「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

When this process cartridge is mounted to an apparatus body, a development separation rib on the process cartridge side is projected by action of a projecting part on the body side, and thereafter a drum is separated from a development roller by action of a first force-imparting member on the body side.例文帳に追加

プロセスカートリッジを装置本体に装着した際に、本体側の突出部が作用してプロセスカートリッジ側の現像離間リブを突出させた後、本体側の第１力付与部材が作用してドラムと現像ローラの離間を行う。 - 特許庁

The second storage selects to execute a process to an external device by the cache control parts or to connect with the first storage device through the protocol conversion parts without executing the process to the external device by the cache control parts.例文帳に追加

第二のストレージは、キャッシュ制御部で外部デバイスに対する処理を実行するか、キャッシュ制御部で外部デバイスに対する処理を実行することなくプロトコル変換部を介して第一のストレージ装置と接続するかを選択する。 - 特許庁

The method for continuously deactivating enzyme via microwave irradiation comprises a first process of drying the object to be subjected to enzyme deactivation, and a second process of irradiating microwaves to the dried object which is to be subjected to enzyme deactivation for cutting of protein molecules.例文帳に追加

酵素失活対象物を乾燥させる第一の工程と、乾燥させた酵素失活対象物にマイクロ波を照射してタンパク分子を切断する第二の工程とからなることを特徴とする酵素失活方法とする。 - 特許庁

A method for improving mixed raster compression segmentation utilizes a second stage of a process to generate the MRC selector plane by operating on a multibit selector (gray sel) which is produced by a first stage process.例文帳に追加

混合ラスタ圧縮セグメント化を改良する方法は、第１ステージの工程により生成されるマルチビットのセレクタ（ＧｒａｙＳｅｌ）上で作動することにより、ＭＲＣセレクタプレーンを生成する第２の工程のステージを利用する。 - 特許庁

This cryopump 10 alternately performs a cryopumping process for discharging gas by adsorbing discharged gas containing a first and a second gases to an adsorbent and a re-generating process for discharging gas by desorbing the adsorbed gas from the adsorbent.例文帳に追加

クライオポンプ１０は、第１及び第２の気体を含む被排気気体を吸着剤に吸着することで排気するクライオポンピング処理と、吸着された気体を吸着剤から脱着して排出する再生処理とを交互に行う。 - 特許庁

Meanwhile, the phrase 'gohyaku-senman-oku nayuta asogi' of the Juryo-bon ((one of) 'honmon,' or primordial later 14 chapters of the Lotus Sutra) is called Gohyaku (oku)-Jintengo (literally, fifty billion is like a piece of dust in the infinite timeframe), suggesting (the process of Siddhartha's becoming Buddha is far more prolonged process than Sanzen-Jintengo in the Kejoyu-bon ((one of) 'shukumon,' or the first 14 chapters of the Lotus Sutra). 例文帳に追加

これに対し、寿量品（本門）の「五百千万億那由他阿僧祇」を、五百（億）塵点劫と称して、化城喩品（迹門）の三千塵点劫よりもはるかに長遠であるかが示されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The method is characterized in that the cooling speed of the steel tube in the first cooling process is decided according to the thickness of the steel tube so that the recovery heat-quantity of the outer surface temperature of the steel tube in the second cooling process becomes ≤50°C.例文帳に追加

そして、前記第２冷却工程における鋼管の外面温度の復熱量が５０℃以下となるように、前記第１冷却工程における鋼管の冷却速度を鋼管の肉厚に応じて決定することを特徴とする。 - 特許庁

The method employs a roller provided with three rolls the surfaces of which are subjected to nonadhesive treatment, and the weight ratio of the starch and water in the first process and the starch in the second process corresponds to almost 1:5:6.例文帳に追加

表面が非粘着処理された３本のロールを供えた圧延装置を使用する点、第１の工程における澱粉と水および第２の工程における澱粉の重量割合がほぼ１：５：６である点にも特徴がある。 - 特許庁

In the first process, the incident surface, the emitting surface and all the end faces of the optical device laminate are packaged by the packaging member, and in the second process, corner parts or side parts of the optical device laminate are exposed from opening parts of the packaging member.例文帳に追加

第１の工程では、光学素子積層体の入射面、出射面、およびすべての端面を包装部材により包み、第２の工程では、光学素子積層体の角部または辺部を包装部材の開口部から露出させる。 - 特許庁

A first terminal 200 acquires the corresponding ID from the second terminal through infrared communication or the like [process 506], and a corresponding request message containing the corresponding ID is generated and sent to a repeater 100 [process 507].例文帳に追加

第１端末２００は，赤外線通信等によって第２端末から対応付けＩＤを取得し［処理５０６］，この対応付けＩＤを含む対応付け要求メッセージを生成して，中継装置１００に送る［処理５０７］。 - 特許庁

A first terminal 200 acquires the mapping ID from the second terminal through infrared communication and the like (process 506), and then generates a mapping request message containing the mapping ID, which is sent to a repeating device 100 (process 507).例文帳に追加

第１端末２００は，赤外線通信等によって第２端末から対応付けＩＤを取得し［処理５０６］，この対応付けＩＤを含む対応付け要求メッセージを生成して，中継装置１００に送る［処理５０７］。 - 特許庁

Then, in a second color conversion process, a CMYK value for printing a color to be perceived in the same way as a perceived color estimated in the first color conversion process can be specified under the observing environment of a print result.例文帳に追加

そして、第二色変換工程においては印刷結果の観察環境において、第一色変換工程にて推定された知覚色と同様に知覚される色が印刷できるＣＭＹＫ値を特定することができる。 - 特許庁

Thereafter, a groove inclined reversely at the same angle is formed for each of the pitches while reversing an inclination of the cutter, rotating the cam row in the same direction as the first process and laterally moving it in the opposite direction (second process).例文帳に追加

次に、カッターの傾斜角度を反対にして、カム列を第一工程と同方向に回転させ且つ反対方向に横移動させながら逆向きに同角度傾斜した溝を所定ピッチごとに形成していく（第二工程）。 - 特許庁

The power module is constituted by stacking an underlay conductive member 28 formed by a melt-spraying process (cold spraying process), a solder layer 14, and a semiconductor chip 11 in order on a metal wiring 23 made of a first material (Cu).例文帳に追加

パワーモジュールは、第１の材料（Ｃｕ）からなる金属配線２３の上に、溶射法（コールドスプレー法）によって形成された下敷き導電部材２８と、半田層１４と、半導体チップ１１とを順次積層して構成されている。 - 特許庁

For processing the input event, it is decided at first that the thread requires a light-weight process, and then the light-weight process is allocated to an active connection thread receiving the input event and it is executed.例文帳に追加

入力イベントを処理するために、そのスレッドがライト・ウェイト・プロセスを必要としていることを最初に確定し、この後においてのみ、入力イベントを受信するアクティブ接続スレッドにライト・ウェイト・プロセスが割り当てられて実行される。 - 特許庁

In a second beverage extraction mode, material of a second material supply quantity greater than the first material supply quantity is supplied from the material supply means 12, and the beverage is extracted in the beverage extraction means 14 through a second extraction process capable of extracting the beverage in a shorter time period than the first extraction process.例文帳に追加

第２の飲料抽出モードでは、原料供給手段12から第１の原料供給量より多い第２の原料供給量の原料を供給し、飲料抽出手段14にて第１の抽出工程より短い時間で飲料抽出可能とする第２抽出工程を経て飲料を抽出する。 - 特許庁

This method for simulating the performance of this system comprises a process for simulating the first part of a code for modeling at least a part of this system in a first simulation mode and a process for simulating the second part of a code for modeling at least a part of this system in a second simulation mode.例文帳に追加

システムの少なくとも一部をモデル化するコードの第１の部分に対して、第１のシミュレーションモードでシミュレーションを行う工程と、システムの少なくとも一部をモデル化するコードの第２の部分に対して、第２のシミュレーションモードでシミュレーションを行う工程とを備える方法でシステムの性能をシミュレートする。 - 特許庁

In this system, when the configuration application is executed on a computer, it creates a first control module usable by the distributed control device in the distributed process control system; and the control device application executes the first control module in the computer, and thereby simulates the operation of the distributed process control system.例文帳に追加

このシステムにおいて、構成アプリケーションは、コンピュータ上で実行されると、分散型処理制御システム内で分散型制御装置によって使用可能な第１の制御モジュールを作成し、制御装置アプリケーションは、コンピュータ内での第１の制御モジュールを実行し、それによって、分散型処理制御システムの動作をシミュレートする。 - 特許庁

Since the split capacity electrodes 24 and 25 are connected with adjacent diffusion layers 14 and 15 through a first interconnection layer directly above the capacity electrodes, charges generated in the fabrication process subsequent to the process for forming the first interconnection layer can be discharged to the diffusion layer and a capacitive oxidation layer can also be protected against breakdown.例文帳に追加

また、２分割された容量電極２４、２５を隣接する拡散層１４、１５に、容量電極すぐ上の第１配線層で接続する構成とするので、第１配線層形成工程以降の製造工程で発生するチャージを拡散層に放電することができ、容量酸化膜の破壊を防ぐことも可能となる。 - 特許庁

The method of manufacturing optical film comprises a process of laminating a second cured layer on a first cured layer laminated directly or via other layer on a transparent plastic film substrate, wherein, before the second cured layer is laminated, a process of eliminating specific substance contained in the first cured layer is performed.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材上に直接または他の層を介して積層された第１の硬化層上に第２の硬化層を積層する工程において、第２の硬化層積層前に、第１の硬化層に含有する特定の物質を除去する工程を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

In a second laser scribe process, the positions of marks 21, 22 provided in the first laser scribe process are confirmed prior to the formation of a second groove 6, the distance among respective laser optical systems 30, 31, 32, 33 is corrected, and an adjustment is made so that the interval of the laser beams emitted to the substrate 1 becomes equal to that between prior first grooves 3.例文帳に追加

第二レーザスクライブ工程では、第二溝６の形成に先立って、第一レーザスクライブ工程の際に設けられたマーク２１，２２の位置を確認し、各レーザ光学系３０，３１，３２，３３同士の距離を補正し、基板１へ照射されるレーザ光の間隔が先の第一溝３同士の間隔と等しくなる様に調整する。 - 特許庁

The method of manufacturing an optical waveguide includes: a cutting process in which a linear core part is formed by cutting a core film having a first refractive index for forming core part; and a coating process in which the periphery of the linear core part is coated by a clad material having a refractive index smaller than that of the first refractive index.例文帳に追加

本発明の光導波路の製造方法は、コア部を形成するための第１屈折率を有するコアフィルムを、切断して線状のコア部を形成する切断工程と、前記線状のコア部の周囲を、前記第１屈折率よりも低い屈折率を有するクラッド材料で覆う被覆工程と、を有する。 - 特許庁

The sample preparing method includes a rotation process for changing the direction of the sample 20 which keeps the first surface 10a directed upward and has a contact so that the first surface 10a may be directed laterally or downward and an irradiation process for irradiating the sample 20 with a converged ion beam from the short direction of the contact.例文帳に追加

試料作製方法は、第１面１０ａが上方を向き、コンタクトを有する試料２０を、第１面１０ａが側方ないし下方を向くように試料２０の向きを変える回転工程と、試料２０に対して、コンタクトの短手方向から集束イオンビームを照射する照射工程とを含む。 - 特許庁

Hence, the manufacturing process is allowed to have respective connections of the first and third regions 6, 8 to the first and third electrodes 1, 3 exchanged; and even if the connections become opposite, neither the mark nor the shape for identifying the direction of the filament-shaped light-emitting element 5 becomes necessary, and the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost is suppressed.例文帳に追加

したがって、製造工程で第１,第３の電極１,３に対する第１,第３の領域６,８の接続が反対になってもよく、棒状発光素子５の方向性を識別するためのマークや形状も不必要となり、製造工程を簡略化でき製造コストを抑えることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the ITO multilayer film comprises a process of forming a first ITO film on an upper part of a plastic body at a base plate temperature of 20 to 120°C with the use of an ion plating method, and a process of forming a second ITO film on the first ITO film at a base plate temperature of 150 to 250°C with the use of the ion plating method.例文帳に追加

プラスチック体上方に、イオンプレーティング法を用い、基板温度２０℃〜１２０℃で、第１のＩＴＯ膜を成膜する工程と、前記第１のＩＴＯ膜上に、イオンプレーティング法を用い、基板温度１５０℃〜２５０℃で、第２のＩＴＯ膜を成膜する工程とを有するＩＴＯ多層膜の製造方法が提供される。 - 特許庁

An operating unit 13 acquires the first and second image data output from the conversion unit 12 on the time division basis, performs a process for displaying the captured image on a display device 14 by using the first image data and performs a process for storing the captured image in a storage device 15 by using the second image data.例文帳に追加

演算部１３は、変換部１２が時分割で出力した第１および第２の画像データを取得し、第１の画像データを用いて表示装置１４に撮像された画像を表示する処理を行い、第２の画像データを用いて記憶装置１５に撮像された画像を記録する処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method comprises blowing gas from the opening end of the first flow path during at least part of a time from starting the process of forming the elastic film 30 to completing the process of firing the elastic film, to form the communication hole 35 communicated with the first flow path in the elastic film 30.例文帳に追加

またスライドバルブ装置１の製造方法において、弾性膜３０を成膜する工程の開始から弾性膜を焼成する工程が完了するまでの間の少なくとも一部において、第１の流路の開放端から気体を噴出して弾性膜３０に第１の流路に連通する連通穴３５を形成する。 - 特許庁

A process to obtain a clad wire 30 by filling a raw material powder of superconducting phase into a first metal pipe 20 and applying a plastic forming to the first metal pipe 20 and a process to obtain a multiconductor wire by inserting a plurality of the clad wires 30 into a second metal pipe 40 and applying plastic forming such as rolling to the second metal pipe 40 are provided.例文帳に追加

超電導相の原料粉末を第１金属パイプ20に充填し、この第１金属パイプ20に塑性加工を施してクラッド線30を得る工程と、複数本の前記クラッド線30を第２金属パイプ40に挿入し、この第２金属パイプ40に圧延などの塑性加工を施して多芯線を得る工程とを具える。 - 特許庁

In addition, the resistance value of a main electrode is reduced; an auxiliary first electrode doubling as a black matrix and a bank for an ink jet process are included; and the auxiliary first electrode is used as a mask, without adding a separate mask process, to form a bank by a back exposure method, whereby the number of mask processes is reduced.例文帳に追加

さらに、主電極の抵抗値を低くし、ブラックマトリックス兼用として利用された補助第１の電極と、インクジェット工程用バンクとを含み、別途のマスク工程の追加なしに補助第１の電極をマスクとして利用して、背面露光法によりバンクを形成して、マスク工程数の節減する。 - 特許庁

The manufacturing apparatus of a semiconductor device includes: a first plating tank in which a surface of a semiconductor wafer 200 in which an insulating film 330 is formed on the surface is performed with a plating process by using a first plating liquid; and a second plating tank in which the surface of the semiconductor wafer 200 is performed with a plating process by using a second plating liquid.例文帳に追加

この製造装置は、表面に絶縁膜３３０が形成された半導体ウェハ２００表面を第１のめっき液を用いてめっき処理する第１のめっき処理槽と、半導体ウェハ２００表面を第２のめっき液を用いてめっき処理する第２のめっき処理槽と、を備える。 - 特許庁

The process for purifying a polyether is provided, which process comprises adding to a polyether (A) containing a first salt, water (B) and a compound (C) which is capable of reacting with an ion constituting the first salt to form a second salt which is essentially insoluble in the polyether (A), then removing water, followed by removing the second salt from the polyether (A).例文帳に追加

第１の塩を含有するポリエーテル（Ａ）に、水（Ｂ）、および、第１の塩を構成するイオンと反応してポリエーテル（Ａ）に本質的に不溶な第２の塩を形成しうる化合物（Ｃ）、を添加した後、水分を除去し、次いで第２の塩をポリエーテル（Ａ）から除去することを特徴とするポリエーテルの精製方法とする。 - 特許庁

A first process (b) outputting a first drive signal for contracting a pressure generating chamber to emit ink from a nozzle orifice and a second process (d) outputting a second drive signal for driving an actuator so as to increase the vibration amplitude of a meniscus are provided to increase the vibration amplitude of the meniscus of ink.例文帳に追加

圧力発生室を収縮させてノズル開口からインクを吐出させる第１の駆動信号を出力する第１の工程（ｂ）と、メニスカス振動の振幅を大きくするようにアクチュエータを駆動する第２の駆動信号を出力する第２の工程（ｄ）とを具備することにより、インクのメニスカス振動の振幅を大きくする。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for a process causing an alignment market to be formed in a first pattern, without carrying out a developing process and then aligning the relative position between the first pattern and second pattern.例文帳に追加

複数のフォト工程で現像工程を経ず、材料形成工程と露光工程のみを繰り返し、最後に一括して現像工程を行う場合、前記第１パターンの現像工程がなくなるため、第１パターンと同時に作成していたアライメントマーカーを第２パターンの露光時に参照することができず、複数のパターン間にずれが生じる。 - 特許庁

The status of process load as to each process is monitored/observed at all times by providing a buffer memory monitoring part 103, a pilot signal adding part 105, a first pilot signal monitoring part 110, a second pilot signal monitoring part 113, a first data selection part 104, a second data selection part 108, and a third data selection part 111.例文帳に追加

バッファメモリ監視部１０３、パイロット信号付加部１０５、第１パイロット信号監視部１１０、第２パイロット信号監視部１１３、第１データ選択部１０４、第２データ選択部１０８、第３データ選択部１１１を設けることにより、各処理の処理負荷の状況を常に監視・観測する。 - 特許庁

The method has a process for obtaining an area with a code of a polygon including both ends of the cut line in the first complementary pattern and one end of the cut line in the second complementary pattern, and a process for inspecting the position relation of the first complementary pattern and the second complementary pattern by the area with the code.例文帳に追加

第１の相補パターンにおける切断線の両端部と第２の相補パターンにおける切断線の一端部を少なくとも含む多角形の符号付面積を求める工程と、この符号付面積により第１の相補パターンと第２の相補パターンの位置関係を検査する工程を有する。 - 特許庁

The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁

This invented method for manufacturing the sliding part 1 includes a first process obtaining a resin sliding part main body 10 having a groove formed on an outer surface by injection-molding first resin and a second process injection-molding a second resin outside the sliding part main body 10 under existence thereof.例文帳に追加

本発明の摺動部品１の製造方法は、第１の樹脂を射出成形して、外表面に溝が形成された樹脂製の摺動部品本体１０を得る第１の工程と、その摺動部品本体１０の存在下、その外側に第２の樹脂を射出成形する第２の工程とを有する。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a process to acquire second modality data by scanning the subject with a second modality having a second FOV which is larger than the first FOV and a process to reconstruct images of the subject by using the second modality data and the data of the FOV sampled partially by the first modality.例文帳に追加

この方法はまた、第一の視野よりも大きい第二の視野を有する第二のモダリティで対象を走査して第二のモダリティ・データを得る工程と、第二のモダリティ・データ及び第一のモダリティの部分的にサンプリングされている視野データを用いて対象の画像を再構成する工程とを含んでいる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor comprises: a step of forming a first coated film on the semiconductor substrate; a process of, in a periphery of the semiconductor substrate, removing at least a part of the first coated film to form a step difference; and a process of selectively forming a second coated film at least in the region where the foregoing step difference is formed.例文帳に追加

半導体基板に第１の被膜を形成する工程と、前記半導体基板の外周部において、第１の被膜の少なくとも一部を除去し、段差を形成する工程と、少なくとも前記段差の形成された領域に、選択的に第２の被膜を形成する工程を備える。 - 特許庁

When the drying solvent of the first storage tank with the drying solvent supplied reaches the end of its usefulness, after the process of the substrate W finishes, the drying solvent is supplied from only the second storage tank 13 different from the first storage tank 11 to the processing bath 5 to process the successive substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加

そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。 - 特許庁

The film forming method comprises a process in which a first liquid drop is dripped on a substrate, a skin layer is formed at the periphery of the first liquid drop, and a bank is formed while keeping the inside of the skin layer in liquid state, and a process in which a second liquid drop is dripped in the bank and dried to form a single-layer film.例文帳に追加

本発明に係る膜形成方法は、基板上に第１の液滴を滴下して、前記第１の液滴の周縁部にスキン層を形成させて、該スキン層の内部を液状のままとしたバンクを形成する工程と、前記バンク内に、第２の液滴を滴下し、乾燥させて単層膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

When cleaning the compound metal oxide film including plural kinds of metals, for example, Sr, Ti or the like, first, a first cleaning process for making a Cl2 gas flow as a cleaning gas and removing Ti is performed, and next, a second cleaning process for making a ClF3 gas flow as the cleaning gas and removing Sr (Ba is also included) is performed.例文帳に追加

複数種類、例えばＳｒ、Ｔｉ等の金属を含む複合金属酸化物膜をクリーニングするに際して、まず、クリーニングガスとしてＣｌ_2 ガスを流してＴｉを除去する第１のクリーニング工程を行ない、次に、クリーニングガスとしてＣｌＦ_3 ガスを流してＳｒ（Ｂａも含む）を除去する第２のクリーニング工程を行なう。 - 特許庁

The semiconductor laser device has a first current constriction layer 17 formed between a p-side electrode 19 and an active layer 14 on a substrate 11 through an oxidation process, and a second current constriction layer 22 formed between the active layer 14 and the first current constriction layer 17 not through the oxidation process.例文帳に追加

基板１１上のｐ側電極１９と活性層１４との間に酸化工程を経て形成される第１の電流狭窄層１７を有し、かつ、活性層１４と第１の電流狭窄層１７との間に酸化工程を経ることなく形成された第２の電流狭窄層２２を有する。 - 特許庁

This method for manufacturing an HVFET having one or more JFET condition channels comprises a process for successively implanting a dopant of a first conductivity type in a first epitaxial layer of a second conductivity type in order to form a plurality of first buried layers disposed at different vertical depths.例文帳に追加

１つ以上のＪＦＥＴ伝導チャネルを有するＨＶＦＥＴの作製方法は、垂直方向に異なる深さで堆積される第１の複数の埋込層を形成すべく、第２伝導型の第１エピタキシャル層に第１伝導型のドーパントを連続的に打込む工程を備える。 - 特許庁

A first film forming process for forming a first thin film 17 on the electrode film 15 is carried out under a first spatter gas atmosphere, reduced in the contents of oxidizing gas, whereby high energy ion, such as oxidizing gas ion, will not be incident into the electrode film 15 and the electrode film 15 will not be damaged.例文帳に追加

電極膜１５上に第一の薄膜１７を形成する第一の成膜工程は、酸化ガスの含有率が少ない第一のスパッタガス雰囲気で行われるので、酸化ガスイオンのような高エネルギーイオンが電極膜１５に入射せず、電極膜１５がダメージを受けない。 - 特許庁