「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(407ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the semiconductor device comprises a step of mounting an electrode forming surface of a semiconductor chip 10 oppositely on a board 20 having a wiring pattern 22 on at least one surface and electrically fixedly connecting the electrode 12 to the pattern 22, and a step of grinding a surface of the board 20 at its opposite side of the chip 10 after the previous step.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、配線パターン２２を少なくとも一方の面に有する基板２０に、半導体チップ１０における電極形成面を対向させて搭載し、前記電極１２と前記配線パターン２２とを電気的に接続して固定する工程と、前記工程後に、前記半導体チップ１０における前記基板２０とは反対側の面を研削する工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a mounting substrate 30 for mounting a semiconductor component 31 has a process of applying selectively a liquid substance in a predetermined pattern onto a base material 20 having a thick-film resistor and a wiring pattern, and has a process of solidifying the applied substance to form on the base material 20 a protrusion 21A for supporting the bottom surface of the semiconductor component 31.例文帳に追加

半導体部品３１を実装するための実装基板３０の製造方法は、厚膜抵抗器と配線パターンを有する基材２０上に液状物質を所定パターンに選択的に塗布する工程と、塗布された物質を固化させることで半導体部品３１の底面を支持するための突起２１Ａを基材２０上に形成する工程とを備えている。 - 特許庁

In the communication method of the present invention, a plurality of pilot signals are generated so that each of the pilot signals corresponds to any of a plurality of cells, a pattern in which frequency subcarriers differing from each other are allocated to the generated plurality of pilot signals is determined, and the pilot signal is transmitted to a mobile station based on the determined pattern.例文帳に追加

本発明は、各パイロット信号が複数のセルのいずれかに対応するように、複数の前記パイロット信号を生成し、生成した複数の前記パイロット信号の各々に、互いに異なる周波数サブキャリアが割当てられるパターンを決定し、決定された前記パターンに基づいて、前記パイロット信号を移動局に対して送信することを特徴とする通信方法である。 - 特許庁

To provide conductive paste capable of forming a conductive pattern excellent in shielding characteristics of electromagnetic waves and effect of improving contrast of display of a display device by suppressing reflection of outdoor light, and to provide a manufacturing method of efficiently manufacturing a translucent electromagnetic wave shielding plate having the conductive pattern excellent in various characteristics by using the conductive paste and with a small number of process.例文帳に追加

電磁波のシールド特性に優れると共に、外光の反射を抑制して、ディスプレイ装置の表示のコントラストを向上する効果にも優れた導電パターンを形成できる導電性ペーストと、前記導電性ペーストを用いて、前記各特性に優れた導電パターンを有する透光性電磁波シールド板を、少ない工程で、効率よく製造する製造方法とを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises processes of forming a polysilicon film 3 on an insulating film 2, irradiating the polysilicon film 3 with an inactive ion beam, introducing impurities into the polysilicon film 3, subjecting the polysilicon film 3 to a thermal treatment, and forming a polysilicon pattern 3a positioned on the insulating film 2 through a means of subjecting the polysilicon film 3 to pattern processing.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、絶縁膜２上にポリシリコン膜３を形成する工程と、ポリシリコン膜３に不活性イオンを照射する工程と、ポリシリコン膜３に不純物を導入する工程と、ポリシリコン膜３を熱処理する工程と、ポリシリコン膜３をパターニングすることにより、絶縁膜２上に位置するポリシリコンパターン３ａを形成する工程と、を具備する。 - 特許庁

The data creation method for an electron beam projection photolithography machine is characterized by including a process of creating flat data by expanding the pattern data of a hierarchized mask, a process of performing profiling that extracts the profile line of the pattern on the flat data, and a process of extracting cells in which polygons have the same patterns and hierarchizing the cells.例文帳に追加

電子ビーム投影露光装置用のデータ作成方法において、階層化されたマスクのパターンデータを展開してフラットなデータを作成する工程と、このフラットなデータについてパターンの輪郭線を抽出する輪郭化処理を行う工程と、このフラットなデータから同一の形状のポリゴンを有するセルを抽出して階層化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In this manufacturing method for a transfer mask, having openings formed into a thin film supported with a support frame, the openings are formed, using an etching mask layer as a mask, the etching mask layer is formed, using a resist pattern formed by the lithography using a photoresist as the mask, and the corner squareness of the opening pattern is set at 90°±0.3°.例文帳に追加

支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクの製造方法であって、前記開口は、エッチングマスク層をマスクとして形成されてなり、前記エッチングマスク層は、フォトレジストを用いたリソグラフィー法により形成されたレジストパターンをマスクとして形成され、開口パターンのコーナーの直角度が、９０°±０．３°であることを特徴とする転写マスクの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a wiring material capable of avoiding inconvenience caused by soldering connection when a conductor provided for a wiring material such as an ultrathin coaxial cable is connected to a conductor pattern formed on a connection object member such as a circuit board, and of facilitating connection work between the conductor and the conductor pattern part; a connection structure of a wiring material; and its manufacturing method.例文帳に追加

極細同軸ケーブル等の配線材が有する導体を回路基板等の被接続部材に形成された導体パターン部に接続するに際し、半田付け接続により生じる不都合を回避することができるとともに、導体と導体パターン部の接続作業を容易にすることができる配線材、配線材の接続構造およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a manufacturing method of the separator for the fuel cell, carbon powder and thermoplastic resin are blended to make up a mixture, which is kneaded in a pellet shape with a kneading machine, and the pellet- shaped mixture is extrusion molded into uniform sheets, on which a pattern is transferred by a rolling machine having grooves corresponding to the pattern of the separator.例文帳に追加

燃料電池用セパレータの製造方法において、カーボン粉末と熱可塑性樹脂とを配合し混合体を形成し、該混合体を混錬機によりペレット状とし、該ペレット状混合体を押出し成形により均一なシート状に成形し、セパレータのパターンに対応した溝を有する圧延ロールによりパターンをシート状成形物に転写することにより燃料電池用セパレータを製造すること。 - 特許庁

To provide a special paper management system and a special paper identification method in which even special papers of the same type having the same dot pattern are respectively identified as different special papers in an electronic pen system for digitizing a character or a graphic of handwriting on a special paper by reading a dot pattern printed on the special paper with an electronic pen.例文帳に追加

特殊ペーパ上に印刷されたドットパターンを電子ペンで読み取ることによって特殊ペーパ上に手書きした文字や図形をデジタル化する電子ペンシステムにおいて，同一ドットパターンを有する同じ種類の特殊ペーパであってもそれぞれ別の特殊ペーパとして識別することができる特殊ペーパ管理システムおよび特殊ペーパ識別方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by which a pattern can be formed with high definition, particularly, a black image with extremely little variance in line width can be efficiently formed by forming a desired imaging pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.例文帳に追加

光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うカラーフィルタの製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

This surface unevenness forming method includes a process for forming an energy-sensitive negative resin composite layer containing at least one or more kinds of polymarizable monomers or oligomers, a process for irradiating activated energy rays at least once or more via a mask with the pattern formed or a process for directly plotting the pattern and a process for performing afterbaking without performing an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程またはパターンを直接描画する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

The substrate processing method comprises steps of forming a prescribed pattern by etching a film to be etched formed on a substrate; denaturing a substance remained after ending etching processing so as to be soluble in a prescribed liquid; subsequently silylating a surface of the film to be etched on which a pattern is formed; and thereafter dissolving and removing the substance denatured by supplying the prescribed liquid.例文帳に追加

基板上に形成された被エッチング膜をエッチング処理して所定パターンを形成する工程と、エッチング処理を終了した後に残存する物質を所定の液に対して可溶化するように変性させる工程と、次いで、パターンが形成された被エッチング膜の表面をシリル化処理する工程と、その後、所定の液を供給して変性された物質を溶解除去する工程とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the radio IC tag is characterized in that after forming the same pattern as that of the antenna circuit using solderable resin containing silver coat nickel powder or silver coat copper powder and having wettability to melted solder on the surface of a base material made of paper, the antenna circuit is formed on the pattern having excellent contact property with the base material using the melted solder.例文帳に追加

紙製の基材の表面に、銀コートニッケル粉末または銀コート銅粉末を含有すると共に溶融した半田に対して濡れ性を有する半田付け可能な樹脂を用いて、アンテナ回路と同一のパターンを形成した後、溶融した半田を用いて基材との密着性に優れた前記パターン上に前記アンテナ回路を形成することを特徴とする無線ＩＣタグの製造方法。 - 特許庁

A sensibility estimation device which estimates a sensibility during and after use of a sensibility evaluation object by a user has a preference characteristic pattern extraction means which classifies for each preference characteristic pattern acquiring a predetermined overall evaluation on a plurality of sensibility fields, using a hierarchical neural network skeleton learning method configured beforehand.例文帳に追加

ユーザが使用する感性評価対象物の使用中及び使用後の感性を推測する感性推測装置において、予め設定された階層型ニューラルネットワークのスケルトン学習法を用いて、複数の感性項目に対する所定の総合評価を得る嗜好特性パターン毎に分類を行う嗜好特性パターン抽出手段を有することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for producing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate has a film deposition step in which the film for forming a mask pattern is deposited by sputtering in a sputtering atmosphere in which at least gaseous helium is contained and a step for heating the transparent substrate during or after the film deposition step.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.例文帳に追加

有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resist cover film forming material which is suitably usable for a resist cover film for liquid immersion exposure and can make a surface be exposed hydrophobic, a forming method for a resist pattern in which a fine high-precision resist pattern effectively protecting the resist film from liquid for liquid immersion exposure and enabling high-precision exposure without spoiling the function of the resist film can efficiently be formed, etc.例文帳に追加

液浸露光用のレジストカバー膜に好適に使用可能であり、露光対象表面に疎水性を付与可能なレジストカバー膜形成材料、レジスト膜を液浸露光用の液体から有効に保護し、レジスト膜の機能を損なうことなく高精細に露光を行うことができ、微細かつ高精細なレジストパターンを効率的に形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁

The solvent composition for pattern printing of a plasma display is a solvent composition which is used when forming an element pattern constituting the plasma display by a printing method, and includes a compound in which one of the two terminal alkyl groups of dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group, and the other is a 3C or 5C straight-chain or branched-chain alkyl group.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物は、プラズマディスプレイを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数３又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fine pattern molded resin product constituted so as to eliminate irregularity which occurs when a transfer-molded resin base material is suddenly cooled to be demolded and separated from a molding recessed plate before demolded from the molding recessed plate after a fine pattern is transfer-molded on the surface of a molding resin base material by the molding recessed plate.例文帳に追加

成型用樹脂基材の表面に成型用凹版にて微細パターンを転写成型後に、その転写成型された樹脂基材を成型用凹版から離型する前にて、その転写成型された樹脂基材を急激に冷却し、成型用凹版から離型、離版させる時に生じるムラを無くす微細パターン成型樹脂製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a wiring board is characterised by comprising processes of forming the thickening layer of water-soluble polymer on the support so as to manufacture a wiring forming board, forming a prescribed pattern in aqueous conducive ink on the thickening layer, and curing the conductive ink to form a prescribed conductor wiring pattern on the wiring forming board.例文帳に追加

支持体上に水溶性高分子からなる増粘層を形成して配線形成用基板を製作する工程と、前記増粘層上に水性の導電性インクで所定のパターンを形成する工程と、前記導電性インクを硬化させて前記配線形成用基板上に所定の導体配線パターンを形成する工程と、からなることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁

In an etching method of selectively etching a polysilicon film 12 on a lower layer film 11 having a step 11a to form a specified pattern on the film 12, only a step region 12a of the polysilicon film 12 are selectively etched and the polysilicon film 12 with the etched step region 12a is selectively etched to form a specified pattern on non-step regions.例文帳に追加

段差部１１ａを有する下層膜１１上に形成されたポリシリコン膜１２をエッチングしてポリシリコン膜１２に所定のパターンを形成するエッチング方法であって、ポリシリコン膜１２の段差部領域１２ａのみを選択的にエッチングし、段差部領域１２ａがエッチングされたポリシリコン膜１２を選択的にエッチングして非段差部領域に所定のパターンを形成する。 - 特許庁

This method fetches an image about a check object having a regularly linear pattern by an image pickup device, applies differential processing to the fetched gradation image to detect a defective candidate, cuts out the original image of the defective candidate part, performs labeling processing of the cut out image, performs redecision according to the characteristic of the pattern and classifies and detects the defect and the type of the defect with high accuracy.例文帳に追加

規則的な直線状パターンを持つ検査対象についてその画像を撮像素子にて取り込み、取り込んだ濃淡画像に対して差分処理を行って欠陥候補を検出し、欠陥候補部分の原画像を切り出し、切り出した画像のラベリング処理を行い、そのパターンの特徴によって再判定を行い、欠陥を精度良くかつ欠陥の種類を分別して検出する。 - 特許庁

To provide a hard mask composition for forming an inorganic hard mask film having an excellent etching selectivity to an organic hard mask film over the organic hard mask film used in etching of a fine pattern of a semiconductor device, and a method for manufacturing semiconductor devices in which an underlying layer pattern of a semiconductor device is formed using a hard mask formed using the hard mask composition.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの食刻に用いられる有機系ハードマスク膜の上部に、有機系ハードマスク膜に対する食刻選択比に優れた無機系ハードマスク膜の形成のためのハードマスク用組成物、及びこれを利用して形成されるハードマスクを用いて半導体素子の被食刻層パターンを形成する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes: a first process of forming a resist pattern 3 on a substrate 1; a second process of irradiating the substrate 1 with UV rays while heating in an inert gas and nitrogen atmosphere or of immersing the substrate in an alkali solution while heating; a third process of implanting ions; and a fourth process of stripping the resist pattern 3.例文帳に追加

基板１上にレジストパターン３を形成する第１の工程の後に、不活性ガスおよび窒素雰囲気下で加熱しながら基板１を紫外線照射するか、もしくは基板１を加熱しながらアルカリ溶液に浸漬する第２の工程を実施し、その後イオン注入の処理を行う第３の工程を実施し、最後にレジストパターン３を除去する第４の工程を実施する。 - 特許庁

In the probe substrate for inspection that is provided with a substrate having insulation properties, a specific wiring pattern that is formed on the substrate, and a metal-plated projection that is formed, so that it is electrically connected onto the wiring pattern and comes into contact with the external terminal of a semiconductor device an electronic device, the metal- plated projection is formed through electroless plating method.例文帳に追加

絶縁性がある基板と、前記基板上に形成された所定の配線パターンと、前記配線パターン上に電気的に接続されるように形成され、半導体装置もしくは電子装置の外部端子と接触する金属めっき突起とを備えた検査用プローブ基板であって、前記金属めっき突起は、無電解めっき法で形成された金属めっき突起である。 - 特許庁

To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.例文帳に追加

水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak, to provide a photoresist composition using such a polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using such a photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a connection process for connecting a part of a silicon substrate 11 to a connection member and a cutting process for cutting the silicon substrate 11 in a state where the silicon substrate 11 is held by a resin 12 and a wiring pattern 13 by forming the resin film 12 and the wiring pattern 13 on one face of the silicon substrate 11 connected to the connection member.例文帳に追加

シリコン基板１１の一部を接続部材に接続する接続工程と、前記接続部材に接続されたシリコン基板１１の一方面には樹脂膜１２及び配線パターン１３が形成されてなり、樹脂膜１２及び配線パターン１３によってシリコン基板１１を保持した状態で前記シリコン基板１１を割る割断工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display device that can form a small molecule organic semiconductor material having characteristics of being very weak against water in a fine pattern adjustable to several μm without using a shadow mask, and uses the small molecule organic semiconductor material without damaging the small molecule organic semiconductor layer in the fine pattern.例文帳に追加

本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this pattern creation method, reflectance of a magnetic recording layer surface is varied locally by orientating locally magnetic powders in the magnetic recording layer of a magnetic recording medium in which the magnetic recording layer is formed on a non-magnetic supporter or causing locally to change an orientation direction, and the pattern is created on the magnetic recording layer surface.例文帳に追加

非磁性支持体上に磁気記録層を形成してなる磁気記録媒体の、前記磁気記録層中の磁性粉を局所的に配向せしめるか、または局所的に配向方向の変化を生ぜせしめることにより、前記磁気記録層表面の反射率を局部的に変化させ、該磁気記録層表面に図柄を形成することを特徴とする図柄形成方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film which has no foreign matter deposited thereon and has a stable electrical conductivity, and in which a light sensitive material having a light sensitive layer is used on a strip base, and is continuously exposed with a mask having a predetermined pattern to form a metallic pattern continuous on the strip base.例文帳に追加

支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、所定のパターンを有するマスクを介して連続して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成した、異物付着がなく、安定した導電性を有する電磁波シールドフィルムの製造方法と電磁波シールドフィルム及びこの電磁波シールドフィルムを使用したプラズマディスプレイパネルの提供。 - 特許庁

This method for forming the pattern coating film comprises a step for forming an irregular and discontinuous pattern on the surface of a base material precoated with undercoating by bringing the flocked coating roller, which has an uneven surface impregnated with topcoating having a hue different from that of the undercoating, into contact with the surface of the base material to tumble the same.例文帳に追加

１）予め下塗り塗料が塗装された基材表面に、前記下塗り塗料とは異なる色調の上塗り塗料を表面に凹凸を有する植毛された塗装ローラーに含ませた後、前記塗装ローラーを接触転動させることにより、不規則で非連続的な第１の模様を形成するステップからなることを特徴とする模様塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor memory test pattern forming method is structured; to make the operation data of the semiconductor memory test pattern described in a format independent of the types of semiconductor testing apparatus and; to output the test specifications of the above semiconductor memory based on the above operation data after verifying the above operation data with an emulation function corresponding to the above format.例文帳に追加

半導体メモリの試験パターンを作成する方法において、半導体試験装置の種類に依存しないフォーマットで記述された半導体メモリ試験パターンの動作データを作成し、上記動作データを上記フォーマットに対応するエミュレート機能により検証した後、上記動作データにもとづいて上記半導体メモリの試験仕様書を出力する構成とする。 - 特許庁

To enable growth of polarization inversion controllable uniformly, in a surface in a method for forming a local polarization inversion part, corresponding to a pattern of an electrode in ferroelectric crystal by forming the electrode having the prescribed pattern in the one surface of the monopolarized ferroelectric crystal, and applying electric field to the front and back surfaces of the ferroelectric crystal via the electrode.例文帳に追加

単分極化された強誘電体結晶の一表面に、所定のパターンを有する電極を形成し、この電極を介して強誘電体結晶の表裏に電場を印加することにより、該強誘電体結晶に前記電極のパターンに対応した局部的な分極反転部を形成する方法において、面内で均一に分極反転の成長を制御可能とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This pattern forming method by immersion lithography forms a resist film 102 form on a wafer 101, and then pattern exposure is performed by selectively irradiating the resist film 102 with exposure light 104 in a state that liquid 103 is disposed on the formed resist film 102, which includes sunflower oil or olive oil including an unsaturated fatty acid, for example, an oleic acid.例文帳に追加

液浸リソグラフィによるパターン形成方法は、ウエハ１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、続いて、形成されたレジスト膜１０２の上に不飽和脂肪酸、例えばオレイン酸を含むひまわり油又はオリーブ油等を含む液体１０３を配した状態で、レジスト膜１０２に対して露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁

The imprinting method and apparatus therefor are characterised by having a step of softening a resist of the processed product by using gas under pressure and a supercritical fluid, the processed product being composed of a substrate where the resist is applied, and a step of pressing a mold, on which a predetermined pattern is formed to the resist of the processed product, to transfer the predetermined pattern to the resist.例文帳に追加

加圧気体又は超臨界流体を利用して、レジストが塗布された基板からなる被処理体の前記レジストを柔軟にする工程と、前記被処理体の前記レジスト側に、所定のパターンが形成されたモールドを押し付けて前記所定のパターンを前記レジストに転写する工程とを有することを特徴とするインプリント方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step for dividing a pattern area which is an area to draw the electron beams into drawing areas; a step for specifying a drawing order to the divided drawing areas; a step for drawing the drawing area according to the drawing order; and a step for drawing the drawing areas in the reverse order of the drawing order.例文帳に追加

電子線描画を行う領域であるパターン領域を描画領域に分割する工程と、分割された描画領域に描画順序を指定する工程と、描画順序に従って描画領域を描画する工程と、描画順序とは逆順に描画領域を描画する工程と、を備えることを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This KANJI retrieving method adopts twenty-four reference patterns formed by combining one to four lines, while each reference pattern is composed of one type of a line or two types of lines among four types of lines which are horizontal, vertical, downward to the right or downward to the left, and retrieves KANJI by searching a similar reference pattern from the structure of KANJI strokes.例文帳に追加

１本乃至４本の線条を組合せてなる２４個の基準パターンを採用し、各基準パターンが、水平、垂直、右下がり、左下がりの四種類の線条のうち一種類の線条或いは二つの種類の線条を以て組成され、漢字の字画の骨組より類似する基準パターンを探すことにより漢字を検索することを特徴とした漢字検索方法としている。 - 特許庁

In addition, the method also has a process of forming a pattern to be a wiring precursor on the substrate using the metal-nanoparticle paste including the coated metal-nanoparticle and the disperse solvent, a process of acting the polar solvent solution including the polar solvent or the dissolution aid to the pattern on the substrate, and a process of drying the substrate to sinter the metal-nanoparticle and to form the wiring.例文帳に追加

また、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストを用いて、配線前駆体となるパターンを基板上に形成する工程と、前記基板上のパターンに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程と、前記基板を乾燥させて前記金属ナノ粒子を焼結させ、配線を形成する工程とを含む。 - 特許庁

This design method for a semiconductor integrated circuit is provided with a net list creation step (S121) for creating a net list, which includes connection information between and inside macros of the semiconductor integrated circuit and identification information about the used macro, and a test pattern creation step (S122) creating a test pattern for the semiconductor integrated circuit on the basis of the identification information about the used macro inside the net list.例文帳に追加

半導体集積回路のマクロ間及びマクロ内の結線情報並びに使用するマクロの識別情報を含むネットリストを生成するネットリスト生成ステップ（Ｓ１２１）と、ネットリスト内の使用マクロの識別情報を基に半導体集積回路の試験パターンを生成する試験パターン生成ステップ（Ｓ１２２）とを有する半導体集積回路の設計方法が提供される。 - 特許庁

To provide an image scanner, image position deviation detecting method, and storage medium in which the state of position deviation between a reading position that is ideal in design for a pattern image formed on a test document or the like and a reading position of an actually read pattern image can be detected without performing any complicated image processing in the image reading device that reads image data of documents.例文帳に追加

原稿の画像データを読取る画像読取装置において、テスト原稿などに形成されたパターン画像に対する設計上理想的な読取位置と実際に読取ったパターン画像の読取位置との位置ずれ状態を複雑な画像処理を行うことなく検出することを可能とする画像読取装置、画像の位置ずれ検出方法、及び記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing a display plate for a display apparatus, after a photosensitive film comprising a photosensitive substance is formed on a substrate including an active region, the photosensitive film is exposed by dividing the active region into a plurality of shots including first and second shots adjacent to each other and developed to form a photosensitive film pattern as an etching mask to form a thin film pattern.例文帳に追加

表示装置用表示板の製造方法では、アクティブ領域を含む基板の上部に、感光性物質からなる感光膜を形成した後、アクティブ領域を互いに隣接した第１ショットと第２ショットを含む複数のショットに分割して感光膜を露光し、現像して薄膜パターンを形成するためのエッチング用マスクである感光膜パターンを形成する。 - 特許庁