「fluoride」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

The nonaqueous electrolyte battery includes a positive electrode having a positive electrode active material layer provided on a positive electrode current collector, a negative electrode and a nonaqueous electrolyte, wherein the positive electrode active material layer contains a polyvinylidene fluoride-containing binder and nano ceramic particles having a primary particle size of not more than 100 nm; and the binder and the nano ceramic particle are made to be complex.例文帳に追加

正極活物質層が正極集電体上に設けられた正極、負極および非水電解質を備えた非水電解質電池であって、 前記正極活物質層は、ポリフッ化ビニリデンを含む結着剤および一次粒子径１００ｎｍ以下のナノセラミック粒子を含有し、 前記結着剤とナノセラミック粒子とが複合化していることを特徴とする非水電解質電池。 - 特許庁

A fluorine-containing water treatment method has a first fluorine removing process where calcium fluoride produced by adding a water-soluble calcium compound to the fluorine-containing water is separated from the water, and a second fluorine removing process where a water-soluble phosphorus compound is added to outflow water from the first fluorine removing process and the water is brought into contact with calcium-containing solids in the presence of calcium ions to remove fluorine.例文帳に追加

フッ素含有水に水溶性カルシウム化合物を添加して生成したフッ化カルシウムを水から分離する第１のフッ素除去工程と、該第１のフッ素除去工程からの流出水に水溶性リン化合物を添加し、カルシウムイオンの存在下にカルシウム含有固形物と接触させてフッ素を除去する第２のフッ素除去工程とを備えてなるフッ素含有水の処理方法。 - 特許庁

This method for processing the semiconductor wafer, wherein a chambering step, lapping step, an etching step, and a mirror surface polishing step are performed, is characterized in that, in the etching step, an acid-etching is performed after an alkali etching, in which acid-etching is performed with acid-etching liquid consisting of hydrogen fluoride, nitric acid, phosphoric acid, and water.例文帳に追加

面取り工程、ラッピング工程、エッチング工程、鏡面研磨工程を施す半導体ウエーハの加工方法において、エッチング工程をアルカリエッチングの後、酸エッチングを行うものとし、その際、酸エッチングをフッ酸、硝酸、リン酸、水からなる酸エッチング液で行う半導体ウエーハの加工方法。 - 特許庁

This method for treating exhaust gas, namely, bringing exhaust gas containing sulfur hexafluoride gas into contact with a treating agent to remove the sulfur hexafluoride gas from the exhaust gas comprises a preceding step to use catalyst-containing silicon oxide as the treating agent and produce silicon fluoride gas and sulfur oxide gas and a succeeding step to treat the gases produced at the preceding step by an alkali chemical-packed cylinder or a wet scrubber.例文帳に追加

六フッ化硫黄ガスを含む排ガスと処理剤とを接触させて当該排ガスから六フッ化硫黄ガスを除去する排ガスの処理方法において、前段で処理剤として触媒を含有した酸化珪素を用い、フッ化珪素ガスおよび酸化硫黄ガスを生成させ、後段で該生成ガスをアルカリ薬剤充填筒または湿式スクラバーで処理する。 - 特許庁

To obtain a practically sufficient fillet length and the corrosion resistance of a fin joining part without generating core cracks in the case that a coating film is formed on the surface of an Al member made of Al or an Al alloy by applying a solution which is the mixture of Si powder, Zn fluoride and a binder resin, and the Al member and a mating member are brazed via the coating film.例文帳に追加

ＡｌまたはＡｌ合金からなるＡｌ部材の表面に、Ｓｉ粉末、Ｚｎ弗化物およびバインダ樹脂を混合した溶液を塗布することにより塗膜を形成し、この塗膜を介してＡｌ部材と相手部材とをろう付けする場合において、コア割れを発生させることなく、実用上十分なフィン接合部のフィレット長さと耐食性とを実現する。 - 特許庁

The bioactive material is manufactured by soaking the material to be coated (substrate) in an aqueous solution containing a water soluble compound containing titanium and a reagent producing titanium oxide from the compound, in particular an aqueous solution containing a titanium fluorocomplex compound as the water soluble compound containing titanium, and a fluoride ion trapping agent, and by forming a titanium oxide thin film on the surface of the material to be coated (substrate).例文帳に追加

被被覆材料（基材）をチタンを含む水溶性化合物と該化合物から酸化チタンを生成させる試薬を存在させた水溶液、特にチタンを含む水溶性化合物としてフルオロチタン錯化合物を含む水溶液中にフッ化物イオン捕捉剤の存在させた水溶液に浸漬し、前記被被覆材（基材）表面に酸化チタン薄膜を形成させることにより製造された生体活性材料。 - 特許庁

The optical member of a preferred embodiment has: a base material having an entrance face into which light is incident, a total reflection face totally reflecting the incident light, and an exit face from which the totally reflected light emerges to the outside, and formed of a calcium fluoride crystal; and a protecting layer formed on a surface outside the total reflection face in the base material.例文帳に追加

好適な実施形態の光学部材は、内部に光が入射される入射面、入射した光を全反射する全反射面、及び、全反射した光を外部に射出する射出面を有しており、フッ化カルシウム結晶から構成される基材と、この基材における全反射面の外側の表面上に設けられた保護層とを備える。 - 特許庁

The composition for removing a residue comprises an additive for removing the residue containing carbon dioxide, a fluoride expressed by the chemical formula NR^1R^2R^3R^4F (R^1, R^2, R^3 and R^4 are each hydrogen or an alkyl group), and a compatibilizing agent to dissolve the additive in the carbon dioxide liquefied under a high pressure.例文帳に追加

微細構造体から残留物を除去するための組成物であって、二酸化炭素と、化学式ＮＲ^1Ｒ^2Ｒ^3Ｒ^4Ｆ（Ｒ^1、Ｒ^2、Ｒ^3およびＲ^4は、それぞれ独立して水素またはアルキル基を示す。）で示されるフッ化物を含む残留物除去用添加剤と、高圧下で液体状になっている前記二酸化炭素に前記添加剤を溶解させるための相溶化剤とを含むことを特徴とする残留物除去用組成物である。 - 特許庁

To provide a detoxification treatment method for an asbestos-containing material, capable of simultaneously and efficiently executing the detoxification treatment at a low heating temperature of the asbestos-containing material such as asbestos waste, fluoride sludge containing phosphate ions discharged in the manufacture process of a semiconductor material or the like, and a chlorine compound such as chlorine bypass dust discharged from a cement manufacturing process, and a manufacturing method of cement utilizing it.例文帳に追加

アスベスト廃棄物等のアスベスト含有物と、半導体材料等の製造工程などで排出されたリン酸イオンを含むフッ化物汚泥と、セメント製造工程から排出される塩素バイパスダストなどの塩素化合物とを、同時に、かつ低い加熱温度で効率的に無害化処理することができるアスベスト含有物の無害化処理方法ならびにこれを利用したセメントの製造方法を提供する。 - 特許庁

This modified photocatalyst (A) having wax-like properties is obtained by applying modification treatment to a photocatalyst (a) using at least one modifier compound (b) selected from the groups consisting of compounds each of which has at least one kind of a structural unit selected from the group consisting of a triorganosilane unit, a monooxydiorganosilane unit, a dioxyorganosilane unit and a methylene fluoride (-CF_2-) unit.例文帳に追加

光触媒（ａ）を、トリオルガノシラン単位、モノオキシジオルガノシラン単位、ジオキシオルガノシラン単位、及びフッ化メチレン（—ＣＦ_２−）単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも１種の変性剤化合物（ｂ）を用いて変性処理されたワックス性状を有する変性光触媒（Ａ）。 - 特許庁

This organic light emitting element is characterized by that at least a transparent positive electrode, an organic film containing luminescent material formed of an organic compound, an electron injection layer, a conductive light-absorbing layer and a negative electrode are sequentially stacked on a transparent substrate; the electron injection layer is formed of a fluoride or oxide of Li; and the film thickness of the electron injection layer is 1-500 Å.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも、透明な陽極電極と、有機化合物からなる発光材料を含む有機膜と、電子注入層と、導電性光吸収層と、陰極電極とが順次積層されており、前記電子注入層はＬｉの弗化物または酸化物からなり、該電子注入層の膜厚は１〜５００Åであることを特徴とする有機発光素子。 - 特許庁

In the reutilization method of asbestos, an alkaline silicic acid aqueous solution or calcium fluoride is added to asbestos used in a building or the like and cement being a binder at the time of spraying of asbestos to detoxify asbestos to peel the same and, after the peeled asbestos and cement are ground, the alkaline silicic acid aqueous solution is again added to the ground matter to reutilize the ground matter as a building material or the like.例文帳に追加

アスベストの再利用化方法は、建築物等に使用されているアスベスト及びそのアスベスト吹き付けの際の結合剤であるセメントに対して、珪酸アルカリ性水溶液やフッ化カルシウムを加えて無害化した後に剥離し、その剥離したアスベスト及びセメントを粉砕した後に再度、珪酸アルカリ性水溶液を加えて、建築材料等に再利用する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the planographic printing plate having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized sheet, the planographic printing plate is processed with a processing liquid containing a metal fluoride and phosphate during the time after the provision of the physical development nucleus layer and before the provision of the silver halide emulsion layer.例文帳に追加

本発明の上記目的は、陽極酸化されたアルミニウム板に少なくとも物理現像核層、ハロゲン化銀乳剤層を有する平版印刷版の製造方法において、物理現像核層を設けた後、ハロゲン化銀乳剤層を設けるまでの間に、金属弗化物と燐酸塩を含有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

A plasma etching processing apparatus 1 comprises a nozzle head 10 for implementing an etching processing by spraying etching gas 4 to the surface of a silicon substrate 2 to be processed, and a cleaning head 20 for cleaning the silicon substrate 2 to remove residues such as ammonium silicofluoride and ammonium fluoride or the like formed by a reaction between a silicon compound produced by the etching processing and etching gas.例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置１は、被処理物であるシリコン基板２の表面にエッチングガス４を吹き付けてエッチング処理するノズルヘッド１０と、エッチング処理により生じたシリコン化合物とエッチングガスとが反応して形成されたケイフッ化アンモニウムやフッ化アンモニウム等の残渣物を除去するべくシリコン基板２を洗浄する洗浄ヘッド２０とを備える。 - 特許庁

The ND filter 10 is constituted of a transparent substrate 11 of a glass having almost circularity in a plane section, a low refractive index dielectric thin film 12 formed of magnesium fluoride (MgF_2), a metallic thin film 13 formed of nichrome (NiCr), and a high refractive index dielectric thin film 14 formed of tantalum pentaoxide (Ta_2O_5).例文帳に追加

ＮＤフィルタ１０は、平面形状が略円形のガラスである透明基板１１と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２ ）で形成された低屈折率誘電体薄膜１２と、ニクロム（ＮｉＣｒ）で形成された金属薄膜１３と、五酸化タンタル（Ｔａ_２ Ｏ_５ ）で形成された高屈折率誘電体薄膜１４とで構成されている。 - 特許庁

Etching treatment using an acid, alkali or fluoride is applied to aluminum metal fittings 2 and chemical forming treatment using alkali metal phosphate is further applied thereto and the vulcanizing adhesion regions of these treated metal fittings 2 thus obtained are coated with an adhesive and predetermined rubber 4 is bonded to the coated regions of the metal fittings under vulcanization to produce a metal fitting-rubber integrated composite product 6.例文帳に追加

アルミ金具２に対して、酸、アルカリ又はフッ化物を用いたエッチング処理を施した後、更にアルカリ金属リン酸塩を用いた化成処理を実施し、次いで、この得られた化成処理金具２を用いて、その加硫接着部位に接着剤を塗布せしめた後、所定のゴム４を加硫接着せしめることにより、金具−ゴム一体複合製品６を製造する。 - 特許庁

In the lithium-ion secondary battery which is equipped with a positive electrode that contains lithium ions and is chargeable and dischargeable, a negative electrode composed of a carbon material that stores or releases the lithium ions, a separator composed of porous polyethylene, and a non-aqueous electrolytic liquid in which the fluorine based electrolyte is dissolved, a negative electrode surface is covered with polymer gel having a fluoride ion trapping function.例文帳に追加

リチウムイオンを含有する充放電可能な正極と、リチウムイオンを吸蔵・放出する炭素材料からなる負極と、多孔性ポリエチレンからなるセパレーター、及びフッ素系電解質を溶解させた非水電解液を備えたリチウムイオン二次電池において、フッ化物イオントラップ機能を有する高分子ゲルで負極表面を被覆したことを特徴とするリチウムイオン二次電池。 - 特許庁

The sensor for measuring hair characteristics includes a support having a comb-shaped part for combing the hair, a detecting means arranged on the support and includes polyvinylidene fluoride as a piezoelectric converting material for converting vibrations generated when the support body combs the hair into electric signals, and an output means for outputting the signal generated by the detecting means.例文帳に追加

毛髪を梳かすための櫛型形状部を有する支持体と、前記支持体上に配置され、前記支持体が前記毛髪を梳かす際に生じる振動を電気信号に変換するポリフッ化ビニリデンを圧電変換材とする検出手段と、前記検出手段の発生する信号を出力する出力手段と、を有する毛髪特性測定用センサであることを特徴とする。 - 特許庁

Preferably in the method for processing cylindrical fluoride single crystal with (100) crystal face, the processing is a cylindrical grinding process, and the surface roughness (RMS) of the ground face of single crystal cylinder after the cylindrical grinding processing is 0.1-5.0 μm.例文帳に追加

育成された単結晶インゴットを切断して多角体を得、該多角体をアニール処理した後、さらに切断、加工する、（１００）結晶面のフッ化物単結晶の加工方法であって、上記加工が円筒研削加工であり、該円筒研削加工後の単結晶円筒研削加工面の表面粗さ（ＲＭＳ）が０．１〜５．０μｍであることを特徴とする、（１００）結晶面の円筒状フッ化物単結晶の加工方法等を採用する。 - 特許庁

Since the reactant gas of fluoride gas and the assist gas of noble gas and/or halogen gas are made into plasma and etching is performed, even a substrate with the large content of metal components such as an alkali glass substrate 31 is etched, and the substrate with the texture for which the fine recessed and projected pattern is formed on the surface is manufactured.例文帳に追加

フッ化ガスの反応ガスと、希ガス及び／又はハロゲンガスのアシストガスをプラズマ化させてエッチングを行なうから、アルカリガラス基板３１のように金属成分の含有量が多いものでもエッチングされ、表面に微細な凹凸パターンが形成されたテクスチャ付基板を製造できる。 - 特許庁

The pigment is obtained by covering a metal oxide or a mixed metal oxides on e.g. a mica of a thin leaf state, transferring the obtained precursor into preferably a fluidized bed reactor and calcinating under the flow of fluorinating or sulfurizing gas for converting the oxide into the fluoride, oxifluoride, fluorosulfide and/or oxyfluorosulfide.例文帳に追加

この顔料は金属酸化物または混合金属酸化物が例えば薄片状の雲母上に被覆され、得られる前駆体を好ましくは流動床反応器に移し、フッ素化および/または硫化性ガス流下に焼成して、酸化物をフッ化物、オキシフッ化物、フルオロ硫化物および/またはオキシフルオロ硫化物に転化することにより得られる。 - 特許庁

The resin composition for the porous filtering membrane contains polyvinylidene fluoride and a hydrophobic calcium carbonate particulate with the BET relative surface area of 5-75 m^2/g and in which the total of 11 μm or more in a laser diffraction system (micro track FRA) particle size distribution is 25% or less, or further contains an organic liquid body.例文帳に追加

ポリフッ化ビニリデン樹脂と、ＢＥＴ比表面積５〜７５ｍ^2 / ｇ、レーザー回折式（マイクロトラックＦＲＡ）粒度分布における１１μｍ以上の累計が２５％以下である疎水性炭酸カルシウム微粒子を含有する多孔質濾過膜用樹脂組成物、又は、更に有機液状体を含有する多孔質濾過膜用樹脂組成物である。 - 特許庁

A fluorinating agent composed of an alkali fluoride obtained by carrying out a thermal decomposition of an alkali metal salt of a carboxylic acid having fluorine atom at the β-position has a high fluorinating ability and is useful as a fluorinating agent used in a halogen exchange method, etc., for substituting chlorine or bromine in an active chlorine compound or an active bromine compound with a fluorine atom.例文帳に追加

β−位にフッ素原子を有するカルボン酸のアルカリ金属塩を熱分解することにより得られるフッ化アルカリからなるフッ素化剤は、高いフッ素化能を有しており、活性塩素化合物や臭素化合物の塩素又は臭素をフッ素原子と置換するハロゲン交換法などに用いるフッ素化剤として有用である。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which ArF (argon fluoride) excimer laser light can be used as exposure light upon patterning, a resist pattern can be stably made thick to a desired thickness without depending on the size, and a fine resist cut-out pattern can be inexpensively, easily and efficiently formed over the exposure limit (resolution limit) of a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンをそのサイズに依存することなく、所望の厚みに安定的に厚肉化することができ、露光装置の光源における露光限界（解像限界）を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁

The aluminum alloy material is prepared by mixing pure Si powder, Al-Si-based alloy powder containing 0.05 to 35% Si, and the balance Al and inevitable impurities, fluoride flux, and a binder, wherein the pure Si powder and the Al-Si-based powder are mixed in a weight mixing ratio within a range from 90:10 to 99.5:0.50.例文帳に追加

本発明は、純Ｓｉ粉末と、０．０５〜３５％のＳｉを含有し残部Ａｌと不可避不純物からなるＡｌ−Ｓｉ系合金粉末と、フッ化物フラックスと、バインダとを混合し、前記純Ｓｉ粉末と前記Ａｌ−Ｓｉ系合金粉末との重量混合比を９０：１０〜９９．５：０．５の範囲内で混合してなることを特徴とする - 特許庁

As a polarizing member provided between the light source and a projection lens, a surface mirror is used which is constituted by layering a 1st aluminum oxide layer, a silver layer or a silver alloy layer, a 2nd aluminum oxide layer, a magnesium fluoride layer, a titanium oxide layer or a tantalum oxide or a compound oxide layer of titanium and lanthanum on at least one surface of a substrate in order from the substrate side.例文帳に追加

光源から投影レンズとの間に設ける偏光部材として、基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とを、基板側から順に積層した表面鏡を使用する。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive substrate, a vinyl halide-based resin is used which is obtained by subjecting a vinyl chloride-based polymer having hydroxyl groups, epoxy groups and sulfur-containing strong acid radicals as substituents to modification with a fluorine compound, and converts a part of the vinyl chloride structure to a vinyl fluoride-based structure and has a structure formed by fluorinating the epoxy groups.例文帳に追加

導電性基体上に感光層を備えた電子写真感光体において、水酸基、エポキシ基、および硫黄を含む強酸根を置換基としてもつ塩化ビニル系重合体にフッ素化合物による変性処理を施し、塩化ビニル構造の一部をフッ化ビニル系構造とし、更に前記エポキシ基をフッ素化した構造を合わせ持つハロゲン化ビニル系樹脂を用いた。 - 特許庁

This fluoride single crystal is expressed by compositional formula: L_1-xM_xF_3-x+y, (wherein L represents a rare earth element including Tb; M represents a group II element including at least one selected from the group consisting of Ca and Sr; x is larger than 0 and less than 1; and y is -0.2 to 0.2).例文帳に追加

下記組成式：Ｌ_１−ｘＭ_ｘＦ_３−ｘ＋ｙ（上記式中、ＬはＴｂを含む希土類元素を表す。Ｍは、Ｃａ及びＳｒからなる群より選ばれる少なくとも１種を含むＩＩ族元素を表す。ｘは０より大きく１未満である。ｙは−０．２〜０．２である。）で表されることを特徴とするフッ化物単結晶。 - 特許庁

LiMF_X is produced by bringing LiF into contact with an element M and/or a fluoride of the element M in the presence of fluorine gas and at 100°C or higher in a reaction vessel (wherein, M is an element selected from the group consisting of B, P, As, Sb, Bi, V, Nb and Ta; x is a number between 4-6).例文帳に追加

ＬｉＦと、Ｍ元素及び／又はＭ元素のフッ化物とを、フッ素ガス存在下において、反応槽内にて１００℃以上の温度で接触させることによりＬｉＭＦ_Ｘ（ＭはＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｖ、Ｎｂ、及びＴａよりなる群から選択される元素を示し、ｘは４〜６の数である。）を製造する。 - 特許庁

The composition for removing residues from microstructures comprises carbon dioxide, an additive for removing residues containing a fluoride represented by the chemical formula: NR^1R^2R^3R^4F (wherein, R^1, R^2, R^3 and R^4 are each independently H or an alkyl) and a compatibilizer for dissolving the additive in the carbon dioxide liquified under a high pressure.例文帳に追加

微細構造体から残留物を除去するための組成物であって、二酸化炭素と、化学式ＮＲ^1Ｒ^2Ｒ^3Ｒ^4Ｆ（Ｒ^1、Ｒ^2、Ｒ^3およびＲ^4は、それぞれ独立して水素またはアルキル基を示す。）で示されるフッ化物を含む残留物除去用添加剤と、高圧下で液体状になっている前記二酸化炭素に前記添加剤を溶解させるための相溶化剤とを含むことを特徴とする残留物除去用組成物である。 - 特許庁

In the nonaqueous electrolyte secondary battery 10, the negative electrode mix layer 12b constituting a negative electrode 12 is formed by holding, to a negative electrode core body 12a, active material slurry formed by adding and mixing a mixture binder comprising a rubber-based resin in a dispersion state and a polyvinylidene fluoride resin (PVdF) in a powder state in graphite used at least as a negative electrode active material.例文帳に追加

本発明の非水電解質二次電池１０においては、負極１２を構成する負極合剤層１２ｂは少なくとも負極活物質となる黒鉛に、ディスパージョン状態のゴム系樹脂と粉末状態のポリフッ化ビニリデン樹脂（ＰＶｄＦ）とからなる混合結着剤を添加、混合して形成された活物質スラリーが負極芯体１２ａに保持されるように形成されたものである。 - 特許庁

The novel method of continuously manufacturing the completely fluorine substituted organic compound by subjecting the organic compound, which is not substituted with fluorine, i.e., a parent compound or is substituted with the fluorine to some extent to electrochemical fluorine substitution by using hydrogen fluoride of about <10 ppm in arsenic content, is operative for a long period of time without exhibiting the degradation in the electrode area-time yield with lapse of time.例文帳に追加

親化合物であるフッ素置換されていないか或はある程度フッ素置換されている有機化合物に電気化学的フッ素置換をヒ素含有量が約１０ｐｐｍ未満のフッ化水素を用いて受けさせることで完全フッ素置換された有機化合物を連続的に製造する新規な方法は、電極面積−時間収率の経時的低下を示すことなく長時間に渡って操作可能である。 - 特許庁

The compound represented by formula (I) [wherein, R^1 is a 1-4C alkyl, a 1-4C fluoroalkyl, a 1-4C alkoxy, a 1-4C fluoroalkoxy, bromine, chlorine or fluorine; and n is 0 or 1] is produced by reacting a compound of formula (II) with the bromine in at least two kinds of Friedel-Crafts catalysts, especially hydrogen fluoride.例文帳に追加

式（Ｉ）［式中、Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−フルオロアルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルコキシ、Ｃ_１〜Ｃ_４−フルオロアルコキシ、臭素、塩素又はフッ素を表し、ｎは０又は１を表す］の化合物を、式（ＩＩ）の化合物を、少なくとも２種のフリーデル−クラフツ触媒、特にフッ化水素の存在下に臭素と反応させて製造する。 - 特許庁

A crystal substrate and a container in which the crystal substrate is stored are heated by a clean oven so as to be set to the same temperature as etchant liquid temperature, and the crystal substrate as well as the container in which the crystal substrate is stored are both input to an etching treatment tank, and the etching of the crystal substrate is carried out with etchant such as heated fluorinated acid-ammonium fluoride.例文帳に追加

水晶基板および水晶基板を収容した容器をエッチャント液温と同温になるようにクリーンオーブンで加温し、水晶基板、および水晶基板を収容した容器ごとエッチング処理槽に入れ、加温された弗酸・弗化アンモニウムなどのエッチャントにより水晶基板のエッチングを行う。 - 特許庁

Pitch obtained by polymerizing polycyclic condensed hydrocarbon as raw material in the presence of hydrogen fluoride and boron trifluoride, and the particulate material of magnesia or calcium carbonate are mixed, the obtained mixture is subjected to insolubilization treatment in the temperature range from 100 to 400°C, and is thereafter subjected to carbonization treatment in the temperature range from 500 to 1,200°C, and the obtained carbonized material is subjected to acid pickling.例文帳に追加

原料の縮合多環炭化水素を弗化水素および三弗化硼素の存在下で重合させることによって得られたピッチと、マグネシアまたは炭酸カルシウムの粒状物とを混合し、得られた混合物を１００℃から４００℃の温度範囲で不融化処理した後、５００℃から１２００℃の温度範囲で炭素化処理し、得られた炭素化物を酸洗浄する。 - 特許庁

A fluoride flux of 40-70 wt.% is mixed in a synthetic resin which has the fluidity at normal temperature and is sublimed at the temperature below the brazing temperature uniformly and dispersively to form a coating material 2, the coating material 2 is applied on traveling coating belts 1a, 1b, and transferred to a surface of an aluminum material from the coating belts 1a, 1b.例文帳に追加

弗化物系フラックスを、常温で流動性を有しかつろう付温度未満の温度で昇華する合成樹脂中に、４０〜７０重量％均一に分散混合して塗布材２を構成し、この塗布材２を走行する塗布ベルト１ａ，１ｂに塗布すると共に、この塗布ベルト１ａ，１ｂからアルミニウム材８の表面に転写させる。 - 特許庁

The magnet formed by binding magnetic powder has a surface of the magnetic powder coated with a metal fluoride film, and the magnetic powder forms a crystal structure including a homo-portion having adjacent atoms bonded to each other and a hetero-portion having two iron atoms bonded to each other through an atom other than an iron atom, the distance between the two iron atoms being made different from the distance between the adjacent iron atoms.例文帳に追加

磁粉を固めて形成した磁石において、この磁粉の表面を金属フッ化物被膜で覆い、前記磁粉は、相隣る鉄原子が結合したホモ部、及び二個の鉄原子が鉄以外の原子を介して結合したヘテロ部を含む結晶構造を形成し、前記二個の鉄原子の距離を、前記相隣る鉄原子の距離と異ならせる。 - 特許庁

In the production of the fluoride single crystal by the solidification in a crucible, a seed crystal having the same shape as the growth plane shape of the single crystal to be produced is placed at a lower part of the crucible, and a single crystal allowed to succeed to the crystal plane orientation of the seed crystal is obtained without changing the growth plane shape during growth of the crystal.例文帳に追加

ルツボ内凝固によるフッ化物の単結晶製造において、ルツボ下部に製造目的とする単結晶の成長面形状と同一の形状を有する種結晶を設置し、結晶成長中において成長面形状を変化させることなく、かつ、種結晶の結晶面方位を継承させた単結晶を得る。 - 特許庁

In addition, the first thermally oxidized film 4 and the surface section of the element isolating film 16 are wet-etched until the film 4 is removed by using an etchant containing a hydrogen fluoride (Fig.1 (E)) and, after a pressure-reduced oxide film 30 is formed on the etched surface, a polysilicon layer 36 which is used as a resistance element or transistor element is formed.例文帳に追加

次に、第１の熱酸化膜４が除去されるまで、第１の熱酸化膜４および素子分離膜１６の表面部を、フッ化水素を含むエッチング液を用いてウェットエッチングし（図１の（Ｅ））、その上に、減圧酸化膜３０を形成した後、抵抗素子やトランジスタ素子とするポリシリコン層３６を形成する。 - 特許庁

In the formulae (1) and (2), at least one of R^1, R^2 and R^3 represents an unsaturated double bond-containing group, and R^1, R^2 and R^3 except the unsaturated double bond-containing group express each a 1-8C hydrocarbon group or a fluoride group thereof, and they may be the same or different.例文帳に追加

Ｒ^１Ｒ^２ＳｉＯ_２／２ ………式（１） Ｒ^３ＳｉＯ_３／２ ………式（２） 一般式（１）及び（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、少なくとも１つが不飽和二重結合含有基であり、不飽和二重結合含有基以外のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、炭素数１〜８の炭化水素基またはそのフッ化物基を表わし、これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 - 特許庁

In the aluminum alloy piston 10 for internal combustion engine, thickness t of pin boss parts 30, 35 with an inserted piston pin 45 is reduced by covering pin holes 31, 36 of the pair of the pin boss parts 30, 35 with anodic oxide coating 50 in electrolytic solution mixing phosphate and fluoride and impregnating lubricant into a fine hole of the anodic oxide coating 50.例文帳に追加

アルミ合金製内燃機関用ピストン１０は、ピストンピン４５を挿入する一対のピンボス部３０，３５のピン孔３１，３６に、りん酸塩並びにふっ化物を混合した電解液で陽極酸化皮膜５０を被せ、陽極酸化皮膜５０の微細な孔に潤滑剤を含浸させることにより、ピンボス部３０，３５の厚さｔを小さくした。 - 特許庁

This zirconium analytical method in the quartz is characterized by adding sulfuric acid or the like to fluoronitric acid dissolved liquid of the quartz and heating the liquid, vaporizing silicon fluoride to acquire the dried state, adding a solvent to the dried product and heating the product, dissolving the produced melt in water, and measuring zirconium by using the dissolution liquid stabilized by adding sulfuric acid thereto.例文帳に追加

石英のフッ硝酸溶解液に硫酸等を添加して加熱し、フッ化珪素を揮散させて乾固した状態とし、この乾固物に溶剤を添加して加熱し、生じた溶融物を水に溶解し、これに硫酸を添加して安定化した溶解液を用いてジルコニウムを測定することを特徴とする石英中のジルコニウム分析方法。 - 特許庁

In the solid-state imaging element provided with a semiconductor board 1 arranging a light receiving part 2, a light receiving part flattening layer 4, a color filter 5, a color filter flattening layer 7, and a condensing micro lens 12, a fluorine-based silane compound layer or a fluoride polymer layer 11 is provided on the light receiving part flattening layer between the micro lenses.例文帳に追加

受光部２が配列された半導体基板１と、受光部平坦化層４と、カラーフィルタ５と、カラーフィルタ平坦化層７と、集光用のマイクロレンズ１２とを備える固体撮像素子において、該マイクロレンズ間の受光部平坦化層上にフッ素系シラン化合物層又はフッ化物重合体層１１を備えること。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal 3 such as silicon by electrolytically reducing the metallic oxide powder 2 such as silicon oxide powder comprises the steps of: suspending the metallic oxide powder 2 in the molten salt 5 of calcium chloride, any other chloride, fluoride or a mixture consisting of two or more of the compounds; and reducing the metallic oxide powder 2 on the surface of a cathode 1.例文帳に追加

ケイ素酸化物粉末等の金属酸化物粉末２の電解還元によるシリコン等の金属３の製造方法であって、該金属酸化物粉末２を塩化カルシウムや他の塩化物、フッ化物またはこれらの２種以上からなる混合物である溶融塩５中に懸濁させ陰極１表面で還元することを特徴とする製造方法である。 - 特許庁

The glass coat and the method for manufacturing it are characterized in that powdery and granular silica balloons or water-granulated slag are added to liquified silicon fluoride, after dissolving up to the saturation point, the resulting solution is made into a colloidal supersaturated solution, and then borosiloxane is added while impressing a high frequency magnetic field to make resulting mixture into a polymer alloy state.例文帳に追加

この発明のガラスコートおよびその製造方法は、液化したフッ化珪素に、粉粒状のシリカバルーンまたは水砕スラグを混入し、飽和点まで溶解してからコロイド状態の過飽和溶液となし、高周波磁場を印可しながらボロシロキサンを添加してポリマーアロイ状態にしたことを特徴とする。 - 特許庁