「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(960ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加

また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁

If the size of the paper supplied from the paper supply part 3 is smaller than the size of the pattern image data when indicated to perform the calibration, the image forming part 1 forms a plurality of divided images obtained by dividing a pattern image on a recording material respectively.例文帳に追加

キャリブレーションの実行を指示されたときに、給紙部３から供給された用紙のサイズがパターン画像データのサイズよりも小さい場合には、画像形成部１はパターン画像を分割して得られる複数の分割画像をそれぞれ記録材に形成する。 - 特許庁

The information processing apparatus 2 then determines an index corresponding to desired additional information to be embedded, selects a permutation pattern corresponding to the determined index, and changes the arrangement order of permutable objects included in the data file in accordance with the selected permutation pattern.例文帳に追加

そして、情報処理装置２は、埋め込みたい付加情報に対応するインデクスを決定し、決定されたインデクスに対応する置換パターンを選択し、選択された置換パターンに応じて、データファイルに含まれる置換可能なオブジェクトの配列順序を変更する。 - 特許庁

The spectrum pattern of cos Δ and the like is related to the thickness of an amorphous region in advance by a non-destructive inspection and the like, or, a characteristic part of the pattern of cos Δ and the like is paid attention, for evaluating thickness of amorphous region and degree of disturbance in crystallinity.例文帳に追加

そして、予め破壊検査等によってcos Δ等のスペクトルのパターンとアモルファス領域の厚みとを関係づけておくか、cos Δ等のパターンの特徴的な部分に着目することで、アモルファス領域の厚みや結晶性の乱れの程度を評価する。 - 特許庁

Further, when the imaging apparatus displays first image data whose layout is coincident with that of an inadequate layout pattern image and second image data whose layout is coincident with that of an optimum layout pattern image side by side on a display section, since it is naturally understandable, the photographer can really feel the difference.例文帳に追加

さらに、不最適構図パターン画像と構図が一致する第１の画像データと、最適構図パターン画像と構図が一致する第２の画像データとを並べて表示部に表示すると、見た目に明らかであるので、撮像者はその違いを実感することが出来る。 - 特許庁

Data of the color picture pattern block are compressed by the color 24-bit jpeg method (120), data of the monochromatic picture pattern block and the monochromatic background block are compressed by the monochromatic 8-bit jpeg method (128, 134), and the compressed data are assembled with a background layer in the multilayer format as other picture plane data (158, 160).例文帳に追加

カラー絵柄ブロックのデータはカラー用の24ビットjpeg形式方式で圧縮し(120)、モノクロ絵柄ブロック及びモノクロ下地ブロックのデータはモノクロ用の８ビットjpeg形式で圧縮し(128,134)、別の画像プレーンのデータとして多層フォーマットにおけるバックグラウンド層に組み込む(158,160)。 - 特許庁

To reduce a number of labors for manufacture when a concrete board to which both of an irregular pattern and a coloration are applied by simultaneously carrying out forming the irregular pattern on a surface of the concrete board and application of a coating for giving a coloration, and to decrease a manufacturing cost.例文帳に追加

コンクリート板の表面に対する凹凸模様の形成と、色彩を付するための塗料の塗装とを同時に行なうことにより、凹凸模様と色彩の双方を付したコンクリート板を製造する際における製造工数の削減と、製造コストの低減を図る。 - 特許庁

For example, when a fabric feeding number of times in a spray interval 1 for a washing pattern 1 of a printing unit for a first color needs to be changed, the washing pattern 1 is selected in a display section 8a of the screen G1, and the printing unit for the first color is selected in a display section 8m.例文帳に追加

例えば、１色目の印刷ユニットの洗浄パターン１のスプレーインターバル１での布送り回を変更したい場合、画面Ｇ１の表示部８ａにおいて洗浄パターン１を選択し、表示部８ｍにおいて１色目の印刷ユニットを選択する。 - 特許庁

A value ▵Va corresponding to a candidate order is added to the validity of the character pattern contributing to the correct reading (S103), and when the validity to which the value ΔVa is added is smaller than an initial value V0 (S120), the validity of the character pattern is restored to the initial value V0 (S121).例文帳に追加

このうち、正読に寄与した文字パターンの有効度に対し、候補順位に応じた値ΔＶａを加算し（Ｓ１０３）、加算後の有効度が初期値Ｖ０よりも小さければ（Ｓ１２０）、当該文字パターンの有効度を初期値Ｖ０に復帰させる（Ｓ１２１）。 - 特許庁

To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern.例文帳に追加

電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

A photomask used for exposure for forming the semiconductor device may be manufactured such that a plurality pattern regions of semiconductor devices are formed and respectively different unique keys are provided for pattern regions of the respective semiconductor devices.例文帳に追加

なお、上記半導体装置を形成するための露光に用いるフォトマスクには、この半導体装置のパターン領域が複数形成され、それぞれの半導体装置のパターン領域に互いに異なる上記ユニークキーが設けられるようにして製造することもできる。 - 特許庁

Although they were put in this category because they had a different pattern of stops on the Osaka Loop Line than regional rapid trains, by a timetable revision made on March 15, 2008, trains with this stopping pattern came to be called 'rapid trains' once again (Kyuhoji was added as a stop for rapid trains in the past). 例文帳に追加

大阪環状線直通の区間快速と停車パターンが違うのはこのことの名残であったが、2008年3月15日のダイヤ改正で同種の停車パターン（過去の快速に久宝寺を停車駅に加えたもの）の列車は再び「快速」を名乗ることとなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A resin stamper for imprint has a fine uneven pattern on one surface, the uneven pattern is formed by cutting in a milling method or shaper method, and the resin is hydrocarbon resin, fluororesin or silicone resin.例文帳に追加

一方の表面に微細な凹凸パターンを有するインプリント用樹脂製スタンパであって、前記凹凸パターンがミーリング方式又はシェーパー方式で行われる切削加工により形成され、前記樹脂が、炭化水素系樹脂、フッ素系樹脂又はシリコーン系樹脂である。 - 特許庁

To improve the positioning and overlay of a pattern applied to a substrate by preventing a distortion in the pattern due to a thermal distortion generated in the substrate when the substrate is partially subjected to positioning and light exposure before the substrate is thermally stabilized.例文帳に追加

基板が熱的に安定化する前に基板の一部の位置合わせ及び露光を行う場合に生じ得る基板の熱的歪みに起因する基板に適用されるパターンのゆがみを防止でき、これにより、基板に適用されるパターンの位置合わせ及びオーバーレイを改善する。 - 特許庁

The method includes steps of providing a semiconductor substrate on which a gate electrode pattern is formed, implementing many-time simultaneous vapor deposition and etching processes to form an interlayer dielectric film made up of multilayer HDP oxidized films so as to embed the gate electrode pattern.例文帳に追加

ゲート電極パターンが形成された半導体基板を提供する段階と、多数回の同時蒸着及びエッチング工程を行い、前記ゲート電極パターンが埋め込まれるように多層のＨＤＰ酸化膜からなる層間絶縁膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁

This ink jet recording head comprises a heating resistor for generating energy for ejecting ink and a detection wiring pattern which is provided adjacent to a wiring pattern of the heating resistor and detects a current flowing in the heating resistor.例文帳に追加

本発明のインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出させるエネルギーを発生させる発熱抵抗体と、その発熱抵抗体に流れる電流を検出する前記発熱抵抗体の配線に隣接して配線された検出用配線とを有する構成である。 - 特許庁

A detection block determines whether the digital audio signal includes a predetermined frequency band, depending on whether the change pattern of the sampling data of the input digital audio signal matches a predetermined pattern, and the determined result is output to a switching section.例文帳に追加

一方、検出ブロックは、入力されるデジタルオーディオ信号のサンプリングデータの変化パターンが所定のパターンと一致するか否かにより、そのデジタルオーディオ信号が所定の周波数帯域を含むものであるか否か判定し、判定結果を切換え部に出力する。 - 特許庁

A comparison section 103 outputs a match signal s103a when a syndrome pattern matching the syndrome S101 exists in a syndrome table 102, and outputs a no-match signal S103b when no syndrome pattern matching the syndrome S101 exists.例文帳に追加

比較部１０３は、シンドロームテーブル１０２の中にシンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在する場合には一致信号Ｓ１０３ａを出力し、シンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在しない場合には不一致信号Ｓ１０３ｂを出力する。 - 特許庁

This conductor pattern-forming ink forms a conductor pattern on a base by the droplet-discharging method and comprises metal particles, an aqueous dispersion medium in which the metal particles are dispersed, and an alkanolamine.例文帳に追加

本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散する水系分散媒と、アルカノールアミンとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

Since the leadframe 30 is provided near a lead pattern 31 and insert molding is performed by positioning the lead pattern 31 at an exact position to the second slide core 56, the three-dimensional electric wiring is easily performed at the exact position.例文帳に追加

リードフレーム３０はリードパターン３１の近傍に設けられているので、リードパターン３１を第２スライドコア５６に対して正確な位置に位置決めしてインサート成形することができるので、容易に正確な位置に３次元的な電気配線を行うことができる。 - 特許庁

To provide a shaded tatami facing having an uneven pattern formed on the surface and three-dimensional visual and tactile feelings and to provide a manufacturing method for the shaded tatami facing for maintaining the formed uneven pattern substantially permanently and easily applying printing to a recess part.例文帳に追加

表面に凹凸模様を形成した、視覚的にも触覚的にも、より立体的な畳表であって、形成された凹凸模様が半永久的に保持され、また、より簡易に凹部分に印刷できる陰影付き畳表及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This system/method inputs the input image data rendered by the display system, applies a gamma table to the input image data, in order to create the first mediation image data, and applies a dithering pattern including a checker board pattern depending on a subpixel layout of a display.例文帳に追加

、ディスプレイシステムによってレンダリングされた、入力されたイメージデータを入力し、第１媒介イメージデータを生成するために、入力されたイメージデータにガンマテーブルを適用し、ディスプレイのサブピクセルレイアウトに依存するチェッカーボードパターンを含むディザリングパターンを適用する。 - 特許庁

In manufacturing a semiconductor device using the resist pattern 5 formed on a silicon substrate 1 as a mask, the resist pattern 5 is subjected to graphite treatment by means of catalytic effects of liquid metal in a liquid metal reservoir 6 (for example, gallium, indium or gallium-indium alloy).例文帳に追加

シリコン基板１上に形成されたレジストパターン５をマスクとして用いて半導体デバイスを製造する際に、レジストパターン５を液体金属溜め６内の液体金属（例えば、ガリウム、インジウム又はガリウムインジウム合金）の触媒効果を用いてグラファイト化処理する。 - 特許庁

The first diffraction gratings and the second diffraction gratings have each prescribed length and width, and are arrayed periodically at each prescribed interval, and marks 3 for specifying the pattern position are arranged on the peripheral parts of the pattern.例文帳に追加

前記第１の回折格子および前記第２の回折格子は、それぞれ所定の長さと幅を有し、それぞれ所定の間隔で周期的に配列されており、かつ、前記パターンの周辺部に前記パターンの位置を特定するためのマーク（３）が配置されている。 - 特許庁

A pattern is provided which includes one and only representative node variable having a first constraint that at most one node in the graph data matches the representative node variable and that the node is prohibited from matching a node variable in another pattern.例文帳に追加

パターンに１つ存在する代表ノード変数であって、当該代表ノード変数にマッチしたグラフデータのノードが高々１つで、かつ他のパターンのノード変数にマッチすることが禁止されるという第１の制約を有する代表ノード変数を含むパターンを提供される。 - 特許庁

When high-density achromatic pixels in a document image correspond to pixels constituting a prescribed trace pattern in the output image, a trace pattern addition part 34 outputs color image data of high-density blue pixels as color image data of the pixels.例文帳に追加

追跡パターン付加部３４は、原稿画像中の高濃度かつ無彩色の画素が出力画像中において所定の追跡パターンを構成する画素に対応する場合、その画素のカラー画像データとして、高濃度青色画素のカラー画像データを出力する。 - 特許庁

The semiconductor substrate manufacturing method comprises forming the SiGe film on the substrate having a silicon layer on its surface, forming a mask pattern having grating-shaped grooves on the SiGe film, injecting ions to the substrate through the mask pattern, and then performing heat processing.例文帳に追加

表面にシリコン層を有する基板上に、ＳｉＧｅ膜を形成し、該ＳｉＧｅ膜上に格子状の溝を有するマスクパターンを形成し、該マスクパターンをとおして基板にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法が提供される。 - 特許庁

The method for forming the pattern comprises the steps of developing a pattern-exposed resist film 11 with an alkaline developing liquid, obtained by dissolving a tetramethyl ammonium hydroxide (amine compound) in isopropyl alcohol (first alcohol), and then rinsing the film with a rinsing liquid made of isopropyl alcohol (second alcohol).例文帳に追加

パターン露光されたレジスト膜１１に対して、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（アミン化合物）がイソプロピルアルコール（第１のアルコール）に溶解してなるアルカリ性現像液により現像を行なった後、イソプロピルアルコール（第２のアルコール）よりなるリンス液によりリンスを行なう。 - 特許庁

The diffraction grating mask comprises a mask substrate made of an optically transparent material, a diffraction grating pattern formed on part of the mask substrate, and a light absorbing layer formed at at least part of the circumference of the diffraction grating pattern.例文帳に追加

本発明による回折格子マスクは、光学的に透明な材料より成るマスク基板と、前記マスク基板の一部に形成された回折格子パターンと、前記回折格子パターン周囲の少なくとも一部に形成された光吸収層より成る回折格子マスクである。 - 特許庁

The method of forming the fine pattern includes steps of: preparing a substrate; forming the protection layer on the photoresist pattern according to the above forming method; and etching the substrate using the protection layer and the photoresist patterns as etching masks.例文帳に追加

また、基板を準備する工程と、上記形成方法によりフォトレジストパターン用保護膜を形成する工程と、前記保護膜及び前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする工程と、を含む微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A sync managing circuit 30 sets a window time domain inside by the timing when the sync pattern detection signal and frame count signal are inputted, and outputs a sync signal only when the sync pattern detection signal is inputted within the window time domain.例文帳に追加

シンクマネージ回路３０は、前記シンクパターン検出信号及びフレームカウント信号が入力されるタイミングにより内部にウィンドウ時間領域を設定し、ウィンドウ時間領域内に前記シンクパターン検出信号が入力されたときのみ、シンク信号を出力する。 - 特許庁

To provide a method of selectively applying electroless nickel and electroless gold plating on a fine pattern on a printed wiring board by efficiently removing inorganic filler material remaining on a front layer of an insulating layer after roughening, and controlling abnormal deposition outside of the pattern.例文帳に追加

粗化後の絶縁層表層に残存している無機充填材を効率よく除去することにより、プリント配線板の微細パターンの上に、選択的に無電解ニッケル及び無電解金めっきを施し、パターン外の異常析出を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

A multi-chip module MCM is manufactured, by mounting on a single base substrate 30M memory chips 2CM manufactured by using a photomask having a metal light shade pattern and logic chips 2CL manufactured by using a photomask having a resist film light shade pattern.例文帳に追加

メタルからなる遮光パターンを有するフォトマスクを用いて製造されたメモリチップ２ＣＭと、レジスト膜からなる遮光パターンを有するフォトマスクを用いて製造されたロジックチップ２ＣＬとを同一のベース基板３０Ｍ上に実装することでマルチチップモジュールＭＣＭを製造する。 - 特許庁

To obtain an infrared absorption ink excellent in an infrared absorption characteristic, a toner for electrophotography, an ink jet record liquid, a thermal transcription material for invisible pattern formation and an invisible pattern using them by using a specific infrared absorption material.例文帳に追加

本発明の目的は、特定の赤外線吸収材料を適用し、赤外線吸収特性に優れた不可視パターン形成用の赤外線吸収インキ、電子写真用トナー、インクジェット記録液、熱転写材料およびそれらを用いた不可視パターンの提供にある。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

The laser device includes a laser generator, a pair of shielding regions arranged side by side, and an intensity pattern adjusting section having a translucent region located between the pair of shielding regions and adjusting the intensity pattern of an incident laser beam.例文帳に追加

本発明によるレーザー装置は、レーザー発生部と、並んで配置されている一対の遮断領域と、該一対の遮断領域の間に位置する半透過領域を有して入射するレーザー光の強度パターンを調節する強度パターン調節部とを含む。 - 特許庁

A circuit element including a semiconductor chip is arranged and connected to its backside wiring pattern, and then mounted in the electronic device package connected to external electrodes positioned on the surface opposed to the wiring pattern via vertical wiring.例文帳に追加

本発明は、半導体チップを含む回路素子を配置して、該回路素子をその裏面の配線パターンに接続し、かつ、該配線パターンとは反対側のおもて面に位置する外部電極に垂直配線を介して接続される電子デバイスパッケージに組み込んで用いる。 - 特許庁

This pattern paper and this method for producing the pattern paper are characterized by comprising one or more kinds of colored fibers composed of cellulose fibers colored with a direct dye having 400-530 nm or 540-650 nm maximum absorption wavelength.例文帳に追加

最大吸収波長４００〜５３０ｎｍまたは５４０〜６５０ｎｍの直接染料により着色したセルロース繊維からなる着色繊維を、それぞれ少なくとも１種類以上含有してなることを特徴とする模様紙およびその製造方法。 - 特許庁

A feature extraction means maximize inter-class variance being between patterns corresponding to different classes inside of each pattern set and across two pattern sets and minimizes intra-class variance being variance between the patterns included in the same class.例文帳に追加

それぞれのパターンセットの内部、及び、２つのパターンセットまたがって、異なるクラスに対応するパターン間の散らばりであるクラス間分散を最大化し、同一のクラスに含まれパターンの間の散らばりであるクラス内分散を最小化する特徴抽出手段を備える。 - 特許庁

To provide a highly-fine conductive pattern substrate having a conductive pattern using a polythiophene derivative and preventing degradation of characteristics of the polythiophene derivative, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、ポリチオフェン誘導体を用いた導電性パターンを有する導電性パターン基板およびその製造方法であって、ポリチオフェン誘導体の特性が劣化しにくく、高精細な導電性パターン基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

Supposedly, shoji with a white background or on which fusuma-e (images drawn on fusuma sliding door) were drawn were used in a formal guest room and were called fusuma-shoji, shoji covered with woodblock printed karakami of one color background without a pattern or a fine pattern placed in an informal living room or sukiya (style of a tea-ceremony house) style building were called karakami-shoji. 例文帳に追加

一応、正式の客間には、白地または襖絵が描かれたものを用いて襖障子と称し、略式の居間や数寄屋風の建物には、色無地や小紋柄を木版で刷った唐紙を使用し、唐紙障子と称したようである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Commonly needed functions to search for files and directories Search methodsSearch methods-- Types of methods what can be used in search functions Search methods and their patterns All search functions use $pattern parameter to specify match for filenames. 例文帳に追加

ファイルやディレクトリツリーを検索するために共通で必要となる関数群検索方法検索方法--検索関数で使用可能な方法の種類検索方法とそれらのパターン 全ての検索関数は、ファイル名をマッチさせるために指定する$pattern パラメータを使用します。 - PEAR

In an electronic camera, an output pattern of an image signal is also changed in accordance with a different reading pattern of an analog signal, and only in a period that the reading of the analog signal is stopped, an image signal is outputted from a signal processing processor 20.例文帳に追加

本発明に係る電子カメラでは、アナログ信号の異なる読み出しパターンに応じて画像信号の出力パターンも変更させるようにし、アナログ信号の読み出しが停止される時間にのみ、信号処理プロセッサ２０から画像信号を出力させる。 - 特許庁

When such a pattern is combined with a document image and printed, in the case that a part of paper sheet is cut and combined, a dot pattern becomes discontinuous, so that a checker who checks presence/absence of tampering or the like is enabled to detect that tampering has been performed.例文帳に追加

このようなパターンが文書画像に合成されて印刷されると、用紙の一部が切り取られてつなぎ合わされた場合には点パターンが不連続になるので、改ざんの有無を確認する確認者等は、改ざんがなされたことを検知することができる。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a color filter minimizing damage to a periphery of a defect to be removed when the defect of a VA pattern and a PS pattern on coloring a pixel is removed by a laser beam in a color filter used for a color liquid crystal display device.例文帳に追加

カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいて、着色画素上のＶＡパターンやＰＳパターンの欠陥をレーザ光で除去する際に、除去すべき欠陥の周辺に対してダメージを最小にする欠陥の修正方法を提供すること。 - 特許庁