庁

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in a process for planarizing a semiconductor integrated circuit having a barrier layer contains (A) colloidal silica particles, (B) hydrophilic benzotriazol derivative, (C) hydrophobic benzotriazol derivative, and (D) an oxidant.例文帳に追加

本発明の研磨液は、バリア層を有する半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、（Ａ）コロイダルシリカ粒子、（Ｂ）親水性のベンゾトリアゾール誘導体、（Ｃ）疎水性のベンゾトリアゾール誘導体、及び（Ｄ）酸化剤、を含有する。 - 特許庁

The each opening inside diameter D' of the solder resist layer reflected on the CAD data is converted as the CAM data into a mask pattern D_0 for the openings of the exposure mask for the photolithography to form the openings of a solder resist layer by a photolithographic process using a photosensitive resin.例文帳に追加

感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー工程によりソルダーレジスト層の開口を形成するために、ＣＡＤデータに反映されたソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’を、フォトリソグラフィー用露光マスクの開口用マスクパターン外径Ｄ_０に、ＣＡＭデータとして変換する。 - 特許庁

A forerunner in academia-industry cooperation, the United States has seen companies subject their R&D investment to a process of selection and concentration since the late 1980s,pursuing tie-up strategies in areas outside their core business.例文帳に追加

産学連携の先進事例である米国では、1980年代後半以降、企業において研究開発投資の「選択と集中」が行われ、コアでない分野での提携戦略が進んだが、その際の受け皿として重要な役割を果たしたのが大学であった。 - 経済産業省

Manufacturing and sales clearly comprise the bulk of offshore operations. In the R&D sector, however, which represents an upstream part of the manufacturing process with comparatively high added value, companies have just started to shift their operations abroad, and the level has yet to reach that of production bases.例文帳に追加

この図からは、進出のほとんどは①の製造・販売部門であり、比較的付加価値が高く製造プロセスの上流にあたる③の研究開発部門については近年進出が始まっているものの、生産拠点ほど進んでいないことがうかがえる。 - 経済産業省

This method for manufacturing the vane is for manufacturing the vane 30 having at least a part composed of a resin material and used for the oil rotary vacuum pump, and includes an oil impregnation process "c" for impregnating oil 90 used for the oil rotary vacuum pump into a roughly-machined product 32 before a final machining process "d" for finishing a final shaped product 30 to a final shape.例文帳に追加

このベーンの製造方法は、油回転真空ポンプに使用される、少なくとも一部が樹脂材料で構成されたベーン３０の製造方法であって、最終形状品３０を最終形状に仕上げる（ｄ）最終加工工程の前に、前記油回転真空ポンプに使用される油９０に減圧環境で粗加工品３２を浸漬する（ｃ）油含浸工程を有する。 - 特許庁

The cleaning agent for the copper wiring semiconductor is used in a process succeeding to chemical mechanical polishing in a semiconductor manufacturing process for forming the wiring of copper or a copper alloy, and contains, as essential components, a cyclic polyamine (A), a polyphenol-based reductant (B) containing 2 to 5 hydroxy groups, a quaternary ammonium hydroxide (C), an ascorbic acid (D), and water.例文帳に追加

銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって環状ポリアミン（Ａ）、水酸基を２〜５個含むポリフェノール系還元剤（Ｂ）、第４級アンモニウムヒドロキシド（Ｃ）、アスコルビン酸（Ｄ）、および水を必須成分とすることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 - 特許庁

The control method of the medical electronic device 1 has; a process for non-contactly detecting the object within the specific temperature range, located at the prescribed distance d from the operation section 10 responding to the prescribed operation; and a process for controlling the execution of the operation responding to the operation section 10 based on the signal when detecting the object within the specific temperature range.例文帳に追加

また、本発明は、所定の操作と対応する操作部１０から所定の距離ｄにある特定の温度範囲内の物体を非接触で検出する工程と、特定の温度範囲内の物体を検出した際の信号に基づき操作部１０と対応する操作の実行を制御する工程とを有する医療用電子機器１の制御方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the filter for display panels includes: function layer formation processes A, B for forming the electromagnetic material and the functional coating layer on the base material film successively, a conductive tape arrangement process C for arranging the conductive tape on the functional coating layer, and a knurling process D for performing knurling from the surface of the conductive tape for allowing the conductive tape to come into contact with the electromagnetic sealing material.例文帳に追加

基材フィルム上に、電磁波シールド材および機能性塗工層を順次形成する機能層形成工程（Ａ），（Ｂ）と、機能性塗工層上に導電性テープを配置する導電性テープ配置工程（Ｃ）と、導電性テープ表面からローレット加工を施して、導電性テープと電磁波シールド材とを接触させるローレット加工工程（Ｄ）と、を含む。 - 特許庁

This material discriminating method irradiating with light the material, of which the kind is unknown, to determine the material based on an absorption spectrum includes a process A converting a data d in the each spectrum into a binary coded data d2, and a process B for comparing the binary coded data of the sample (material) with a registered binary coded data ds in the each spectrum to calculate s consistency rate.例文帳に追加

種類が未知の材料に光を照射して吸収スペクトルを基に材質を判定する方法において、スペクトルの各波長のデータ（ｄ）を二値化データ（ｄ２）に変換する工程（Ａ）登録された各波長の二値化データ（ｄｓ）とサンプルの二値化データを比較しその一致率を算出する工程（Ｂ）を含むことを特徴とする材質の判別方法 - 特許庁

This controller 7 applies a band limiting operation to them, thereby separating signals in a target frequency band from signals in image frequency bands, outputs them to a characteristics compensator 8, generates a control signal C for controlling the on/off switching of an adaptive process in the characteristics compensator 8, and outputs it to the compensator 8 together with fixed coefficient data D instead of the adaptive process.例文帳に追加

特性補償器制御部７では、これに目的周波数帯域の信号とイメージ周波数に存在する信号とを分離する帯域制限を施して特性補償器８へ出力すると共に、特性補償器８の適応処理のＯＮ／ＯＦＦを制御する制御信号Ｃを生成し、適応処理に替わる固定係数データＤと一緒に特性補償器８へ出力する。 - 特許庁

The image processing part 36 is composed of a first masking part 50 for masking the image data output from an A/D (analog-digital convertor) 35; a PinP processing circuit 51 for executing the resolution conversion process and the PinP process for the masked image data; and a second masking part 52 for masking the image data output from the PinP processing circuit 51 again.例文帳に追加

画像処理部３６は、Ａ／Ｄ３５から出力された画像データに対してマスク処理を施す第１マスク処理部５０と、マスク処理が施された画像データに対して解像度変換処理とＰｉｎＰ処理とを行なうＰｉｎＰ処理回路５１と、ＰｉｎＰ処理回路５１から出力された画像データに対して再度マスク処理を施す第２マスク処理部５２とからなる。 - 特許庁

This method for producing the zoanthamine series alkaloid comprises synthesizing the zoanthamine series alkaloid such as norzoanthamine from a compound represented by the formula (R is H or CH_3; D is deuterium; TBS is tert-butyldimethylsilyl; Boc is tert-butoxycarbonyl; Me is methyl) as a starting raw material through six processes such as a process for removing two tert-butyldimethylsilyl groups and a process for selectively oxidizing the secondary hydroxy group.例文帳に追加

（ただし、ＲはＨまたはＣＨ_3 、Ｄは重水素、ＴＢＳはtert−ブチルジメチルシリル基、Ｂｏｃはtert−ブトキシカルボニル基、Ｍｅはメチル基を表す）で示される化合物を出発原料とし、その二つのtert−ブチルジメチルシリル基の除去および第二級ヒドロキシ基の選択的酸化を行う工程等の６工程を経てノルゾアンタミン等のゾアンタミン系アルカロイドを合成する。 - 特許庁

The protection tape P is integrally peeled with the peeling tape T from a direction where a groove (d) by dicing, which forms a pattern on the semiconductor wafer W, and a peeling line (h) becoming a boundary where the protection tape is peeled from the semiconductor wafer are not matched in a protection tape peeling process.例文帳に追加

半導体ウエハＷ上のパターンを形成するダイシングによる溝ｄと半導体ウエハから保護テープが剥離される境目となる剥離ラインｈとが保護テープ剥離過程で一致しない方向から保護テープＰを剥離テープＴと一体にして剥離してゆく。 - 特許庁

A memory 114 store d with a coefficient program 1142 which multiplies the light field image by a coefficient and an operation program 1142 which subtracts data of the light field image multiplied by the coefficient from the data of the composite image and a monitor 115 which displays the image process result obtained by the programs are connected.例文帳に追加

明視野画像に対して係数を乗算する係数プログラム１１４_2 と、複合画像のデータから係数が乗算された明視野画像のデータを減算する演算プログラム１１４_2 が格納されたメモリ１１４、プログラムによる画像処理結果を表示するモニタ１１５が接続されている。 - 特許庁

As for the manufacturing method of the above seed to which this invention is related, its process includes: a) preparing the sealed and self-support casing body, b) inserting a non-penetrated marker and/or packing if needed, c) sealing the casing and d) giving one or more coating if needed.例文帳に追加

本発明はさらに上記シードの製造方法に関し、その方法はａ）封止され自己支持性のケーシング本体を用意し、ｂ）必要に応じて放射線不透過のマーカー及び／又は充填物を挿入し、ｃ）ケーシングを封止し、ｄ）必要に応じて１以上の被覆を施す。 - 特許庁

In the digital camera 100, when an angular velocity sensor part 40 detects a shaking of the digital camera 100, a shaking decision part 30 detects a change of brightness information acquired by a brightness information processing part 20 targeting at all blocks B constituting a digital image D (brightness change detection process).例文帳に追加

デジタルカメラ１００では、角速度センサー部４０がデジタルカメラ１００の揺れを検出したときに、揺れ判断部３０は、デジタル画像Ｄを構成する全ブロックＢを対象に、輝度情報処理部２０で取得された輝度情報の変化を検出する（輝度変化検出処理）。 - 特許庁

In a preceding process which molds the cylindrical carcass 3 on a molding drum and inflates this carcass 3, an annular or divided regulating ring 7 with a diameter equal to or smaller than a diameter d of a belt is inserted from a tail side of the molding drum in a center part of a width direction of the carcass 3.例文帳に追加

成形ドラム上で、円筒状のカーカス３を成形し、このカーカス３をインフレートする前工程で、該カーカス３の幅方向中心部に、成形ドラムのテール側からベルト径ｄと同じか、またはそれよりも小径な環状または分割された規制リング７を挿入する。 - 特許庁

In a die 31 at the lower side in an intermediate forming process, since the width W1 of the interval at the upper opening end of an inclining restricted surface 311 is largely formed a little rather than the outer diameter size D of the outer periphery 11 of a first rack blank 1, the upper half part of the rack blank 1 has no binding force at the forming time.例文帳に追加

中間成形工程の下側のダイ３１は、傾斜拘束面３１１の上方開口端間の幅Ｗ１が、第１のラック素材１の外周１１の外径寸法Ｄよりも若干大きく形成されているため、ラック素材１の上半分は、成形時の拘束力が無い。 - 特許庁

A memory control unit performs access requests to a plurality of banks A to D for a high-speed module 1 according to settings of the high-speed module 1, and subsequently performs an access request to a bank for a low-speed module 2 after completion of a process of consecutive access requests for the high-speed module 1.例文帳に追加

メモリ制御部により、高速モジュール１の設定に従い、該高速モジュール１に対して複数バンクＡ〜Ｄへのアクセス要求を、該高速モジュール１に対する連続したアクセス要求の処理後に低速モジュール２に対するバンクへのアクセス要求を行うようにした。 - 特許庁

The process for producing the valve metal powder includes the steps of: (a) producing a precursor of desired morphology; (b) converting the precursor into an oxide of the valve metal; (c) stabilizing the structure of the oxide by heat treatment; and (d) reducing the stabilized oxide while retaining the morphology.例文帳に追加

ａ）所望の形態の前駆物質の製造、ｂ）バルブ金属の酸化物への前駆物質の変換、ｃ）熱処理による酸化物の構造の安定化およびｄ）形態を維持しながら行う、安定化された酸化物の還元の工程を含む、バルブ金属粉末の製造法。 - 特許庁

This phospholipid base exchange method comprises a process for reacting the phosphatidylethanolamine as a substrate with a receptor alcohol selected from the group consisting of alcohols, nitrogen-containing alcohols, saccharides, polyols and hydroxycyclic hydrocarbon compounds in the presence of a phospholipase D originated from an actinomyces as a catalyst to advance the phosphatidyl group transfer reaction.例文帳に追加

基質としてホスファチジルエタノールアミンを用い、アルコール類、含窒素アルコール類、糖類、ポリオール類、およびヒドロキシ環状炭化水素化合物からなる群より選ばれる受容体アルコールを、放線菌由来のホスフォリパーゼＤを触媒として反応させ、ホスファチジル基転移反応を進行させること。 - 特許庁

A process for forming more than one layer of laminated layer units a to d is executed by filling first metals 13a to 13d in through patterns after forming resists 12a to 12d having the through patterns on a substrate 11 conductive or having a conductive film on the surface.例文帳に追加

導電性または表面に導電性の膜を有する基板１１上において、貫通パターンを有するレジスト１２ａ〜１２ｄを形成した後に、貫通パターンに第１の金属１３ａ〜１３ｄを充填して、積層単位ａ〜ｄを１層以上形成する工程を実施する。 - 特許庁

A pixel electrode 21 and a drain electrode D of a TFT are electrically connected to each other through a contact hole 22, and a second opening 19a is formed simultaneously with cleaning in a cleaning process using a solution of hydrofluoric acid before the pixel electrode is formed.例文帳に追加

画素電極２１とＴＦＴのドレイン電極Ｄは層間樹脂膜２０に設けられたコンタクトホール２２を経て電気的に接続されており、この第２開口部１９ａは画素電極形成前のフッ酸溶液による洗浄工程により洗浄と同時に形成される。 - 特許庁

This method for cleaning in the paper making and screening process, an aqueous dispersion liquid consisting essentially of D-limonene and caustic soda is added to a screening system and circulated to remove impurities derived from each chemical consisting essentially of the sizing agent.例文帳に追加

抄紙精選工程における洗浄方法において、精選系に主としてＤ−リモネンおよび苛性ソーダからなる水性分散液を添加し、回流させてサイズ剤を主体とした各薬品に由来する不純物を除去することを特徴とする抄紙精選工程における洗浄方法。 - 特許庁

When a contact hole 13 is to be formed with plasma dry-etching process of an insulation film 11 formed on a silicon substrate 10 within an evacuable chamber, pressure within the chamber (point a) is raised to make small the pressure difference from the pressure at the points (b, c, d, e) within the contact hole 13 under formation.例文帳に追加

減圧可能なチャンバー内でシリコン基板１０上の絶縁膜１１をプラズマドライエッチング処理してコンタクトホール１３を形成する際に、前記チャンバー内（ａ点）の圧力を、形成されつつあるコンタクトホール１３の内部（ｂ，ｃ，ｄ，ｅ点）との圧力差が小さくなるように上昇させる。 - 特許庁

In order to form an opening of a solder resist layer by a photolithography process employing photosensitive resin, the inside diameter D' of the opening of the solder resist layer reflected on CAD data is converted, as CAM data, into the outside diameter D_0 of a mask pattern for the opening of an exposure mask for photolithography.例文帳に追加

感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー工程によりソルダーレジスト層の開口を形成するために、ＣＡＤデータに反映されたソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’を、フォトリソグラフィー用露光マスクの開口用マスクパターン外径Ｄ_０に、ＣＡＭデータとして変換する。 - 特許庁

The invention provides a process for producing the emulsion, including steps of continuously charging an aqueous solution (1) containing a water-soluble inorganic salt (a) and a mixture solution (2) containing a surfactant (b), a surfactant-emulsifying agent (c) and hydrophilic powder (d) into a mixer to obtain the emulsion in which the surfactant (b) is emulsified.例文帳に追加

水溶性無機塩（ａ）を含有する水溶液（１）と、界面活性剤（ｂ）、界面活性剤用乳化剤（ｃ）及び親水性粉体（ｄ）を含有する混合液（２）とを、連続的に混合機に投入することにより、界面活性剤（ｂ）が乳化した乳化液を得る、乳化液の製造方法。 - 特許庁

In the circuit, a digital attenuator 5 to perform a digital attenuating process with increasing a data length (16 bits) of a digital signal from a digital signal processing circuit 1 or an A/D conversion circuit 2 selected by an operation of a switching circuit 3 to multiply a predetermined factor to the digital signal is equipped.例文帳に追加

スイッチ回路３を作動させることによって選択されたデジタル信号処理回路１またはＡ／Ｄ変換回路２からのデジタル信号のデータ長（１６ビット）を３２ビットに増大し、これに所定係数を掛け合わせることによってデジタル減衰処理を施すデジタルアッテネータ５を設ける。 - 特許庁

A process controller 11 in a film forming apparatus 1 produces a calibration curve of a film formation rate which shows relation between: the difference between (Ii/Ie)_0 when only delivery gas is conducted to an ion gauge 10 and (Ii/Ie) when organic material and delivery gas are conducted to the same; and a film formation rate D/R.例文帳に追加

成膜装置１のプロセスコントローラ１１は、イオンゲージ１０に搬送ガスのみを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）_0 と、有機材料及び搬送ガスを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）との差と、成膜速度Ｄ／Ｒとの関係を示す成膜速度検量線を作成する。 - 特許庁

A refreshing control part raises a flag to a memory and reserves the execution of the refreshing process (step 4) when the number of sheets of paper with the toner transferred reaches a number which is specified beforehand (YES in step 2) and when an average value D of printing ratio at this time is smaller than a value which is specified beforehand (YES in step 3).例文帳に追加

リフレッシュ制御部は、トナーが転写された用紙の枚数が、予め定める数になり（ステップＳ２でＹＥＳ）、このときの印字率の平均値Ｄが、予め定める値よりも小さい場合（ステップＳ３でＹＥＳ）、メモリーにフラッグを立てて、リフレッシュ工程の実行を予約する（ステップＳ４）。 - 特許庁

Or, when operation of the device is stopped at any positions in the period from a supply process through the coating stage B to a first position 11 of the device D for stacking and separating disks, the operation of the device in the downstream side from the first position 11 is continued.例文帳に追加

また、供給工程から塗布ステージＢを経てディスク積層・分離装置Ｄの第一の位置１１に搬送されるまでの間において、いずれかの箇所で装置の作動が停止した場合、第一の位置１１よりも下流側においては装置の作動をそのまま続行させるようにした。 - 特許庁

The video signal (primary-color RGB) generated by an image pickup part 13 of an electronic still camera is converted by an A/D converter 14 into primary-color RGB data, which are supplied to an RGB correcting process part 16 for printing and a conversion look-up table 17 respectively.例文帳に追加

電子スチルカメラの撮像部１３で撮像した映像信号（３原色ＲＧＢ）をＡ／Ｄ変換器１４で３原色ＲＧＢデータに変換し、この３原色ＲＧＢデータを印刷用ＲＧＢ補正処理部１６と変換ルックアップテーブル１７にそれぞれ供給する。 - 特許庁

The method of forming the polysilicon layer comprises (a) a step of preparing a substrate, (b) a step of forming a barrier layer on the substrate, (c) a step of forming a porous layer on the barrier layer, (d) a step of forming an amorphous silicon layer on the porous layer, and (e) a step of carrying out a laser annealing process.例文帳に追加

ポリシリコン層製造方法は、（ａ）基板を設けるステップと、（ｂ）基板上にバリア層を形成するステップと、（ｃ）バリア層上に多孔質層を形成するステップと、（ｄ）多孔質層上にアモルファスシリコン層を形成するステップと、（ｅ）レーザアニールプロセスを行うステップと、を備えている。 - 特許庁

To provide a highly reliable inverter device which can exactly process an analog input signal while effectively utilizing a resolution of an A/D converter when using an analog setting input terminal which commonly uses an analog voltage input terminal and an analog current input terminal.例文帳に追加

アナログ電圧入力端子およびアナログ電流入力端子を共用したアナログ設定入力端子を用いた場合に、Ａ／Ｄ変換器の分解能を有効活用しながらアナログ入力信号を正確に処理できるようにした信頼性の高いインバータ装置を提供する。 - 特許庁

A stock solution D, as a waste liquid, containing iodine ions generated in a process using at least either of iodine and an iodine compound, is fed to a stock solution chamber 6 disposed between a first anion exchange membrane A_1 and a first cation exchange membrane K_1 of an electrodialysis tank 1.例文帳に追加

電気透析槽１の第１の陰イオン交換膜Ａ_１と第１の陽イオン交換膜Ｋ_１との間の原液室６に、ヨウ素およびヨウ素化合物の少なくとも一方を使用した工程にて生成したヨウ素イオンを含む廃液としての原液Ｄを供給する。 - 特許庁

The control voltage converted by the D/A converter 51 is inputted in the CPU 50 through a multiplexer 58, and compared with the digital information, thereby detecting occurrence of abnormality by noise or the like in a process in which the digital information is converted into the control voltage.例文帳に追加

Ｄ／Ａコンバータ５１にて変換された制御電圧は、マルチプレクサ５８を介してＣＰＵ５０に入力され、上記デジタル情報と比較され、これによって、上記デジタル情報が制御電圧に変換される過程でノイズ等による異常が生じたことが検出される。 - 特許庁