「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(246ページ目) - Weblio英語例文検索

The optimum loading pattern is found by repeating manipulations of replacing the loading patterns of the K types with the loading pattern V1 from the loading pattern of the lowest conformity among the loading patterns J1.例文帳に追加

装荷パターンＪ１の適合度の最も低い装荷パターンからＫ種類の装荷パターンと装荷パターンＶ１とを入れ替える処理を繰り返し、最適な装荷パターンを求める。 - 特許庁

A plurality of assist features 15 is added close to the narrow region 11 in the mask pattern having the main isolated pattern (narrow region 11) so as to locally increase the pattern density.例文帳に追加

主たる孤立パターン（狭小領域１１）を含むマスクパターンに、その狭小領域１１のごく近傍に複数のアシスト形状部１５を付加し、パターン密度を局所的に高める。 - 特許庁

As the pattern on a mirror device 106 is controlled in 10,000 Hz frame number in the pattern drawing apparatus, a new pattern is projected onto a mask substrate 108 at every 0.1 ms.例文帳に追加

パターン描画装置では１００００Ｈｚのフレーム数でミラーデバイス１０６上のパターンが制御されるため、０．１ｍｓごとに新しいパターンがマスク基板１０８上に投影される。 - 特許庁

Then, a conductor pattern 6 is formed as a wiring circuit pattern on the base insulating layer 5, and a cover insulating layer 7 is formed on the base insulating layer 5 so as to cover the conductor pattern 6.例文帳に追加

次いで、ベース絶縁層５の上に導体パターン６を配線回路パターンとして形成し、ベース絶縁層５の上に導体パターン６を被覆するようにカバー絶縁層７を形成する。 - 特許庁

CONDUCTIVE SUBSTRATE FOR PLATING, MANUFACTURING METHOD THEREOF, METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN OR SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME, SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, AND LIGHT TRANSPARENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER例文帳に追加

めっき用導電性基材、その製造法、それを用いた導体層パターン若しくは付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材及び透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁

Thereafter, the player arbitrarily selects and inputs one winning pattern out of a winning pattern group composed of a plurality of kinds of predetermined winning patterns (ref., pattern selection picture (2)).例文帳に追加

その後、予め定められた複数種類の当たり図柄からなる当たり図柄群の中から１つの当たり図柄をプレーヤーが任意に選んで入力する（▲２▼図柄選択画面参照）。 - 特許庁

To provide a pattern recognition method, a character recognition method, a pattern recognition program and a character recognition program for quickening processing by performing processing to efficiently recognize a pattern.例文帳に追加

効率的にパターンを認識する処理を行うことにより、処理の高速化を図れるパターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラムおよび文字認識プログラムを提供できる。 - 特許庁

The first pattern element 20 and the second pattern element 25 form a plurality of micro character strings (m), and the first pattern element 20 forms a latent image on the micro character strings (m).例文帳に追加

第１絵柄要素２０と第２絵柄要素２５は、複数のマイクロ文字列ｍを形成すると共に、第１絵柄要素２０はマイクロ文字列ｍ上の潜像を形成している。 - 特許庁

A resist pattern 53 for gates corresponding to a trench gate pattern is formed at the resist 49 of the cell formation region 3, and a dummy resist pattern 55 is formed in the resist 49 of the termination formation region 5.例文帳に追加

セル形成領域３のレジスト４９にトレンチゲートパターンに対応するゲート用レジストパターン５３を形成し、終端部形成領域５のレジスト４９にダミーレジストパターン５５を形成する。 - 特許庁

The liquid pattern PL is irradiated with laser light before respective green sheets 23 are stacked and then a surface in contact with the liquid pattern PL across the liquid pattern Pl is made to generate heat.例文帳に追加

各グリーンシート２３を積層する前に、液状パターンＰＬにレーザ光Ｌを照射し、液状パターンＰＬを介して液状パターンＰＬと接触している面を発熱させる。 - 特許庁

To prevent a pattern mask from dissolving and also uniformly smooth the surface of the pattern mask in plane of a substrate in a process of restricting the roughness of pattern masks.例文帳に追加

パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う方法において、パターンマスクの溶解を防ぐと共に、基板の面内で当該パターンマスクの表面を均一に平滑化させること。 - 特許庁

Then, a 1st pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 1st unit exposure area on a photosensitive base plate 17.例文帳に追加

そして、パターン領域に形成された第１パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを感光性基板（１７）上の第１単位露光領域に露光する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus which suppresses the degradation in the accuracy of pattern formation due to yawing of a substrate by correcting the ink discharge timing of heads and realizes pattern formation of high accuracy.例文帳に追加

基板のヨーイングに起因するパターン形成の精度低下を、ヘッドのインク吐出タイミングを補正することで抑制し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printing control apparatus which produces an appropriate ground tint pattern image by adding a monochrome ground tint pattern even when a color ground tint pattern is set in monochrome printing.例文帳に追加

カラー地紋が設定されている状態でモノクロモードの印刷を行っても、モノクロ地紋を付加することで、適切な地紋画像を得ることができる印刷制御装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of pattern images having different area ratio are formed by a pattern signal generating apparatus 41 (pattern image forming means) in an area of low area ratio including an image reproduction start point setting value.例文帳に追加

パターン信号発生装置４１（パターン画像生成手段）により画像再現開始点設定値を含む面積率が低い領域で、異なる面積率の複数のパターン画像を形成する。 - 特許庁

To provide a character pattern checking device and a different type inclusion checking device applying a pattern recognizing device whose circuit constitution is relatively simple to the checking of the print quality of a character pattern.例文帳に追加

回路構成も比較的簡単なパターン認識装置を文字パターンの印字品質の検査に適用した文字パターン検査装置および異品種混入検査装置を得るものである。 - 特許庁

The light-emitting element includes an active pattern arranged on the substrate, an upper mirror provided on the active pattern, and a lower mirror provided under the active pattern and can emit a light which is perpendicular to the substrate.例文帳に追加

前記発光部は、前記基板上に配置されたアクティブパターンと、前記アクティブパターンの上部に備えられた上部鏡と、前記アクティブパターンの下部に備えられた下部鏡とを含む。 - 特許庁

The notifying device 50 notifies prize winning of a specific pattern concerned with prize winning, out of plural kinds of patterns as a result of pattern drawing performed by a pattern drawing means 90.例文帳に追加

告知装置５０は、図柄抽選手段９０による図柄抽選の結果、複数種類の図柄のうち、入賞に係る特定図柄が当選したことを告知するものである。 - 特許庁

The plurality of kinds of variation patterns are associated to each of the plurality of variation pattern tables such that selection frequency of the selected variation pattern becomes individual frequency in each variation pattern table.例文帳に追加

複数の変動パターンテーブルのそれぞれには、選択される変動パターンの選択頻度が変動パターンテーブルごとに個別の頻度となるよう複数種類の変動パターンが対応付けられる。 - 特許庁

This manufacturing technique forms an auxiliary pattern 301 having a more detailed aperture diameter than an aperture pattern 204 on an absorption layer 203 adjacent to the aperture pattern 204 where a phase failure 211 occurs.例文帳に追加

位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。 - 特許庁

Thus the switching from the night pattern to the daytime pattern is performed without stopping the heat source operated with the night pattern, and the rise of the water supply temperature (temperature of cold water) can be suppressed.例文帳に追加

これにより、夜パターンで運転されていた熱源を停止することなく、夜パターンから昼パターンへの切り替えが行われ、送水温度（冷水の温度）の上昇が抑えられる。 - 特許庁

In the pachinko machine 1, when the non-specific pattern is once stopped after fluctuation of the special patterns, each special pattern is refluctuated to possibly display the specific pattern.例文帳に追加

さらに、パチンコ機１は、特別図柄の変動後に、「非特定図柄」が一旦停止表示された場合であっても、各特別図柄が再変動して「特定図柄」が表示され得るようになっている。 - 特許庁

A deviation detecting means 40 detects a deviation from the action pattern, by comparing positional information in each time with the action pattern data stored in the pattern storage means 35.例文帳に追加

逸脱検出手段４０は、各時刻ごとの位置情報を、パタン記憶手段３５に記憶されている前記行動パタンデータと比較することにより、行動パタンからの逸脱を検出する。 - 特許庁

To obtain satisfactory intensity in a playback signal from a servo pattern formed in a discrete track medium or a bit pattern medium in a magnetic recording medium and a method of forming a magnetic servo pattern.例文帳に追加

磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関し、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体に形成したサーボパターンからの再生信号を充分な強度にする。 - 特許庁

A mask pattern 130b is formed with the oxide film 130 from which the silicon film 110 has been removed left and a fine pattern to be formed actually is formed using the mask pattern.例文帳に追加

シリコン膜１１０を除去して残存させた酸化膜１３０でマスクパターン１３０ｂを形成し、このマスクパターンを用いて実際に形成しようとする微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for drawing a pattern by which repeated patterns can be drawn without causing pattern abnormality, and also to provide a method for manufacturing a photomask and a photomask, wherein high accuracy of pattern drawing is attained.例文帳に追加

パターン異常を生じさせずに繰り返しパターンが描画できるパターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスクを得、パターン描画の精度向上を図る。 - 特許庁

PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, SERVER USED FOR PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, PATTERN DESIGN SIMULATION METHOD AND PROGRAM, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON AND OUTPUTTED PRODUCT例文帳に追加

柄デザインシミュレーションシステム及び柄デザインシミュレーションシステムに用いるサーバ及び柄デザインシミュレーション方法並びにプログラム及びプログラムを記録したコンピュータに読み取り可能な記録媒体及び出力物 - 特許庁

The above amount of corrections is variable rectangular beam size data corresponding to the difference of a target pattern size, a resist pattern size formed by specifying the amount of the reference light exposure, and the target pattern size.例文帳に追加

前記補正量は、目標パターンサイズと基準露光量を指定して形成したレジストパターンサイズと目標パターンサイズとの差分に対応する可変矩形ビームサイズデータである。 - 特許庁

To provide a mask pattern determining method, capable of highly precisely and reliably judging an optical proximity effect compensated pattern to exposure a circuit pattern having the desired electrical characteristics.例文帳に追加

所望の電気特性を有する回路パターンを露光するための光近接効果補正パターンを精度よく、かつ信頼性高く判定することができるマスクパターン判定方法を得る。 - 特許庁

The resist pattern 10 is softened during etching thereby and even if a lower side of the resist pattern 10 is corroded by etching, the corroded region can be covered by the resist pattern 10.例文帳に追加

これにより、エッチング中にレジストパターン１０が軟化し、エッチングによりレジストパターン１０の下面側が浸食されても、その浸食領域をレジストパターン１０で覆うことができる。 - 特許庁

Each of a plurality of mask patterns is formed by the first coating pattern and the second coating pattern having a laminated region in a region in part of the first coating pattern.例文帳に追加

この複数のマスクパターンは、其々が、第1の被覆パターンと、この第1の被覆パターンの一部の領域において積層領域を有する第２の被覆パターンとにより形成されている。 - 特許庁

The second deflection pattern 32b is arranged so that the normal line erected on the deflecting inclined surface of the second deflection pattern 32b is orthogonal to the direction where the light source 17 is connected to the second deflection pattern 32b.例文帳に追加

第２の偏向パターン３２ｂは、その偏向傾斜面に立てた法線が、光源１７と当該第２の偏向パターン３２ｂとを結ぶ方向と直交するように配置する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a relief pattern and a polyimide pattern, a coating film of the photosensitive composition or the photosensitive material is irradiated with active rays along a pattern and developed to remove a portion not irradiated.例文帳に追加

また、レリーフパターン及びポリイミドパターンの製造方法としては、感光性組成物又は感光材料の塗膜に活性光線をパターン状に照射し、未照射部を現像除去する。 - 特許庁

To provide a photomask having a pattern to be transferred and a peripheral pattern formed around that and capable of attaining exposure nearly independently of the peripheral pattern and to provide a photomask blank.例文帳に追加

被転写パターンとその周辺に形成される周辺パターンを有するホトマスクにおいて、周辺パターンの影響を受けにくい露光を行えるホトマスクおよびホトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

Manufacturing time and cost of the pattern film 100 is drastically reduced, since the first pattern array and the second pattern array can be electrically connected mutually by a simple press-bonding method.例文帳に追加

第１及び第２パターンアレイを簡単な圧着方式を通じて互いに電気的に接続することができるので、パターンフィルム１００の製造時間及び費用が大幅減少される。 - 特許庁

A test pattern area where a test pattern is formed is set on an intermediate transfer belt 4, and a reference area is set in an area where a test pattern is not formed.例文帳に追加

中間転写ベルト４上に、試験パターンが形成される試験パターン領域が設定されるとともに、試験パターンが形成されない領域において、基準領域が設定される。 - 特許庁

Here, the inner force sense pattern is set such that the inner force sense pattern includes an inner force sense pattern of an icon set such that the reaction force acts from an outer frame of the icon toward an eccentric center.例文帳に追加

ここで、力覚パターンは、アイコンの外枠部から偏心した中心部に向って反力が作用するように設定されたアイコンの力覚パターンを含むように設定される。 - 特許庁

The maskless exposure method of generating an exposure pattern and exposing a substrate with a reduced exposure pattern thereof is such that in subjecting an edge of the exposure pattern to emphasis processing during the exposure.例文帳に追加

露光パターンを生成し縮小させた該露光パターンで基板を露光するマスクレス露光方法であって、前記露光時に、前記露光パターンのエッジを強調処理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern extraction program and a pattern extraction method, allowing extraction of a pattern wherein a width of a variable-length wild card is limited, while deleting redundancy.例文帳に追加

冗長性を削除すると共に、可変長ワイルドカードの幅を限定したパターンを抽出できるパターン抽出プログラム及びパターン抽出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

And the each linear pattern of the metal pattern 4 is deviated by an angle of about 45 degrees against the linear concavo part 3a or the linear convex part 3b in the concavo-convex pattern 3.例文帳に追加

そして、金属パターン４の各直線状パターンは、凹凸パターン３の直線状の溝３ａ又は凸状部３ｂに対して略４５度だけずれた状態となっている。 - 特許庁

At least one of the partial electrodes 32A and 36A is formed with a pattern, and pattern density of the electrode formed with a pattern among the electrodes is set to be different depending on a distance from a light source 20.例文帳に追加

部分電極３２Ａ，３６Ａの少なくとも一方がパターニングされており、これらのうちパターニングされた電極のパターン密度が光源２０からの距離に応じて異なっている。 - 特許庁

The semiconductor device comprises an actual pattern 431 having a gate electrode section and a protruding section and a plurality of line patterns including a dummy pattern 433 which is disposed in parallel with the actual pattern 431.例文帳に追加

半導体装置は、ゲート電極部及び突き出し部を有する実パターン４３１と、実パターン４３１に並んで配置されるダミーパターン４３３とを含む複数のラインパターンを備える。 - 特許庁

An inspection device 10 regarding to this invention inspects a main pattern printed on an imaging surface and the photomask having the correction pattern which performs optical proximity effect correction to the main pattern.例文帳に追加

本発明に係る検査装置１０は、結像面に転写される主パターンと、主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する。 - 特許庁

To form a ceramic substrate having a microfine electrode pattern and a general electrode pattern with a line width wider than that of the microfine electrode pattern, while restraining a material loss and securing thickness uniformity of the electrode patterns.例文帳に追加

微細電極パターンとそれより線幅の広い一般電極パターンとを有するセラミック基板を、材料の損失を抑え、また、電極パターンの厚さ均一性を確保して形成する。 - 特許庁

To provide a rotary creel of a partial warper for pattern warps, enhanced in measurement accuracy, to provide a pattern warper for pattern warps, and to provide a method for measuring bobbin diameters.例文帳に追加

測定精度を高めた柄経糸用部分整経機の回転式クリール、柄経糸用部分整経機、およびボビン直径を測定するための方法を提供することを目的とする。 - 特許庁