「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(406ページ目) - Weblio英語例文検索

First and second information on allocation of patterns are added to boundary lines among small regions, and the patterns which are kept in contact with the boundary Lines and selected out of the complementarily divided patterns are allocated as referring to the first and second information, so that parallel processing can be realized by small region unit, and a troublesome pattern can be prevented from occurring in the mask pattern forming method.例文帳に追加

小領域の境界線にパターンの振り分けに関する第１および第２の情報を付加し、相補分割されたパターンのうち、境界線に接するパターンについては、第１および第２の情報を参照してパターンの振り分けを行うことにより、小領域単位での並列処理と問題パターンの発生防止を可能とするマスクパターン作成方法。 - 特許庁

To provide a metal wiring substrate and a method of manufacturing the same, which can form a pattern of a metal film with a simple process not requiring any etching process on a metal film, can precisely form a fine pattern, even on a metal such as copper (Cu) that is difficult to control etching, and is superior in material utilization efficiency, and a metal wiring substrate for reflection liquid crystal display.例文帳に追加

金属膜のエッチング工程を必要とせず簡単なプロセスによりパターン形成することができ、銅（Ｃｕ）等のエッチング制御が困難な金属であっても精細にパターニングでき、かつ材料の利用効率の優れた金属配線基板及び金属配線基板の製造方法並びに反射型液晶表示装置用金属配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film for a multilayer resist process which is excellent in storage stability, can form a silicon-containing film having a high Si content and a small permeation amount of a resist material, and can stably form a resist pattern having a superior bottom profile without causing trailing or the like, and to provide a silicon-containing film and a pattern forming method.例文帳に追加

保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the conductive member includes an overlay process for overlaying a conductor 3 having a nonconductive thermoplastic adhesive layer 6 formed on the surface thereof with a nonconductive base material 2 from the thermoplastic adhesive layer side, a perforation process for perforating the conductor on the base material with a predetermined pattern, and an adhesion process for thermally adhering the conductor to the base member with the above pattern.例文帳に追加

表面に非導電性の熱可塑性接着剤層６が形成されている導電体３を、熱可塑性接着剤層の側から非導電性の基材２に重ね合わせる重畳工程と、基材上で導電体を所定のパターンで打ち抜く打ち抜き工程と、導電体を基材に上記パターンで加熱接着する接着工程とを含む。 - 特許庁

The method includes a step for acquiring information related to data to be transferred to a first telecommunication device, a step for adjusting a transmission power of a signal representing a pilot symbol pattern according to the relevant information, and a step for transferring the signal representing a pilot symbol pattern by the adjusted transmission power, as a plurality of steps to be executed by a second telecommunication device.例文帳に追加

方法は、第２の電気通信デバイスによって実行される複数のステップとして、第１の電気通信デバイスへ転送されるべきデータに関連する情報を取得するステップと、関連する情報に応じて、パイロットシンボルパターンを表す信号の送信電力を調整するステップと、パイロットシンボルパターンを表す信号を調整された送信電力で転送するステップとを含む。 - 特許庁

This questionnaire evaluation method, which is provided with a response result table for collecting the response results of the questions and dummy questions of questionnaires, comprises a step for calculating a pattern showing mental tendency based on the answer results of one or both of the questions and the dummy questions in the response result table and a step for calculating coefficients corresponding to the pattern to correct the response results.例文帳に追加

アンケートの質問およびダミー質問の回答結果を収集する回答結果テーブルを設け、回答結果テーブル中の質問およびダミー質問の一方あるいは両方の回答結果をもとに心理的傾向を表すパターンを算出するステップと、パターンに対応した係数を算出して回答結果を補正するステップとを有するアンケート評価方法である。 - 特許庁

The method for generating the power supply terminal pattern includes the steps of deciding the layout of the inside of the macros, deciding the layout of terminal cores on which positioning of power supply terminals for power supply is based at an uppermost layer of the macros, and generating the pattern of the power supply terminal on the basis of the terminal cores depending on layout information of the macros in a chip.例文帳に追加

本発明による電源端子パターン生成方法は、マクロの内部のレイアウトを決定し、該マクロの最上層において電源供給用の電源端子を位置決めする基礎となる端子コアのレイアウトを決定し、チップ内での該マクロの配置情報に応じて該端子コアに基づいて該電源端子のパターンを生成する各段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This invention relates to the irregular pattern forming method including an irregular pattern forming process of forming the irregular patterns in the substrate surface by heating and/or light irradiation when the irregular type stamper constituted by an elastic material is pressed to the thin film which is formed in the substrate surface and contains a hardening material as a principal component; and meeting the following formula (1).例文帳に追加

基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。 - 特許庁

A system and method for inserting an intraocular lens in a patient's eye includes a light source for generating a light beam, a scanner for deflecting the light beam to form an enclosed treatment pattern that includes an registration feature, and a delivery system for delivering the enclosed treatment pattern to target tissue in the patient's eye to form an enclosed incision therein having the registration feature.例文帳に追加

患者の眼に眼内レンズを挿入するためのシステム及び方法は、光ビームを発生させるための光源と、光ビームを偏向させて、位置合わせ特徴部を含む封入治療パターンを形成するためのスキャナと、患者の眼のターゲット組織へ封入治療パターンを送出して、そこに位置合わせ特徴部を有する封入切開部を形成するための送出システムとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method includes: a first step to etch a bulk substrate so as to form at least one floating body pattern; a second step to etch a bulk area beneath the floating body pattern so as to divide the bulk substrate into a substrate area and a floating body area; and a third step to fill an area between the floating body area and the substrate area with an insulating material.例文帳に追加

バルク基板をエッチングして少なくとも一つのフローティングボディーパターンを形成する第１工程と、フローティングボディーパターン下部のバルク領域をエッチングして、バルク基板を基板領域とフローティングボディー領域とに分離する第２工程と、フローティングボディー領域と基板領域との間を絶縁物質で満たす第３工程と、を含む半導体基板の製造方法。 - 特許庁

This invention provides the inorganic decorative construction plate A constituted by fixing a powdery and granular material 5 for decoration on the surface of the inorganic plate 1 having an embossed recessed and projecting pattern and forming a melted trace recessed part pattern by a melted trace recessed part 4 in which a thermally melting resin piece 6 is heated and melted and the manufacturing method for manufacturing this inorganic decorative construction plate A with excellent productivity.例文帳に追加

エンボス凹凸模様を有する無機質板（１）の表面に、装飾用粉粒状物（５）が固着されているとともに、熱溶融性樹脂片（６）が加熱溶融した溶融痕跡凹部（４）により、溶融痕跡凹部模様が形成された、無機質化粧建築板（Ａ）と、この無機質化粧建築板（Ａ）を生産性良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an anti-glare film including a rugged fine pattern comprising discontinuous dots formed on a flexible support comprises at least: a step of supplying photosensitive image forming material onto the flexible support to form a photosensitive layer; and a step of exposing and developing the photosensitive layer with an active light beam to form the rugged fine pattern comprising the discontinuous dots.例文帳に追加

可撓性支持体上に、感光性画像形成材料を供給して感光層を形成する工程と、 前記感光層を活性光線で露光、現像して、不連続なドットからなる凹凸微細パターンを形成する工程と、 を少なくとも有することを特徴とする、可撓性支持体上に不連続なドットからなる凹凸微細パターンが形成されている防眩フィルムの製造方法。 - 特許庁

When recording is made to the write once type optical recording medium recordable and reproducible with a blue laser by CAV scheme, ZCLV scheme or PCAV scheme, the recording method is configured such that, a laser emission pattern having two or more kinds of recording power is used, and the laser emission pattern and the laser emission time standardized by the reference clock is fixed regardless of the recording linear velocity.例文帳に追加

青色レーザにより記録・再生可能な追記型光記録媒体に対し、ＣＡＶ方式、ＺＣＬＶ方式、又はＰＣＡＶ方式で記録を行う際に、２種類以上の記録パワーを有する記録パルスを含むレーザ発光パターンを用い、該レーザ発光パターン及び基準クロックで規格化されたレーザ発光時間を、記録線速度に依らず固定する記録方法。 - 特許庁

To provide a resist material capable of forming a pattern, having high resolution and high sensitivity and excellent in plating resistance by exposure, particularly with UV exposure with ≥300 nm wavelength, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となる高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を分子中に有する化合物を含有することを特徴とする波長３００ｎｍ以上の紫外線を露光光源とするレジスト材料。 - 特許庁

The calculation method of the amount of power generation of a fuel cell is made by correlating a flow path pattern to physical property for a fuel cell that generates power by flowing fuel gas into a flow path having a prescribed pattern.例文帳に追加

所定の形状を有する流路に燃料ガスを流通させ発電する燃料電池について、流路形状と物理特性とを関連付けて燃料電池の発電量を計算する燃料電池の発電計算方法であって、流路形状（１）を縮小した相似形状に前記物理特性を関連づけたモデル（１０）を用いて発電計算を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate comprises a film forming process for sputter-forming the film for forming the mask pattern by containing at least helium gas in sputtering atmosphere and a process for heating the transparent substrate during or after the film forming process.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of carrying a semiconductor chip 20 having a pad 22 on a wiring board 10 having a wiring pattern 12 through thermosetting paste 30, arranging the mask 40 having an opening 42 and overlapping with the wiring pattern 12 so that the opening 42 overlaps the paste 30, and thermally setting the paste 30 by microwave heating.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、熱硬化性のペースト３０を介して配線パターン１２を有する配線基板１０にパッド２２を有する半導体チップ２０を搭載すること、開口４２を有し配線パターン１２とオーバーラップするマスク４０を、開口４２がペースト３０とオーバーラップするように配置すること、及び、マイクロ波加熱によってペースト３０を熱硬化させることを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic electroluminescent display device 1 comprises a microlens forming step of forming a lens pattern corresponding to the microlens 17 that refracts the light from the organic luminescent layer 14 by photolithographic treatment on a first transparent resin deposited on a substrate 11 and forming the microlens 17 by reflow treatment on the lens pattern.例文帳に追加

基板１１上に成膜した第１の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、有機発光層１４からの光を屈折するマイクロレンズ１７に応じたレンズパターンを形成し、レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、マイクロレンズ１７を形成するマイクロレンズ形成ステップ、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造方法。 - 特許庁

A method of producing a color filter includes (a) forming a colored pattern on a substrate by exposing and developing a colored curable composition containing a dye; a polymerizable monomer and an organic solvent, (b) forming a transparent protective film on the formed colored pattern; and (c), irradiating at least the transparent protective film with a light, after the transparent protective film is formed.例文帳に追加

（ａ）染料と重合性モノマーと有機溶剤とを含む着色硬化性組成物を、露光し現像して、基板の上に着色パターンを形成する工程と、（ｂ）形成された前記着色パターン上に、透明性保護膜を形成する工程と、（ｃ）前記透明性保護膜の形成後に少なくとも該透明性保護膜を光照射処理する工程とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a counterfeit preventing structure which provides: a first region comprising a pattern reflection layer; and a second region comprising a part of a pattern optical layer having an optical effect, with sufficient position accuracy, is high in design, and confirms various changes in the second region with sufficient visibility, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法の提供を課題とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a ceramic substrate includes the steps of: forming a coating layer consisting of a coating material on a surface of a baked ceramic substrate; forming a conductor pattern consisting of conductive paste on the coating layer; and thermally decomposing the coating layer at a baking temperature of the conductive paste and combining the conductor pattern with the surface of the baked ceramic substrate.例文帳に追加

焼成済みセラミック基板の表面にコーティング材料からなるコーティング層を形成する工程と、前記コーティング層上に導電ペーストからなる導体パターンを形成する工程と、前記導電ペーストの焼成温度で前記コーティング層を熱分解するとともに前記導体パターンを前記焼成済みセラミック基板の表面に結合させる工程と、からなるセラミック基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a polymer compound which can constitute a photoresist composition having an excellent resolution, forming a fine pattern with a good rectangularity, obtaining favorable resist characteristics even when acid strength of an acid generated from an acid generator is weak, and having favorable sensitivity, the photoresist composition using the polymer compound and a resist pattern formation method using the photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the display includes forming a sealing pattern by applying a sealant having the photoinitiator containing the oxime ester compound along a peripheral part of the first substrate, dropping a liquid crystal onto the first substrate, disposing the second substrate on the first substrate so as to be opposed to the first substrate, and joining the first substrate to the second substrate by the sealing pattern.例文帳に追加

表示装置の製造方法は、第１基板の縁部に沿って、オキシムエステル化合物を含む光開始剤を有する封止剤を塗布して封止パターンを形成すること、第１基板上に液晶を滴下すること、第１基板と対向するように第１基板上に第２基板を配置すること、及び封止パターンが第１基板と第２基板とを互いに接合することを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern electrode formed of a conductive layer formed on a support body and containing metal fine particles, includes a step of forming the conductive layer by coating a liquid containing metal fine particles on the support body, a step of pattern-printing metal fine particle-removing liquid on the conductive layer, and a cleaning step.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 - 特許庁

To provide an encryption pattern generating method and an encryption recording medium for acquiring a plurality of restored images by applying one common encryption pattern to a plurality of encryption patterns, that is, achieving one-versus-multiple image restoration while using a visual secret sharing scheme where two encryption patterns are superposed to restore original image information.例文帳に追加

２つの暗号パターンを重ね合わせ元の画像情報を復元する視覚復号型秘密分散法を用いながらも、複数の暗号パターンに対し１つの共通暗号パターンを作用させることにより複数の復元画像が得られるような、すなわち１対多による復元画像が可能となる暗号パターンの生成方法および暗号記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

Following means are used, wherein this pattern for strain measurement is formed on a sample surface for visualizing strain of the sample by a strain-measuring method, and a plurality of patterns fit to each strain having each different scale level are formed in piles, on the same sample surface, and each pattern has each different regularity, shape or size mutually.例文帳に追加

上記課題を解決するために、歪み計測用パターンは、歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成され、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してあること、また、前記各パターンは、相互にその規則性、形状又は大きさが異ならせてあることを特徴とする手段を用いた。 - 特許庁

To provide: a wiring material avoiding inconveniences occurring by soldering connection and facilitating the work of connecting a conductor with a conductor pattern part when connecting the conductor of the wiring material such as an extra-fine coaxial cable with the conductor pattern part formed on a connected member such as a circuit board; a connection structure of the wiring material; and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

極細同軸ケーブル等の配線材が有する導体を回路基板等の被接続部材に形成された導体パターン部に接続するに際し、半田付け接続により生じる不都合を回避することができるとともに、導体と導体パターン部の接続作業を容易にすることができる配線材、配線材の接続構造およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the cured pattern by which a pattern obtained from a photosensitive resin composition including a resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent is exposed and cured with 10 to 10,000 mJ/cm^2 at 50 to 180°C, the resin includes a structural unit originating from a monomer having a 2-4C cyclic ether.例文帳に追加

樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物から得られたパターンを、５０℃〜１８０℃の条件下で、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２露光する硬化されたパターンの製造方法において、樹脂が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化されたパターンの製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by photolithography in which a resist coating material of an unexposed part removed in a developing step is reutilized to reduce the consumption of an alkali developing solution used for washing the photoresist coating material off as well as to avoid waste of the photoresist coating material and to provide a pattern forming apparatus.例文帳に追加

現像工程で除去されていた未露光部分のレジスト塗料を再利用することにより、当該フォトレジスト塗料の無駄を小さく抑えるとともに、当該フォトレジスト塗料を洗い流すために用いられているアルカリ現像液の消費量も低下させることが可能なフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a printed wiring board allowing for stable and accurate appearance quality check of the opening pattern of a via or stable and accurate check for the presence or absence of the occurrence of elution of copper (Cu) at a land exposed at an opening of a via which has strong correlation with the occurrence of defects in an opening pattern of such a via, and to provide a method of manufacturing the printed wiring board.例文帳に追加

ビアの開口パターンの外観品質を安定的に正確に検査することを可能とした、あるいはそのようなビアの開口パターンの不具合の発生と強い相関関係のある、ビアの開口にて露出するランド部における銅（Ｃｕ）の溶出の発生の有無を安定的に正確に検査することを可能とした、プリント配線板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the forgery preventing printing method, the second printed image is dried in a state where a surface of a first printed image where information pattern is formed and a surface of a second printed image where the information pattern is to be transferred and ink is not dried yet are laminated, to thereby develop glossiness difference between a region in the second printed image where the first printed image is superposed and its peripheral region.例文帳に追加

情報パターンを形成した第１印刷画像の面と、該情報パターンを転写させるインキが未乾燥の第２印刷画像の面を重ね合わせた状態で該第２印刷画像を乾燥させることにより、該第２印刷画像の中の該第１印刷画像と重ね合った領域とその周辺領域に光沢差を発現させることを特徴とする偽造防止印刷方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes: a step of forming a semiconductor chip having an electrode 15 on a surface on a main surface of a wafer 11; a step of forming a lower layer ground metal film 20B on the surface; a step of forming a resist pattern 50 having an aperture on the electrode 15; and a step of removing the resist pattern 50 after forming a conductive post 22 in the aperture part.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、表面に電極１５を有する半導体チップをウェハ１１の主面に形成する工程と、表面に下層下地金属膜２０Ｂを形成する工程と、電極１５上に開口部を有するレジストパターン５０を形成する工程と、開口部に導電性ポスト２２を形成した後にレジストパターン５０を除去する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

The method of refreshing the toner in two-component developing apparatus includes: detecting a change in toner density in the developing apparatus by using a toner density sensor when a predetermined toner consumption pattern is developed; and carrying out a toner-consuming operation so that the phase of the waveform output from the toner density sensor and generated when the second toner consumption pattern is developed, is out-of-phase with the detected first waveform output from the toner density sensor.例文帳に追加

２成分現像装置におけるトナーリフレッシュ方法において、所定のトナー消費パターンを現像したときの現像装置内のトナー濃度の変化をトナー濃度センサにより検知し、該検知した１回目のトナー濃度センサの出力波形に対して、２回目のトナー消費パターンを現像するときのトナー濃度センサの出力波形の位相がズレるようにトナー消費動作を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the change in a width of a line of a connecting part of a transferred pattern and effectively connecting a plurality of divided patterns in the case of forming the pattern of the semiconductor device, by transferring to a resist coating the wafer by using an electron beam exposure device by forming a plurality of the divided patterns on the mask.例文帳に追加

分割された複数のパターンをそれぞれのマスク上に形成し、ウエハ上に塗布したレジストに電子線露光装置を用いて転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、かつ、分割された複数のパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fine structure drying treatment method and a fine structure drying treatment apparatus for efficiently, quickly, and uniformly drying a large-diameter substrate of 100 mm or larger, in which a fine pattern is formed where pattern falls and element adhesion may occur by the influence of the surface tension of a rinse liquid simply by locally heating only a dry fluid in drying.例文帳に追加

本発明の目的は、乾燥時に乾燥流体だけを局部的に加熱するだけで、リンス液の表面張力の影響によりパターン倒れや素子の固着が発生しうる微細なパターンを形成した１００ｍｍ以上の大口径基板に対して効率良く短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

A method of isolating structures of a semiconductor material comprises a step of providing a pattern of the semiconductor material including at least one elevated line; a step of defining device regions which at least include at least one elevated line in the pattern; and a step of modifying the conductive properties of the semiconductor material outside the device regions so as to electrically isolate the device regions.例文帳に追加

半導体材料の構造分離方法は、少なくとも一つの高架線（elevated line）を含む半導体材料のパターンを設けるステップと、前記パターン内に前記少なくとも一つの高架線を少なくとも含むデバイス領域を画成するステップと、前記デバイス領域の外側の前記半導体材料の導電性を変化させ、前記デバイス領域を電気的に分離するステップとを含む。 - 特許庁

A manufacturing method for a semiconductor device using acid diffusion comprises forming a resist pattern in a partial area of a substrate,contacting a result forming the resist pattern with descumming solution which includes an acid source, resolving a resist residue which remains on a substrate face within the descumming solution using an acid obtained from the acid source, and removing the resolved residue and descumming solution from the substrate.例文帳に追加

基板上の一部領域にレジスト・パターンを形成し、レジスト・パターンが形成された結果物に酸ソースを含むデスカム溶液を接触させ、デスカム溶液内で、酸ソースから得られる酸を利用して、基板表面に残留するレジスト残留物を分解させ、分解された残留物及びデスカム溶液を基板から除去する、酸の拡散を利用する半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: forming an adhesive pattern by forming, on a semiconductor wafer, an adhesive layer by sticking an adhesive film formed of a photosensitive adhesive composition to the semiconductor wafer at ≤100°C, and subjecting the adhesive layer to exposure and development treatments; and sticking an adherend to the semiconductor wafer through the adhesive pattern.例文帳に追加

感光性接着剤組成物からなる接着フィルムを１００℃以下で半導体ウェハに貼付けることにより接着剤層を半導体ウェハ上に形成し、該接着剤層を露光及び現像処理することにより接着剤パターンを形成する工程と、接着剤パターンを介して半導体ウェハに被着体を接着する工程と、を備える半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the membrane mask manufacturing method whereby an absorber 14 is formed on a membrane 12, a stress of a lower absorber 14a is adjusted and the thickness of the lower absorber 14a is determined according to a typical pattern size W to reduce the stress distribution in the thickness direction of the absorber 14, thereby obtaining a membrane mask having an absorber pattern formed at a high position accuracy.例文帳に追加

メンブレン１２上に吸収体１４を成膜するメンブレンマスクの製造方法において、下部吸収体１４ａの応力を調整し、下部吸収体１４ａの厚さは代表的パターンサイズＷに対応して決定することによって、吸収体１４の厚さ方向の応力分布を小さくし、吸収体パターンが高位置精度のメンブレンマスクを得る。 - 特許庁

The method consists of a step 120 obtaining data representing the pattern, a step 122 defining a plurality of distinct zones based on the critical dimensions of the plurality of features, a step 124 categorizing each of the features into one of the plurality of distinct zones and steps 126,128,130 modifying the mask pattern for each feature categorized into a predefined distinct zone of the plurality of distinct zones.例文帳に追加

該方法は、パターンを示すデータを取得するステップ１２０と、複数のフィーチャの臨界寸法に基づいて複数のゾーン区分を定義するステップ１２２と、区分された複数のゾーンの１つに各フィーチャを分類するステップ１２４と、複数区分ゾーンの予め定義されたゾーンに分類がなされたフィーチャごとにマスクパターンを修正するステップ１２６，１２８，１３０とから成る。 - 特許庁

In the coated glass vessel having the hardened coating film having the mottling pattern and the manufacturing method for the same, the hardened coating film having the mottling pattern is formed by spray-coating the surface of the glass vessel with a coating material composition for glass which contains 50-400 pts.wt. polyol compound and 5-100 pts.wt. silane coupling agent respectively to 100 pts.wt. melamine resin.例文帳に追加

まだら模様の硬化塗膜を有する塗装ガラス容器およびその製造方法であって、メラミン樹脂１００重量部に対して、ポリオール化合物を５０〜４００重量部、シランカップリング剤を５〜１００重量部の範囲でそれぞれ含むガラス用塗料組成物を使用して、ガラス容器の表面に、スプレー塗装等によって、まだら模様の硬化塗膜を形成する。 - 特許庁

The charged particle beam drawing method for exposing a pattern comprising a plurality of pixels on a substrate by scanning with charged particle beams has a step for generating an instruction value so that the exposure time of a pixel located at the edge of the pattern becomes smaller than that of other pixels, and a step for correcting the instruction value based on the instruction value of the pixel immediately before.例文帳に追加

【解決手段】 荷電粒子線を走査して基板上の複数のピクセルからなるパターンを露光する荷電粒子線描画方法において、前記パターンのエッジに位置するピクセルの露光時間が他のピクセルの露光時間よりも小さくなるように指令値を生成する生成ステップと、前記指令値を直前のピクセルの指令値に基づいて補正する補正ステップとを有する。 - 特許庁