「point layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

By installing the metal covered layer, invasion of the low melting point metal into a joining interface in joining the electric contact with the electrode rod can be inhibited, and generation of joint defect and peeling-off can be prevented.例文帳に追加

金属被覆層を設けたことで、電気接点を電極棒に接合する際に接合界面に低融点金属が侵入するのを阻止でき、接合不良や剥離が生ずるのを防止できる。 - 特許庁

This casting core 1 is constituted in a way that an aluminum foil 3 is placed on an outer face of a core 2, which is of a shell sand (being) hardened with an organic binder, and a low melting point layer 4 is formed over an outer face of the aluminum foil 3.例文帳に追加

鋳造用中子１は、シェル砂を有機バインダで固めたコア２の外表面にアルミ箔３が設けられ、このアルミ箔３の外表面に低融点合金層４が形成されている。 - 特許庁

A metal layer 30 has a notched part 50, only at an arbitrary point on a side in each side face of the circumference of the chip that is cut by dicing, and parts other than the notched part remain band-like.例文帳に追加

ダイシングにより切削されたチップ周辺の各側面の内、一辺の任意の箇所だけに切り欠き部５０を有し、それ以外には帯状に残留して露出する金属層３０を形成する。 - 特許庁

Viewing from a point of the more increase in a nip width between the endless belt 4 and the heat roller 1, it is preferable that a roller with an elastic layer formed on the outer periphery of a columnar rigid body is used as the tension roller 3.例文帳に追加

また、無端状ベルト４と熱ローラ１とのニップ幅をより大きくする観点から、テンションローラ３として円柱状剛体の外周に弾性層を設けたものを用いるのが好ましい。 - 特許庁

A rough surface layer 9 having a surface roughness in the range of 30 to 500 μm in 10-point average roughness and having irregular K decreasing the falling down of short fibers (f) is formed on a tread actual ground-contact surface 2S side.例文帳に追加

トレッド実接地面２Ｓの側に、表面粗さが十点平均粗さで３０〜５００μｍの範囲であって短繊維ｆの倒れを減じる凹凸Ｋを有する粗面層９を形成した。 - 特許庁

Since the melting point of a nickel is 1,455°C which is higher than the melting temperature (210-240°C) of a Pb-free solder, the Ni layer 27 will not melt, even if soldering that uses Pb-free solder is carried out.例文帳に追加

このニッケルの融点は１４５５℃であり、Ｐｂフリーはんだの溶融温度（２１０℃〜２４０℃）よりも高いので、Ｐｂフリーはんだによるはんだ付けを行った場合でもＮｉメッキ層２７は溶融しない。 - 特許庁

Those fuse wiring are covered with the interlayer insulating film 16, and in a through hole 16TH of the first interlayer insulating film 16, a high-melting-point metal layer 17 of tungsten, etc. is formed.例文帳に追加

これらのヒューズ配線は層間絶縁膜１６に覆われており、層間絶縁膜１６に設けられた貫通孔１６ＴＨには、タングステン等からなる高融点金属層１７が形成されている。 - 特許庁

In this method for manufacturing an optical film, a liquid mist 2 having a boiling point of 70 to 150°C is sprayed to a polymer film 1 with the residual solvent amount of 30 to 80 wt.% in the surface layer part.例文帳に追加

表層部の残留溶媒量が３０〜８０重量％のポリマーフィルム１に対して沸点７０〜１５０℃の液体のミスト２を吹き付けることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

Also, when Co-Fe-B in a third ferromagnetic layer on MgO is film-formed, it is formed while holding the temperature of the substrate at 100°C below freezing point, to obtain amorphous Co-Fe-B of B concentration of 6 at%.例文帳に追加

また、MgO上の第３の強磁性層中のCo-Fe-Bを成膜する際にも基板を氷点下１００℃に保持しながら形成することにより、Ｂ濃度6at%のアモルファス状のCo-Fe-Bを得ることができる。 - 特許庁

To provide an optical film which has good black reproducibility and antiglare performance, is free from point defects due to interference unevenness and large particles, is superior in adhesion of an antiglare layer, and has a good production yield.例文帳に追加

黒色再現性と防眩性の両方が良好で、干渉ムラや粗大粒子による点欠陥がなく、防眩層の密着性にも優れ、生産収率のよい光学フィルムを提供する。 - 特許庁

Subsequently, the driver substrate 11 is heated, for example, for 10 minutes under the temperature of glass transition point or higher of the hole implanting layer 17A under the vacuum condition or under the inert gas atmosphere such as nitrogen (N_2).例文帳に追加

続いて、真空中または窒素（Ｎ_2 ）などの不活性気体雰囲気中で、駆動用基板１１を正孔注入層１７Ａのガラス転移点以上の温度で例えば１０分間加熱する。 - 特許庁

To separate a reaction gas from water, at a position of a diffusion layer in an anode and a cathode in each basic cell, by overcoming the disadvantageous point by recovering the separation functions of the reaction gas at the location of a separation plate.例文帳に追加

離隔プレートの位置で反応ガスの離隔機能を回復することによって不利な点を克服して、各基本セルにおけるアノード及びカソードにおける拡散層の位置で水から反応ガスを離隔する。 - 特許庁

By introducing the layer reformed by processing 13, the radius of curvature of the nitride semiconductor crystal 12 is enlarged and the grating surface direction [hkil] or [hkl] at each point on the surface is parallelized.例文帳に追加

加工変質層１３の導入によって窒化物半導体結晶１２の曲率半径は大きくなり、面内各点での格子面方向［ｈｋｉｌ］若しくは［ｈｋｌ］が平行化される。 - 特許庁

The ink for forming the ink-jet ink receiving layer prepared by compounding a finely divided white pigment treated with hydrophobic treatment to a vehicle containing a glycol solvent with a boiling point of at least 100°C as a main ingredient is used.例文帳に追加

沸点１００℃以上のグリコール系溶剤を主成分として含むビヒクルに対して、疎水化処理された微粒子白色顔料を配合したインクジェットインク受容層形成用インクを用いる。 - 特許庁

An image receiving layer on a base material contains an aromatic polyester resin having a glass transitional temperature Tg of ≥60°C and an aliphatic polyester resin having a melting point Tm of 80 to 120°C.例文帳に追加

基材上の画像受像層が、ガラス転移温度Ｔｇが６０℃以上である芳香族ポリエステル樹脂と、融点Ｔｍが８０℃以上１２０℃未満である脂肪族ポリエステル樹脂とを含有している。 - 特許庁

A high-efficiency potable archive (140) implements a storage system to be executed on a virtualization layer, and archives a point-in-time version of a raw data set and the storage system in an archive medium as a virtual system.例文帳に追加

高効率ポータブルアーカイブ（１４０）は、仮想化層上で実行するストレージシステムを実装し、未加工データセットのポイント・イン・タイム・バージョンとストレージシステムを仮想システムとしてアーカイブ媒体にアーカイブする。 - 特許庁

Prior to cladding metal with a high melt point, a natural silicon oxide film that is formed on a polycrystalline silicon layer is removed by sputter etching of an argon gas ion with low energy of 5 to 50 eV.例文帳に追加

高融点金属の被着に先立ち、多結晶シリコン層上に形成された自然のシリコン酸化膜の除去を、５〜５０ｅＶの範囲のエネルギを持った低エネルギーのアルゴンガスイオンのスパッタエッチングにより行う。 - 特許庁

Then, the second cooling treatment is performed, and the upper silicon 16 is formed by crystal growing the silicon in the silicon containing low melting point metal fused solution 13 on the area starting from the lower silicon layer 14.例文帳に追加

そして第２の冷却処理を行い、シリコン含有低融点金属溶融液１５中のシリコンを下層シリコン層１４を起点に結晶成長させて上層シリコン層１６を形成する。 - 特許庁

To layer-likely and surely transport fuel atomization to nearby an ignition plug, by collecting an air flow from the groove part of a piston crown surface to one point, to lead the air flow to nearby a fuel injection valve.例文帳に追加

ピストン３冠面の溝部１１より空気流を一点に集めて燃料噴射弁１０近傍に導くことにより、燃料噴霧を点火プラグ９近傍へ層状に確実に輸送する。 - 特許庁

The first cooling treatment is performed, and a lower silicon layer 14 is formed by crystal growing the silicon in the silicon containing low melting point metal fused solution 13 on the area starting from the crystal growing seed 12.例文帳に追加

そして第１の冷却処理を行い、シリコン含有低融点金属溶融液１３中のシリコンを結晶成長のシード１２を起点に結晶成長させて下層シリコン層１４を形成する。 - 特許庁

Thus, a threefold point vicinity 13a of a part opposing the base electrode terminal 12a in the dielectric layer 13 is formed so as to have a compact structure similar to the other parts.例文帳に追加

よって、誘電体層１３における、ベース電極端縁部１２ａと対向する部分である、三重点近傍部１３ａは、他の部分と同様に、緻密な組織を有するように形成されている。 - 特許庁

A water molecule 3a in the atmosphere is repelled by the coating layer 4, and even if the piping tube 10 is exposed to an atmosphere not higher than the freezing point, the silicon tube 1 can be prevented from being made fragile.例文帳に追加

大気中の水分子３ａはコーティング層４によってはじかれて、たとえ、配管チューブ１０が氷点下の雰囲気に晒されたとしても、シリコンチューブ１が脆化するのを防止することができる。 - 特許庁

The absolute value of the reverse current, which flows through the sensor, is acquired as a deciding current i1 at the point of time, when the time T necessary for pumping almost all of oxygen originally present in the atmospheric layer has elapsed.例文帳に追加

大気層に元々存在した殆どの酸素をポンピングするのに必要な時間Tが経過した時点でセンサを流通している逆電流の絶対値を判定電流i1として取得する。 - 特許庁

The insulating layer 13 can otherwise be formed by applying an insulating varnish containing a heat-resistant polymer having a glass transition point at least above 200°C and a coupling agent to a metal foil body 14 and drying it.例文帳に追加

絶縁層１３は、金属箔本体１４に、ガラス転移点が少なくとも２００℃以上の耐熱性ポリマーとカップリング剤とを含む絶縁ワニスを塗布し、乾燥することによ設けることもできる。 - 特許庁

When an optical anisotropy layer is formed by applying a polymerizable bar-like liquid crystal compound on a support body, consisting of a transparent resin, a coating liquid containing a solvent having the boiling point of ≥90°C and ≤250°C is used.例文帳に追加

透明樹脂からなる支持体上に、重合性棒状液晶化合物を塗布して、光学異方性層を形成する際に、沸点が９０℃以上２５０℃以下の溶媒を含む塗布液を用いる。 - 特許庁

The reinforcing layer 14 is formed of a fiber reinforced synthetic resin sheet which is wound on a part 10P including the kick point P of the shaft shaped body 10 and where fiber directions are equalized in a circumference direction.例文帳に追加

補強層１４は、シャフト成形体１０のキックポイントＰを包含する部位１０Ｐに巻かれた、円周方向に繊維方向が揃えられた繊維強化合成樹脂シートから形成されている。 - 特許庁

The tire has a rubber reinforcing layer 10 extending outward the radial direction over a tire maximum width point M from an inner end part 10L which is laid and ended on an outside surface of a tire axial direction of the folded part 6b.例文帳に追加

前記折返し部６ｂのタイヤ軸方向外側面に重なって途切れる内端部１０Ｌから、タイヤ最大巾点Ｍを超えて半径方向外方にのびるゴム補強層１０を具える。 - 特許庁

The second reinforcement cord layer 10 includes an outer end 10a on the outer side in the radial direction of an outer end 8at of an inner apex 8a, and an inner end 10b on the inner side of an outermost point P of a bead core 5.例文帳に追加

第２補強コード層１０は、内側エーペックス８ａの外端８ａｔよりも半径方向外側の外端１０ａと、ビードコア５の最外点Ｐよりも内側の内端１０ｂとを有する。 - 特許庁

The plating layer 45 form a waveguide 47 composed of a beltlike main line 471 and a feeding point corresponding part 472 extending sideward from a lengthwise intermediate position of the main line 471.例文帳に追加

メッキ層４５は、帯形状の主路４７１と、帯形状の主路４７１の長さ方向の中間位置から側方へ延びる給電点対応部４７２とからなる導波路４７を形成する。 - 特許庁

As the base resin of the adhesive layer, is employed a resin containing at least 10 pts.wt. of a crystalline resin having a glass transition temperature of 25°C or lower and a melting point of at least 50°C.例文帳に追加

また、前記の接着層のベース樹脂として、結晶性で、ガラス転移温度が２５℃以下であり、且つ、融点が５０℃以上である樹脂を少なくとも１０重量部以上含む樹脂を用いる。 - 特許庁

The width of the current aperture of the current narrowing layer 14 is not larger than the diameter (D) of a circle drawn by connecting the center of the holes that are nearest the point defect, wherein the diameter D of the circle is 10.6λ or smaller.例文帳に追加

電流狭窄層１４の電流開口の幅が、点欠陥に最も近接する円孔中心を結ぶ円の直径（Ｄ）以下であり、円の直径Ｄが１０．６λ以下である。 - 特許庁

In the thixotropic gel type blood separation agent consisting of an oily layer forming material, an adherence rendering agent, and a thixotropy rendering agent, a glass transition point temperature of the adherence applying agent is 55°C or more.例文帳に追加

油状の層形成材料と、粘着付与剤と、チキソトロピー性付与剤よりなるチキソトロピー性ゲル状血液分離剤において、前記粘着付与剤のガラス転移点の温度が５５℃以上である。 - 特許庁

A wettability adjusting layer 5 using a material that is changed in wettability with irradiation of light is formed within an exposed surface region of a circuit board 1 including a disconnection point D of the wiring 3 formed on the circuit board 1.例文帳に追加

基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。 - 特許庁

A memory array (25) and an addressing circuit (30) are formed by creating a circuit element (26) in the cross-point of two layers (70, 76) made of an electrode conductor, and the two layers are separated by a semiconductor material layer (72).例文帳に追加

メモリアレイ(25)とアドレス指定回路(30)が、電極導体の2つの層(70,76)の交点に回路エレメント(26)を作成することにより形成され、それらの2つの層は半導体材料の層(72)により分離される。 - 特許庁

A layer tag switching means 6 switches the display of the layers by selecting tags and a three-dimensional task display plotting means 7 simultaneously plots plural layers from an arbitrary point of view.例文帳に追加

レイヤ・タグ切替処理手段６はタグを選択することによりレイヤの表示切り替えを行い、３次元タスク表示描画処理手段７は、任意の視点からの複数レイヤの同時描画を行う。 - 特許庁

An organic electroluminescence element 13 as a light-emitting point 14 is formed on the translucent substrate 12, and an individual connecting part 15 is formed on the first electrode layer 21 for each organic electroluminescent element 13.例文帳に追加

透光性基板１２上に発光点１４として有機電界発光素子１３を形成し、有機電界発光素子１３ごとに第１の電極層２１上に個別接続部１５を形成する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device, a light-emitting element 12, which forms a p electrode 13 and a low-melt-point metal diffusion prevention layer 14 on the upper surface and comprises a plurality of group III nitride semiconductors, is formed on a sapphire substrate 10.例文帳に追加

ｐ電極１３および低融点金属拡散防止層１４が上面に形成された、複数のIII 族窒化物半導体からなる発光素子１２を、サファイア基板１０上に形成する。 - 特許庁

A sequential manufacturing method is also provided, and this method has such an advantage that an active area in an active semiconductor layer is not exposed to an unprotected solvent and/or solvent vapor at a given point in a manufacturing process.例文帳に追加

連続的な製造方法は、活性半導体層の活性領域が、製造プロセスの任意の時点にて未保護の溶媒、及び／又は溶媒蒸気に露出されない利点を有している。 - 特許庁

A bit region corresponding to a cross point at which lower electrodes and upper electrodes cross one another is a part of an active layer arranged between the lower electrodes and the upper electrodes.例文帳に追加

下部電極と上部電極とのクロスポイントに対応するビット領域は、互いに交差するように配列された下部電極と上部電極との間に配置されたアクティブ層の一部である。 - 特許庁

This packaging sheet 10 has a coating layer 10B formed by coating a thermoplastic resin sheet 10A with a coating agent of which the melting point is higher than that of the thermoplastic resin sheet 10A.例文帳に追加

本発明の包装用シート１０は、熱可塑性樹脂シート１０Ａ上に該熱可塑性樹脂シート１０Ａよりも融点の高いコーティング剤を塗布してなるコーティング層１０Ｂを備えて構成されている。 - 特許庁

At this point, holes stored in the n- epitaxial layer 6 under the non-cell area are blocked by the trench 62 from flowing into the peripheral cells of the cell area and discharged out to the emitter electrode 20 through a contact 72.例文帳に追加

このとき、非セルエリア直下のｎ^-エピタキシャル層６に蓄積された正孔は、トレンチ６２に阻害されてセルエリアの周辺セルに流れ込むことができず、コンタクト７２からエミッタ電極２０へ排出される。 - 特許庁

The release layer-forming ink comprises a vehicle having a glycol based solvent having a boiling point of ≥100°C as the major component and a powder of a releasing substance powder such as a tetrafluoroethylene resin powder.例文帳に追加

沸点１００℃以上のグリコール系溶剤を主成分として含むビヒクルに対して、４フッ化エチレン樹脂パウダーなどの剥離性物質粉体を配合した剥離層形成用インクを用いる。 - 特許庁

A terminal underlayer 20 consisting of a metal having a high melting point is formed at the part where the connection wire 10 is exposed and a COG terminal layer 22 consisting of aluminum or an aluminum alloy is further formed thereon.例文帳に追加

接続配線１０が露出した部分に、高融点金属から成る端子下地層２０を形成し、さらに、その上にアルミニウムまたはアルミニウム合金から成るＣＯＧ端子層２２を形成する。 - 特許庁

The carbonaceous linear structural material is grown to cross link between the counter electrodes with the catalyst layer 7 as the starting point by a plasma enhanced CVD method while applying voltage between the counter electrodes.例文帳に追加

対向電極間に電圧を印加しながら、プラズマ強化ＣＶＤ法によって、触媒層７を起点として対向電極間を架橋するように、炭素系線状構造材料を成長させる。 - 特許庁

The resin layer 4 is preferably formed of a resin containing a material of 60-90°C melting point, for example, an ethylene-vinyl acetate copolymer resin, or a resin containing polyamide, nitrocellulose and polyethylene wax.例文帳に追加

この樹脂層４を、６０〜９０℃の融点を有する材料、例えばエチレン−酢酸ビニル系共重合体樹脂、又は、ポリアミド、硝化綿及びポリエチレンワックスを含有する樹脂で形成することが好ましい。 - 特許庁