「d process」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Holding power of the holding means 6 is set in the size for allowing the rotational separation with the second shaft 5 of the third hinge element 3 as the center, when closing directional force of the predetermined size or more acts on the door D, when the fingers Z are nipped between the door D and the door frame F in a process of closing the door D.例文帳に追加

保持手段６の保持力が、扉Ｄを閉める過程で扉Ｄと扉枠Ｆとの間に手指Ｚなどが挟まった場合において所定の大きさ以上の閉じ方向の力が扉Ｄに作用されているときに、第三ヒンジ要素３の第二軸５を中心とした回動離れ出しを許容する大きさにしてある。 - 特許庁

After the sucking process, the four pads A, B, C and D are independently vertically moved to the arm 21 while raising the arm 21 so that the pads A, B, C and D adjacent at least in the edge directions are non-synchronous.例文帳に追加

この吸着工程の後、アーム２１を上昇させながら少なくとも辺方向で隣接する真空吸着パッドＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ同士が非同期となるように、四つの真空吸着パッドＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄをアーム２１に対して独立に上下動させる。 - 特許庁

The slurry gas hydrate (d) is allowed to flow down in a 2nd reaction tank 3 filled with natural gas (c) to form a powdery gas-hydrate (d") and the reaction heat generated by the process is removed with a cooler 25(19) attached to the 2nd reaction tank.例文帳に追加

このスラリー状のガスハイドレートｄを、天然ガスｃが充満している第２反応槽３内に流下させて粉体状のガスハイドレートｄ”を生成すると共に、その時に発生する反応熱を第２反応槽に付随する冷却器２５（１９）で除熱する。 - 特許庁

A chemical and mechanical polishing method is constituted of a process to travel a tape T having voids on its surface by pushhing it on a surface of a glass substrate D while supplying a coolant L to which a solution having a hydroxyl group is added to the surface of the glass substrate D.例文帳に追加

水酸基を有する溶液を添加したクーラントＬをガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、表面に空隙を有するテープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて走行させる工程、から構成される化学的機械的研磨加工方法。 - 特許庁

Additionally, the "winding connection process" performs welding, while pressing the claw portion 8b engaged with the winding 4a, inward in the radial direction with an electrode D for welding, thus bending the bending fulcrum portion 8d by the pressing force of the electrode D for welding.例文帳に追加

そして、「巻線接続工程」は、溶接用電極Ｄによって、巻線４ａが係合された爪部８ｂを径方向内側に押圧しながら溶接を行うものであって、溶接用電極Ｄによる押圧力によって、屈曲支点部８ｄを屈曲させながら行う。 - 特許庁

The scalar multiple value calculation part carries out the process of having as a scalar multiple value E_mG obtained by subtracting the sum of all E_d(1), ..., _d(M)G with the d(m) value of -1 from the sum of all E_d(1), ..., _d(M)G with the d(m) value of 1 for m=1 to M.例文帳に追加

スカラー倍値計算部は、ｄ（ｍ）の値が１であるすべてのＥ_ｄ（１），…，ｄ（Ｍ）Ｇの和から、ｄ（ｍ）の値が−１であるすべてのＥ_ｄ（１），…，ｄ（Ｍ）Ｇの和を減算した値をスカラー倍値Ｅ_ｍＧとする処理を、ｍ＝１からＭに対して行う。 - 特許庁

The method includes a process of monitoring patients or samples obtained from the patients regarding at least one of a) the number and/or activity of effector cells, b) the number and/or activity of regulator cells, c) molecules associated with diseases, and d) immune markers.例文帳に追加

患者またはそこから得たサンプルを、a）エフェクター細胞の数および/もしくは活性、b）調節細胞の数および/もしくは活性、c）疾患に関連する分子、ならびに/またはd）免疫系マーカーのうち、少なくとも1つについてモニタリングする工程を含む、方法 - 特許庁

Preferably the specimen or the test solution is cultured by also using a process for culture in the presence of isopropyl-β-D-thiogalactopyranoside(IPTG) and/or by using a fluorescent substrate having excellent sensitivity to β-galactosidase as (5) a substrate, preferably 4-methylumbelliferyl-β-D-galactoside.例文帳に追加

イソプロピル−β−Ｄ−チオガラクトピラノサイド（ＩＰＴＧ）の存在下で培養する、および／または（５）基質としてβガラクトシダーゼの感度の良い蛍光基質、好ましくは４−メチルウンベリフェリル−β−Ｄ−ガラクトシドを用いて培養する工程と併用することが好ましい。 - 特許庁

After a plurality of holes (D) deployed in a grid pattern are prepared and a filling material (F) is blended by mixing soluble polymer with light-emitting material powder to fill those holes (D), the scintillator layer for X-ray detectors is manufactured through a treating process to cure the polymer.例文帳に追加

格子状に配列した多数の孔（Ｄ）を用意し、可溶性ポリマを発光物質粉末と混合することにより充填材（Ｆ）を調合して、それらの孔（Ｄ）を満たし、ポリマを硬化させる処理工程により、Ｘ線検出器用シンチレータ層を製造する。 - 特許庁

During the interruption of the driving operation by the driver, the index c2 for guiding the driving operation in a process to be executed following the process before the interruption is overlaid as an object index and emphasized more than the other indexes a, c, d.例文帳に追加

運転者による運転操作が中断中の時は中断前の工程に続いて実行される工程における運転操作を案内する指標ｃ２が対象指標として他の指標ａ、ｃ、ｄよりも強調して重畳表示される。 - 特許庁

The method for manufacturing the silicon boat for supporting a semiconductor wafer W during thermal process comprises: a process of forming a silicon material into a boat by mechanical processing; and a process of removing or thinning a damaged layer D on the surface of the silicon material created by the mechanical processing.例文帳に追加

半導体ウェーハＷの熱処理時に半導体ウェーハを支持するシリコン製のボートの製造方法であって、機械加工によりシリコン材料をボートの形状に成形する工程と、前記機械加工で生じた前記シリコン材料の表面のダメージ層Ｄを除去又は薄くする工程とを有する。 - 特許庁

A method for manufacturing a wiring board 100 includes (a) a process of forming trenches 11 on a board 10, (b) a process of forming a surfactant layer 17 inside the trenches 11, (c) a process of forming a catalyst layer 32 containing a catalyst on the surfactant layer 17, and (d) a process of forming a metal layer 36 on the catalyst layer 32 by metal deposition.例文帳に追加

本発明にかかる配線基板１００の製造方法は、（ａ）基板１０に溝１１を形成する工程と、（ｂ）前記溝の内部に界面活性剤層１７を形成する工程と、（ｃ）前記界面活性剤層上に触媒を含む触媒層３２を設ける工程と、（ｄ）前記触媒層上に金属を析出させることによって金属層３６を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

In step S13, when the number of remaining trackings is equal to or more than the threshold value D, the process is determined not normal as a rough seeking operation to execute voltage learning processing (step S16).例文帳に追加

ステップＳ１３において、残りトラッキング本数が閾値Ｃ本以上である場合には、粗シーク動作として正常ではないと判定して、電圧学習処理を実行する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

The production method for the side panel includes a process of simultaneously press-working the upper and lower parts 10 and 20 in such a state as to dispose the corner part D of the lower part 20 inside the recess E of the upper part 10.例文帳に追加

上部部品１０の凹部Ｅの内部に、下部部品２０の角部Ｄを配置した状態で、上部部品１０と下部部品２０を同時にプレス加工する工程を含む。 - 特許庁

In a first process, a cutter is lowered by a distance Y1 toward the axis of the spool, and a land 6 is cut so that cutting depth of the other end 6a of the land equals to a set value D or shorter.例文帳に追加

第１工程で、スプールの軸に向かって距離Ｙ１分、カッターを下ろして、ランドの他端６ａの削り深さが設定値Ｄ以下になるようにランド６を切削する。 - 特許庁

In the process (d), the second conductive layer 18 and the ferroelectric layer 14 are formed in regions where the first conductive layer 12 and the third conductive layer 16 cross each other.例文帳に追加

前記工程（ｄ）において、前記第２導電層１８および前記強誘電体層１４は、前記第１導電層１２と、前記第３導電層１６との交差領域に形成される。 - 特許庁

The neutralization is carried out in the presence of one of the components (B) and (C), and the component (D), and the components (B) and (C) are fed to the preparation process of the molten soap as aqueous solutions.例文帳に追加

当該中和は、成分（Ｂ）及び（Ｃ）の何れかと、成分（Ｄ）とのの存在下に行い且つ成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を水溶液として溶融石鹸の調製過程に供給する。 - 特許庁

A sign of a product of current speed v_r(k) of a steering shaft and a parameter D is determined in step 270, and a process is moved to step 290 when it is positive and is moved to step 280 if not.例文帳に追加

ステップ２７０では、今回の転舵軸の速度ｖ_r （ｋ）と変数Ｄとの積の符号を判定し、それが正ならばステップ２９０に、そうでなければステップ２８０に処理を移す。 - 特許庁

The pressing direction of the pressing mechanism 110 is inclined with respect to a line segment OD connecting a center O of the photoreceptor bearing 303 and a pressing position D at which the pressing mechanism 110 presses the process cartridge 30.例文帳に追加

この押圧機構の押圧方向を、感光体軸受３０３の中心Ｏから、押圧機構１１０が、プロセスカートリッジ３０を押圧する押圧位置Ｄとを結んだ線分ＯＤに対して、傾かせた。 - 特許庁

A dodging evaluation value acquisition section 104 smoothes the dynamic range of an overall image data on an image signal output from an A/D converter 102, so as to perform a dodging process.例文帳に追加

覆い焼き評価値取得部１０４は、Ａ／Ｄ変換部１０２から出力された画像信号に対して画像データ全体のダイナミックレンジを平滑化して、覆い焼き処理を行う。 - 特許庁

Concurrently with head control in a normal state, a CPU 22 regularly executes a process of determining a retract control amount in accordance with the head position and outputting to a D/A converter 218.例文帳に追加

ＣＰＵ２２は、通常状態においてヘッド制御と並行して、ヘッド位置に応じたリトラクト制御量を決定してＤ／Ａ変換器２１８に出力する処理を定期的に実行する。 - 特許庁

During the last process of the anodization C to D in forming the porous layer 12, intermittent energization is performed by repeatedly energizing and non-energizing the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

そして、多孔質層１２を形成する工程の最後の陽極化成処理ＣからＤにおいて、半導体基体表面への通電と停止とを繰り返す間欠通電を行う。 - 特許庁

To provide a piezoelectric oscillator, especially a crystal oscillator for a clock, provided with a package structure capable of coping with the allocation of an output enable/output disable (designated as "E/D", hereafter) function by a simple manufacture process and production management.例文帳に追加

Ｅ／Ｄ用機能の割当てを簡潔な製造工程および生産管理で対応することができるパッケージ構造を備える圧電発振器、特にクロック用水晶発振器を得る。 - 特許庁

A process gas supplying unit 70 is constitute by installing various component parts E onto a large number of compact and integrated blocks A to D and connecting channels in the blocks A to C to one another.例文帳に追加

プロセスガス供給ユニット７０は、小型・集積化された多数ブロックＡ〜Ｄ上に各種コンポーネント部品Ｅを取り付け、各ブロックＡ〜Ｃ内部の流路を相互に接続して構成される。 - 特許庁

The large amount of water droplets are brought into contact with air in a process in which the water droplets are spirally lowered in the flow of the blade tip vortex Y and the downwash D to form low-temperature air as the water droplets are vaporized.例文帳に追加

多量の水滴を、翼端渦ＹおよびダウンウォッシュＤの流れの中で旋回降下させる過程で空気に接触させ、該水滴の気化に伴い低温空気を形成する。 - 特許庁

An image process part 5 contains a gain correction part, and makes a gain value null with respect to data of the other colors excluding data of 1 color out of image data output from the A/D conversion circuit 4.例文帳に追加

画像処理部５はゲイン補正部を含み、Ａ／Ｄ変換回路４から出力される画像データのうち１色のデータを除く他の色のデータに対するゲイン値を０にする。 - 特許庁

The manufacturing method of the anode active material for lithium-ion battery is such that by adding and calcinating a carbon material during a manufacturing process of a compound, having the composition formula (1): Li_aV_bM_cO_2+d....例文帳に追加

下記組成式（１）を有する化合物の製造工程において、炭素材料を添加し焼成することを特徴とするリチウムイオン電池用負極活物質の製造方法である。 - 特許庁

In the second process, the side wall surface E of the recessed part C' is formed with the inner teeth F' and a part opposing to the inner teeth F' of the upper surface of the protruded part D' is collapsed in the direction of the inner teeth F'.例文帳に追加

第２の工程では、凹部Ｃ′の側壁面Ｅに内歯Ｆ′を形成するすると共に、凸部Ｄ′の天面の内歯Ｆ′と対抗する部分を内歯Ｆ′方向につぶす。 - 特許庁

To provide a process for producing N-acetyl-D-glucosamine safe to human body in high production efficiency using an enzyme acting on an amorphous chitin as a substrate.例文帳に追加

人体に対して安全なＮ−アセチル−Ｄ−グルコサミンを効率良く製造できる、非晶質のキチンを基質とする酵素によるＮ−アセチル−Ｄ−グルコサミンの製造方法を提供する。 - 特許庁

A layout changing section 50 evaluates the extent of the plasma damage from the damage index D, calculated by the section 40 and performs process of changing the layout of a semiconductor device.例文帳に追加

レイアウト変更部５０は、指数加算部４０による算出された損傷指数Ｄからプラズマ損傷の度合いを評価し、半導体装置のレイアウトを変更するための処理を実施する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a selective irradiation process irradiating UV 24 in a state that an UV mask and a resist layer 22 on a substrate 21 are separated only by a distance d (Selection figure (b)).例文帳に追加

当該製造方法は、ＵＶマスクと基板２１上のレジスト層２２との間を距離ｄだけ離間させた状態で紫外線２４を照射する選択照射工程を含む（選択図（ｂ））。 - 特許庁

The urea-synthesizing process D is provided by putting the ammonia type artificial zeolite with carbon dioxide in a high temperature pressurized oven (an autoclave) at 100 to 150°C and 15 to 25 MPa pressure, to synthesize urea.例文帳に追加

尿素合成工程Ｄは、アンモニア型人工ゼオライトと二酸化炭素を温度１００〜１５０℃、圧力１５〜２５ＭＰａの高温圧力釜（オートクレーブ）に入れて尿素を合成する - 特許庁

To provide a resistance film type touch panel device having a function of detecting failures of a coupling cable, a touch panel element and an A/D converter when an equipment is operating or in an assembling process.例文帳に追加

機器稼動中や組立工程における接続ケ−ブル、タッチパネル素子、およびＡ／Ｄ変換器の故障を検知する機能を備えた抵抗膜式のタッチパネル装置を提供する。 - 特許庁

At this time, since the wafer W is rotated, the developer D is stirred to suppress the generation of the temperature distribution of the developer D in the surface of the wafer W, and then development unevenness due to a temperature difference is suppressed, and a uniform developing process can be performed.例文帳に追加

この際ウエハＷを回転させているので現像液Ｄが攪拌され、こうしてウエハＷの面内における現像液Ｄの温度分布の発生が抑えられて、温度差が原因となる現像ムラの発生が抑制され、均一な現像処理を行うことができる。 - 特許庁

The first MPEG image data is reproduced up to the position (a) of the first MPEG image data, a re-encoded MPEG image data of the joining section (A) is reproduced, then the process is joined to the position (d) of the second MPEG image data, and the second MPEG image data is reproduced from the position of (d).例文帳に追加

そして、第１のＭＰＥＧ画像データのaの位置までは第１のＭＰＥＧ画像データの再生を行い、次に繋ぎ区間Ａの再符号化ＭＰＥＧ画像データを再生し、その後、第２のＭＰＥＧ画像データのｄの位置へ接続してｄ以降の第２のＭＰＥＧ画像データを再生する。 - 特許庁

The manufacturing process of the polylactic acid stereo complex body comprises a step in which a polylactic acid stereo block copolymer containing an L-lactic segment and a D-lactic segment, a poly-L-lactic acid and a poly-D-lactic acid and a step in which the mixture obtained forms the stereo complex.例文帳に追加

Ｌ−乳酸セグメントとＤ−乳酸セグメントとを含むポリ乳酸ステレオブロック共重合体、ポリ−Ｌ−乳酸およびポリ−Ｄ−乳酸とを混合する工程と、得られた混合物がステレオコンプレックス形成する工程とを含む、ポリ乳酸ステレオコンプレックス体の製造方法である。 - 特許庁

This process aims to reduce risk in the research and development of cutting-edge technology by initiating R&D trends such as sharing technical roadmaps developed through discussions on specific technical issues with a view to establishing joint R&D activities with educational institutions and venture companies.例文帳に追加

また、特定の技術的課題について議論して策定した技術ロードマップを共有して、大学やベンチャー企業等と共同で研究開発する等、技術開発の流れを主導することで、先端分野における研究開発のリスクを低減しようとするねらいもある。 - 経済産業省

In the D/A converter, an output load resistor is composed of a resistor element and a switch which can be formed by a semiconductor process, and incorporated in the D/A converter for the wafer-level burn-in test.例文帳に追加

そして、ウエハ状態でバーンイン試験（ウエハ・レベル・バーンイン試験）を実施する場合には、半導体チップ上のパッド間隔が狭い等の制約により、ウエハに抵抗器や配線を接続するスペースを確保できないことが多く、Ｄ／Ａコンバータのウエハ・レベル・バーンイン試験の実施が困難なものになっていた。 - 特許庁

This method includes a removing process of removing out of the exposed surface of the sanitary ware 10, a surface portion at least containing a contaminated region H where the dirt D adheres or which is impregnated with the dirt D by polishing, and a coat forming process of applying a coating agent countering silicone to a region at least containing the polished region to which polishing is performed.例文帳に追加

衛生陶器１０の露出面のうちで、汚物が付着若しくは含浸した汚染部位Ｈを少なくとも含む面部分を研磨によって除去する除去工程と、衛生陶器の露出面のうちで、研磨が施された研磨部位３５を少なくとも含む部位にシリコーンを含有するコーティング剤を塗布して、硬化塗膜を形成する塗膜形成工程と、を備える。 - 特許庁

This pretreatment solution B is produced by adding 0.01-0.5 wt.% of ascorbic acid D (reducing agent) to a pretreatment solution raw material C followed by mixing in a mixing process 11, and heating the mixture at 35-60°C for 0.5-120 min, while depressurizing to 7-0 KPa in a heating depressurizing process 12.例文帳に追加

下処理液原料Ｃに、アスコルビン酸Ｄ（還元剤）を０．０１〜０．５％添加し、混合工程１１で混合し、次いで、加熱減圧工程１２で７〜０ＫＰａに減圧しながら、３５〜６０℃で０．５〜１２０分加熱して下処理液Ｂを製造する。 - 特許庁

Since an inner shell preform cured up to a curing depth of 10% by a preheating curing process C has high dimensional precision by the rising of surface hardness, it certainly functions as a core when a contour preform is molded by a contour preform molding process D.例文帳に追加

予備加熱硬化工程Ｃにより１０％の硬化深度まで硬化された内殻プリフォームは、表面硬度の上昇により高い寸法精度を有するため、外郭プリフォーム成形工程Ｄにより外郭プリフォームを成形する際の中子として確実に機能する。 - 特許庁

Then the process moves to S5 wherein the shortest distance d between the position of the apex of the cornea and the edge of the pupil is acquired and the process moves to S6 when the value thereof is the minimum measurable radius of the pupil r or below, or to S7 when the value thereof is beyond the minimum measurable radius r.例文帳に追加

Ｓ５に移行し角膜頂点位置から瞳孔縁までの最短距離ｄを求め、その値が測定可能最小瞳孔半径ｒ以下の場合にはＳ６に移行し、測定可能最小瞳孔半径ｒ以上であればＳ７に移行する。 - 特許庁

The intermediate 11 is washed for removing the lubricant from the recessed portions D (a first washing process), and the intermediate 11 is inserted into a correcting metal mold for correction and the shape of the correcting metal mold is transferred thereto to grant desired shaping precision (a correcting process).例文帳に追加

中間体１１を洗浄して凹部Ｄ内の潤滑油を除去し（第一の洗浄工程）、中間体１１を矯正金型に挿入して矯正を施し、矯正金型の形状を転写して、所望の形状精度を付与する（矯正工程）。 - 特許庁

The thermosensitive composition can form an image without removing a material and does not need a development process after an exposing process against heat while containing (a) a changeable polymer, (b) an infrared ray absorbing agent, (c) a triazine compound and (d) a novolak resin.例文帳に追加

材料を除去することなく画像を形成する感熱性組成物であって、熱に対する暴露工程後に現像処理を必要とせず、かつａ）切替可能性ポリマー、ｂ）ＩＲ吸収剤、ｃ）トリアジン化合物、およびｄ）ノボラック樹脂を含有する感熱性組成物。 - 特許庁

In this navigation system, the audio part 4 reads the navigation data for the recording medium from the recording medium D to process the map data needed for the vehicle travel supporting process and transmit it to the navigation arithmetic part 2 in response to the demand of the navigation arithmetic part 2.例文帳に追加

このナビゲーションシステムにおいて、オーディオ部４は、ナビゲーション演算部２からの要求に応じて、記録媒体Ｄから記録媒体用ナビゲーションデータを読み込んで車両走行支援処理に必要な地図データに加工してナビゲーション演算部２に送信する。 - 特許庁