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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > point layerの意味・解説 > point layerに関連した英語例文

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point layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2243



例文

A plural number of pores or fine slit type blowholes passing through front to back are provided at the same point on the reinforcing plate and the adhesive sheet, and after the thin layer wafer is placed on the adhesive sheet, the thin layer wafer is pressed and adhered on the adhesive sheet by atmospheric pressure by evacuating it from the side of the backing reinforcing plate.例文帳に追加

補強板と粘着シートには、同一箇所に表裏を貫通する複数個の細孔または細いスリット状の通気孔が設けられており、粘着シート上に薄層ウエーハを載せた後、裏打ち補強板側から真空排気をして、大気圧により薄層ウエーハを粘着シート上に押圧して貼りつける。 - 特許庁

By forming A1 ingredient thickened layer only on the surface layer of the ceramic base, growth of main-phase particles of silicon nitride is restrained, and so, there will scarcely be any abnormally grown particles generated which can be a starting point of destruction, which means that fluctuation of strength, especially at room temperature, is hardly generated.例文帳に追加

セラミック基体の表層部にのみAl成分濃化層を形成することで、セラミック基体表層部における窒化珪素質主相粒子の成長が抑制され、破壊の起点となりうる異常成長した粒子が生じにくくなることから、強度、特に室温強度のばらつきを生じにくくなる。 - 特許庁

This fixing roller has a reformed fluororesin layer formed by having a fluororesin irradiated with ionizable radiation in the range of 1 kGy to 10 MGy in irradiation dose, in a state where the fluororesin is heated to its melting point or higher under an inert gas atmosphere of 100 Torr or lower in oxygen concentration directly or via another layer on the outer periphery of a metallic core shaft.例文帳に追加

金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介して、ふっ素樹脂に酸素濃度100torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ該ふっ素樹脂の融点以上に加熱された状態で電離性放射線を照射線量1kGy 〜10MGy の範囲で照射してなる改質ふっ素樹脂層を有する定着ローラ。 - 特許庁

In a water stop tape prepared by forming a water-absorbing layer 2 containing water-absorbing resin particles and a rubber type binder on the surface of a support 1 made of a nonwoven fabric, the ten-point average roughness (Rz) of the surface of the layer 2 is at most 75 μm, and the maximum height (Ry) is at most 100 μm.例文帳に追加

不織布からなる支持体1の表面に、吸水樹脂粒子とゴム系バインダーとを含む吸水層2が形成されてなる止水テープにおいて、前記吸水層2の表面の十点平均粗さ(Rz)が75μm以下であり、最大高さ(Ry)が100μm以下であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

The image receiving layer of the image recording sheet having paper base material and image receiving layer installed on at least one surface of this paper base material contains a thermoplastic resin having a 10-point mean surface roughness (Rz) of 0.1 to 3.0 μm and a modulus of elasticity in storage of10^3 to10^6 Pa at 160°C.例文帳に追加

紙基材と前記紙基材の少なくとも片面に設置された画像受容層とを備える画像記録シートにおいて、前記画像受容層が、0.1〜3.0μmの10点平均表面粗さ(Rz)を有し、且つ、160℃で1×10^3〜1×10^6Paの貯蔵弾性率を有する熱可塑性樹脂を含む。 - 特許庁


例文

To provide barrier film capable of being produced by tubular extrusion blowing at a sufficiently low temperature applicable to a thermosensitive polymer layer, having a monolayer or multilayer structure containing at least one layer made of an alloy of a low melting point polyamide with a polyolefin and improved in tear strength.例文帳に追加

感熱性ポリマー層に対して用いることが可能な十分に低い温度でチューブインフレーション法によって作ることができる、少なくとも1層の低融点ポリアミド/ポリオレフィンタイプのアロイ層を含む単層または多層構造を有する、引裂き強度が改良された新規な遮断フィルムを提供する。 - 特許庁

A glass paste layer 17 having a softening point in the same temperature region with the optimal burning temperature region of the thermistor element is formed on the alumina board 11, glass frit-free thermistor paste layers 19a, 19b, and 19c are formed on the glass paste layer 17, and these layers are all burned at the same time.例文帳に追加

又、アルミナ基板11上にサーミスタの最適焼成温度領域と同温度領域の軟化点を有するガラスペースト層17を形成し、該ガラスペースト層上にガラスフリットを含まないサーミスタペースト層19a,19b,19cを形成し、これらの層を同時に焼成することを特徴とする。 - 特許庁

Regarding the electrophotographic image receiving material in which at least one heat insulation layer is provided on a support, the TMA (Thermomechanical Analysis) softening point of the heat insulation layer is lower than the fixing temperature upon toner image fixing by 30 to 85°C, and also, a TMA recovery rate is 60 to 75%.例文帳に追加

支持体上に少なくとも1層の断熱層を設けた電子写真用受像材料において、該断熱層のTMA軟化点がトナー画像定着時の定着温度よりも30〜85℃低く、かつTMA回復率が60〜75%であることを特徴とする電子写真用受像材料。 - 特許庁

The steam barrier film has at least one inorganic gas barrier layer on a substrate film of a polyalkylene naphthalate resin where the glass transition point (Tg) of the polyalkylene naphthalate resin is 70-150°C, and also the steam barrier film has at least one conductive layer having the resistance of 10^12 Ω (25°C, relative humidity 60%) or lower.例文帳に追加

ポリアルキレンナフタレート樹脂基材フィルム上に少なくとも一層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、該ポリアルキレンナフタレート樹脂のガラス転移点(Tg)が70〜150℃であり、かつ該水蒸気バリアフィルムが、抵抗が10^12Ω(25℃・相対湿度60%)以下である導電性層を少なくとも一層有する。 - 特許庁

例文

To provide a method for excavating the ground, by which the cohesive soil ground having a high underwater level at an extremely deep point and the ground having a water impermeable layer, such as fine sand layer containing a number of fine grains, with a confined aquifer underheath can be safely excavated while preventing board swelling at an excavation bottom face and boiling.例文帳に追加

大深度で地下水位の高い粘性土地盤や細粒分の多い細砂層のような難透水層とその下に被圧帯水層が存在する地盤における地盤の掘削を、掘削底面の盤ぶくれやボイリングを阻止しながら安全に行うことの可能な地盤の掘削方法を提供する。 - 特許庁

例文

A linear velocity of the outermost periphery of the developer layer forming member, a line pressure of the developer layer forming member to the developer carrier, a glass transition point, softening temperature, flowing-out start temperature, and melting temperature of the developer are set to specific values, and the melting temperature is set higher than the flowing-out temperature.例文帳に追加

現像剤担持体の最外周の線速度、現像剤層形成部材の現像剤担持体に対する線圧、現像剤のガラス転移点、軟化温度、流出開始温度、及び溶融温度が所定の値にされ、軟化温度より流出開始温度が、流出開始温度より溶融温度が高くされる。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes preparing the semiconductor element 10 having a bump electrode 10b arranged on a principal surface, and the circuit substrate 20 having a conductive layer 20b on electrode terminals 10p and 20p, and coating at least a part of a surface of the bump electrode with a bonding material 30 having a lower melting point than the bump electrode and conductive layer.例文帳に追加

バンプ電極10bを主面に配設した半導体素子10と、電極端子10p・20p上に導電層20bを配設した回路基板20を準備し、バンプ電極の表面の少なくとも一部に、バンプ電極及び導電層より融点が低い接合材30を被覆する。 - 特許庁

The liquid crystal layer 23 is formed by adding an additive composed of a solvent which is smaller in contact angle, higher in boiling point and lower in vapor pressure than a solvent used for the UV curing liquid crystal solution is added to the UV curing liquid crystal solution to be applied to the alignment layer 22 and irradiating the UV curing liquid crystal solution with UV rays.例文帳に追加

配向膜22に塗布するUV硬化型液晶溶液において、該UV硬化型液晶溶液に用いられる溶媒よりも接触角が小さく、沸点が高く、かつ蒸気圧が低い溶剤からなる添加剤を添加し、該UV硬化型液晶溶液にUVを照射することにより、液晶層23を形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive lead layer and a spin valve magnetoresistance effect reproducing element having the conductive lead layer which reveals a high conductivity, high hardness, high melting point, high corrosion resistance and high durability in server manufacturing environments and operating environments and is applicable to the present and future magnetic reproducing heads.例文帳に追加

高導電性、高硬度、高融点、高耐食性および苛酷な製造環境や動作環境における高耐久性を示し、現在および将来の磁気再生ヘッドについて適用可能な導電リード層の形成方法およびこの導電リード層を備えたスピンバルブ型磁気抵抗効果再生素子を提供する。 - 特許庁

In the EL element comprising a substrate which at least a heat-resistant temperature or a melting point is 800 degrees C or more, and the dielectric layer which is formed by thick-film calcination, the dielectric layer is formed in a rectangle pattern with a side length of 2 times or more and 30 times or less in film thickness.例文帳に追加

少なくとも耐熱温度ないし融点が800℃以上の基板と、厚膜焼成により形成された誘電体層を有するEL素子であって、上記誘電体層が少なくとも膜厚の2倍以上、30倍以下の長さの辺を有する矩形パターンに形成されている構成のEL素子とした。 - 特許庁

In the steam barrier film constituted by providing at least one inorganic gas barrier layer on a polyalkylene naphthalate resin base material film, the glass transition point (Tg) of a polyalkylene naphthalate resin base material is 70-150°C and the steam barrier film has at least one conductive layer with a resistivity of 10^12 Ω (at 25°C, relative humidity: 60%) or below.例文帳に追加

ポリアルキレンナフタレート樹脂基材フィルム上に少なくとも一層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、該ポリアルキレンナフタレート樹脂のガラス転移点(Tg)が70〜150℃であり、かつ該水蒸気バリアフィルムが、抵抗が10^12Ω(25℃・相対湿度60%)以下である導電性層を少なくとも一層有する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the fluorescent lamp emitting ultraviolet light, a glass layer (14) having a softening point lower that of than the quartz glass is formed beforehand on a tube formed of quartz glass, and the suspension of a phosphor mixing the phosphor and a binder is coated on the glass layer (14), and the phosphor (15) is calcined.例文帳に追加

また、紫外線を放射する蛍光ランプの製造方法であり、石英ガラスからなる管に、石英ガラスよりも軟化点が低いガラスの層(14)を予め形成し、このガラスの層(14)の上に蛍光体とバインダ剤とを混合した蛍光体の懸濁液を塗布して当該蛍光体(15)を焼成する。 - 特許庁

The organic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive support has a surface layer containing inorganic particles of 3 to 150 nm in number average primary grain size, and the surface roughness Ra is 0.001 to 0.018, and the ten point surface roughness Rz is 0.02 to 0.08 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層を有する有機感光体において、数平均一次粒径が3〜150nmの無機粒子を含有した表面層を有し、表面粗さRaが0.001〜0.018であり、十点表面粗さRzが0.02〜0.08μmであることを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

The anisotropic conductive film is formed in a resin film 24 by arranging conductive particles 12 in a single layer on one face side in the thickness direction of the resin film, and the ten point average distance between the one face side in the thickness direction of the resin layer and the centers of the conductive particles is 9 μm or less.例文帳に追加

異方性導電膜は、樹脂膜24中であって、該樹脂膜の厚み方向における一方の面側に、導電性粒子12が単層配列してなり、前記樹脂膜の厚み方向における一方の面と、前記導電性粒子の中心との距離の10点平均が、9μm以下である。 - 特許庁

Even if a surge voltage is applied, since the second semiconductor layer 143 is fixed at a middle point potential of the two diffused resistors 124 and 134, a potential difference between the first semiconductor layers 123 and 133 and the second semiconductor layer 143 is cut in half, thus breakdown of the dielectric separation films 122 and 132 can be prevented.例文帳に追加

サージ電圧が印加されたとしても、第二の半導体層143は二つの拡散抵抗124、134の中点電位に固定されているため、第一の半導体層123、133と第二の半導体層143との間の電位差が半減し、誘電体分離膜122、132の破壊を防ぐことができる。 - 特許庁

A water-repellent and oil-repellent layer having an oleic acid contact angle which is higher than that of a reflecting layer formed on the backing of a surface of the reflector 3 is formed on the outermost surface of the reflector 31, and the reflector has an air flow adjusting hole 33 to circulate air on its top face 30, at a position higher than the lowest point of the fluorescent lamp 4.例文帳に追加

反射板3は、その最表面に反射板表面の下地に形成された反射層よりもオレイン酸接触角が高い撥水撥油層が形成され、蛍光灯4の最下点30よりも高い位置の天面31に空気を流通させるための気流調整孔33を有している。 - 特許庁

The lithium ion secondary battery includes an electrode 20 having a current collector 26 and an active material layer 28 formed on the current collector 26, and the active material layer 28 contains composite particles 6 having nuclear particles containing an organic compound of insulating property with a melting point of 100-200°C and a metal film 4 to cover the nuclear particles 2.例文帳に追加

集電体26と、集電体26上に形成された活物質層28と、を有する電極20を備え、活物質層28が、融点が100〜200℃である絶縁性の有機化合物を含む核粒子2と核粒子2を被覆する金属膜4とを有する複合粒子6を含む、リチウムイオン二次電池とする。 - 特許庁

At each contact point P where the linear element 121, the negative electrode collector layer 11, and the solid electrolyte layer 13 are in contact with each other, the surface of the linear element has a gradient θ less than 90 degrees to realize a battery having a large capacity with respect to the amount of active material usage and exhibiting excellent charge-discharge behavior.例文帳に追加

ライン状パターン121、負極集電体層11および固体電解質層13が互いに接する接触点Pにおいてライン状パターン表面の勾配θを90度より小さくすることで、活物質の使用量に対する容量が大きく、かつ充放電特性も良好な電池を構成することができる。 - 特許庁

This electrically conductive metallic grains are composed of four or more kinds of constituting metals, the concentration of the constituting metals continuously changes from the surface layer of the electrically conductive metallic grains to the central part, and the melting point slantwise changes from the surface layer to the central part.例文帳に追加

導電性金属粒子であって、該導電性金属粒子は4種類以上の構成金属より構成され、該構成金属の濃度は前記導電性金属粒子の表層から中心部へと連続的に変化し融点が表層から中心部にいくに従って傾斜的に変化することを特徴とする。 - 特許庁

Therefore, the softening point of the glazed layer 71 can be increased and, consequently, the deteriorations of the glazed layer 71 in the appearance caused by the surface roughening, in the insulating properties caused by adhesion of stains, etc., are difficult to be generated when the metallic member 61 is jointed by brazing treatment after glazing, especially when subjected to brazing treatment under a high vacuum.例文帳に追加

その結果、釉薬層71の軟化温度を高めることができ、釉焼後に金属部材61をろう付け接合する処理、特に高真空下でのろう付け処理を行う際の、釉薬層71の表面粗化による外観低下や、汚れ付着による絶縁性低下等を生じにくくすることができる。 - 特許庁

To provide a radiation image conversion panel which prevents a substrate from corroding due to a phosphor layer because the panel has a parylene film isolating the phosphor layer from the substrate, keeps the adhesion of the parylen film high, and which also makes it possible to prevent the degradation in image quality such as point defects caused by treatments prior to the formation of the parylene film.例文帳に追加

蛍光体層と基板とを隔離するパリレン膜を有することにより、蛍光体層による基板の腐食を防止すると共に、パリレン膜の密着性が高く、かつ、パリレン膜の形成に先立つ処理に起因する点欠陥等の画質劣化を防止できる放射線画像変換パネルを提供する。 - 特許庁

Since the particle layer incapable of being sintered at 585°C becomes a layer with only high-melting-point particles arranged by destroying resin in fire, the produced sheet member is not fixed to the substrate, so that it can be used as a sustaining electrode only by easily separating it from the surface thereof and by fixing it to a back plate.例文帳に追加

そのため、585(℃)では焼結させられない粒子層は、樹脂が焼失させられることにより高融点粒子のみが並ぶ層となることから、生成されたシート部材は基板に固着されないため、その表面から容易に剥離して背面板に固定するだけで維持電極として用いることができる。 - 特許庁

The plate for lithographic printing, comprises: a support medium; an image recording layer including a radical polymerization initiator and a radical polymerizable compound; and an overcoat layer which includes a polymer resin having a monomer unit containing at least any of an amino group which has a clouding point in solution and an amide bond, in this order.例文帳に追加

支持体と、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有する画像記録層と、水溶液中で曇点を有するアミノ基及びアミド結合の少なくともいずれかを含むモノマー単位を有する高分子樹脂を含有するオーバーコート層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁

In memory cells of a non-volatile semiconductor memory, a charge storage layer 26 is formed on a control gate 22 made of high melting point metal formed on a glass substrate 2 through a gate insulating film 24, and an active layer 34 which process at right angles with the control gate 22 is formed through an insulating film 32 for transferring charges.例文帳に追加

不揮発性半導体メモリ12のメモリセルでは、ガラス基板2上の高融点金属材の制御ゲート22上にゲート絶縁膜24を介して電荷蓄積層26が形成され、さらに電荷授受用絶縁膜32を介して制御ゲート22と交差する活性層34が形成されている。 - 特許庁

The multilayered film has a heat sealing resin layer (A) containing a propylene copolymer (a1) produced using a metallocene catalyst and straight chain low density polyethylene (a2) and a resin layer (B) of a single layered constitution or multilayered constitution containing a propylene polymer (b) having a melting point higher than that of the propylene polymer (a1).例文帳に追加

メタロセン触媒を用いて製造されたプロピレン系共重合体(a1)および直鎖状低密度ポリエチレン(a2)を含有するヒートシール樹脂層(A)と、前記プロピレン系共重合体(a1)より高い融点を有するプロピレン系重合体(b)を含有する単層構成または多層構成の樹脂層(B)とを有する多層フィルム。 - 特許庁

The method for splitting the semiconductor wafer contains a mirror finishing in which the working surface of the wafer is mirror finished, and a quality-changing layer forming process in which the quality-changing layer is formed in the wafer by applying laser beams while conforming the ray converging point to the inside through the mirror finished working surface.例文帳に追加

半導体ウエーハの分割方法は、半導体ウエーハの加工面を鏡面加工する鏡面加工工程と、該鏡面加工された加工面を通して内部に集光点を合わせてレーザー光線を照射して半導体ウエーハの内部に変質層を形成する変質層形成工程とを含む。 - 特許庁

To provide a microscopic crystal silicon thin film solar battery, which can be formed using a deposition process that can be utilized at this point of time by forming an n-type hydrogenated amorphous silicon layer on the side of the reflection electrode of the n-type hydrogenated microscopic crystal silicon layer, and improved output characteristic can be exhibited.例文帳に追加

n型水素化微結晶シリコン層の反射電極側にさらにn型水素化アモルファスシリコン層を形成することによって、現時点で利用可能な堆積プロセスを使用して形成されることができる、改善された出力特性を発揮できる微結晶シリコン薄膜太陽電池を提供する。 - 特許庁

In a process of forming a first layer wiring 16A on a layer insulation film 9, a molybdenum film 16a having a lattice structure approximating tungsten and a low melting point is deposited thinly and in concave form, a tungsten film 16b is deposited to embed the concave and planarize the surface, and then a molybdenum film 16a is re-laminated.例文帳に追加

層間絶縁膜9上に第1層目配線16Aを配置する工程において、先にタングステンと格子構造が近似し、且つ融点の低いモリブデン膜16aを薄く凹状に堆積し、次にタングステン膜16bを凹を埋めて堆積し、表面を平坦化して再度モリブデン膜16aの順に積層する。 - 特許庁

In the reflection preventing film, the hard coat layer and a reflection preventing layer are laminated in turn on one side of a biaxially oriented film of a polyester which contains 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid derivative units and 1,4-cyclohexane dimethanol derivative units as repeating units as main components and has a melting point of at least 200°C.例文帳に追加

繰り返し単位として、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸由来の単位と1,4−シクロヘキサンジメタノール由来の単位とを主成分とし、その融点が200℃以上であるポリエステルから成る二軸配向ポリエステルフィルムの片面に、ハードコート層および反射防止層が順次積層されている反射防止フィルム。 - 特許庁

The photoelectric converter comprises a conductive substrate 19, an insulating layer 24 formed on the conductive substrate 19 and having a predetermined opening and a melting point higher than the bonding temperature of the conductive substrate 19 and one conductivity type crystal semiconductor particles 10, a bonding layer 18 formed in the opening of the insulating layer 24 on the conductive substrate 19, and the crystal semiconductor particles 10 formed on the bonding layer 18.例文帳に追加

導電性基板19と、導電性基板19上に形成され、所定の開口部を有し、且つ、導電性基板19と一導電型の結晶半導体粒子10との接合温度よりも高い融点を有する材料からなる、絶縁層24と、導電性基板19上で絶縁層24の開口部内に形成された接合層18と、接合層18上に形成された結晶半導体粒子10とを有してなる光電変換装置とする。 - 特許庁

In the ink jet recording material for non-aqueous ink constituted by providing at least one ink absorbing layer on a support and coating or impregnating the ink absorbing layer with a polymer dissolved or swollen by a petroleum type high boiling point solvent, an undercoating layer containing at least one kind of pigment selected from the group consisting of barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide and kaolin is provided between the support and the ink absorbing layer.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層のインク吸収層を設け、該インク吸収層の上に石油系高沸点溶剤により溶解又は膨潤するポリマーを塗工または含浸させてなる非水系インク用インクジェット被記録材料において、支持体とインク吸収層の間に硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、カオリンの群から選ばれた少なくとも一種の顔料を含有する下塗層を設けた非水系インク用インクジェット被記録材料である。 - 特許庁

A radiation image conversion panel includes a phosphor layer containing a stimulable phosphor and a thermoplastic resin in which the softening point, or melting point thereof is 30 to 150°C, the elastic coefficient is not more than 1.0 kgf/mm2, and the thermoplastic resin is purified and treated.例文帳に追加

輝尽性蛍光体および熱可塑性樹脂を含有する蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記熱可塑性樹脂が30〜150℃の軟化点または融点を有するとともに、1.0kgf/mm^2以下の弾性率を有し、且つ前記熱可塑性樹脂が精製処理されたことを特徴とする放射線像変換パネルである。 - 特許庁

In the release film, a release layer containing a component having mold releasability and an isocyanate crosslinking agent as constituents is installed on at least one side of a base material film made of a composition which makes a polyester resin (I) having a specified melting point and a polyester resin (II) having a specified melting point constituents, and having a state of a specified orientation.例文帳に追加

特定の融点を有するポリエステル樹脂(I)および特定の融点を有するポリエステル樹脂(II)を構成成分とする組成物からなり、特定の配向の態様を有する基材フィルムの少なくとも片方の面に、離型性を有する成分とイソシアネート系架橋剤とを構成成分として含有する離型層を設けた離型フィルム。 - 特許庁

A plurality of insulating coating soft magnetic particles produced by coating the soft magnetic particles with an insulating film, material powder particles of low melting point glass having the average particle diameter of 2-200 nm and an internal lubricant are mixed, consolidated and fired to form a boundary layer of low melting point glass at the grain boundary of the insulating coating soft magnetic particles.例文帳に追加

本発明は、 軟磁性粒子を絶縁皮膜で被覆してなる複数の絶縁被覆軟磁性粒子と平均粒径2nm〜200nmの低融点ガラスの原料粉末粒子と内部潤滑剤を混合して圧密し、焼成することにより、絶縁被覆軟磁性粒子同士の粒界に、低融点ガラスの境界層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The photopolymerizable resin composition for forming printing layer in packaging materials comprises a hydrogen-extractive photopolymerization initiator ≥220 in molecular weight and ≥60°C in melting point or a cleaving-type photopolymerization initiator300 in molecular weight and ≥60°C in melting point and a radical-polymerizable compound.例文帳に追加

本発明の光重合性樹脂組成物は、包装材料における印刷層形成用光重合性樹脂組成物であって、分子量が220以上で、融点60℃以上の水素引抜き型光重合開始剤、または分子量が300以上で、融点60℃以上の開裂型光重合開始剤とラジカル重合性化合物を含有するものである。 - 特許庁

Manufacturing method comprises plating a nickel alloy on the base metal consisting of copper and a copper alloy, and by heating the base metal on which the nickel alloy plated layer is formed, to a temperature higher than the melting point of the plated nickel alloy and lower than the melting point of the base metal, in a non-oxidizing atmosphere or a reducing atmosphere.例文帳に追加

また、銅または銅合金からなる母材1にニッケル合金めっきを施し、前記ニッケル合金めっき層が形成された母材を無酸化雰囲気または還元雰囲気で前記ニッケル合金めっきの融点以上かつ前記母材の融点以下に加熱し、前記母材の表面に前記母材金属とニッケルとを主成分とする合金層2を形成する。 - 特許庁

A gravity point 301 of the spot-like decoration layer 3 exists within a range wherein a distance from a corresponding lattice point 401 is within 1/2 of a distance between lattice points, arrangement relationships between gravity points 301 and lattice points 401 are different in regard to adjacent points, and the spot like decoration layers 3 are arranged so as not to overlap.例文帳に追加

点状装飾層3の重心点301が、対応する格子点401からの距離が格子点間距離の1/2以内の範囲内に存在すると共に、重心点301と格子点401との配置関係が隣り合うもの同士で異なっており、かつ、点状装飾層3同士が重なり合わないように配列されている。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第2工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

A laser beam with its polarization direction aligned by a polarizer is obliquely irradiated on a measurement point while the light transmission layer is rotated around the measurement point, reflected light is detected through a crossed Nicols-based optical system, and the principal axis direction in in-plane directions of a refractive index ellipsoid is found based on the light intensity variation of the reflected light.例文帳に追加

光透過層を測定点を中心として回転させながら、偏光子により偏光方向を揃えたレーザ光を測定点に対して斜めに照射し、クロスニコル系光学系を介して反射光を検出し、反射光の光強度変化に基づいて屈折率楕円体の面内方向における主軸方向を求める。 - 特許庁

To provide a measurement region setting device and a measurement region setting method capable of determining the optimum measurement point even in a color filter having a complex shape or having a TFT pattern in a lower layer and capable of determining the optimum measurement point independently of the color condition, and to provide a spectrometer.例文帳に追加

複雑な形状を有するカラーフィルタであったり、下層にTFTパターンを有していたりしても最適な測定ポイントを決定することが可能であり、また、色具合によらずに最適な測定ポイントを決定することが可能となる測定領域設定装置、測定領域設定方法および分光測定装置を提供すること。 - 特許庁

Thus, since the formation of a melting layer of low melt point is not necessary between the contact probes 10 and the electrode pad 22, by forming the contact probes 10 and the electrode pad 22 of a metallic material of high melt point, the contact probes 10 and the electrode pad 22 remain not melted until high temperature and the probe cards usable under higher temperature can be provided.例文帳に追加

これにより、コンタクトプローブ10及び電極パッド22の間に融点の低い溶融層を形成する必要がないので、コンタクトプローブ10及び電極パッド22を融点の高い金属材料で形成すれば、コンタクトプローブ10及び電極パッド22が高温になるまで溶融せず、より高温下で使用可能なプローブカードを提供することができる。 - 特許庁

This curable electromagnetic wave shielding adhesive film includes: a curable electroconductive polyurethane polyurea adhesive layer which contains a polyurethane polyurea resin, an epoxy resin of a low softening point, an epoxy resin of a high softening point, and a specific amount of a conductive filler; and a filmy curable insulating polyurethane polyurea resin composition which contains the polyurethane polyurea resin, and an epoxy resin.例文帳に追加

ポリウレタンポリウレア樹脂と低軟化点のエポキシ樹脂と高軟化点のエポキシ樹脂と特定量の導電性フィラーとを含有する硬化性導電性ポリウレタンポリウレア接着剤層と、ポリウレタンポリウレア樹脂とエポキシ樹脂とを含有するフィルム状硬化性絶縁性ポリウレタンポリウレア樹脂組成物とを有する硬化性電磁波シールド性接着性フィルム。 - 特許庁

To provide a welding method by which, when a Zn-Al-Mg-based alloy plated steel sheet is fusion-welded, there is no need of preremoving a plated layer, and further, even in fusion welding with little heat input, there is no occurrence of molten metal brittle cracks in a welding start point and a welding end point at which stress concentration is apt to occur.例文帳に追加

Zn−Al−Mg系合金めっき鋼板を溶融溶接する際に、めっき層を予め除去することなく、また入熱量が少ない溶融溶接においても、応力集中が発生しやすい溶接開始点及び終了点の熱影響部に溶融金属脆化割れが発生することのない溶接方法を提供する。 - 特許庁

The container has a peeling start point for separating the paper main body layer, wherein part of the base part is pushed inwardly to cause the inner surface resin layer of the blank to be pushed inward to separate the paper main body layer.例文帳に追加

上記課題を解決すべく、紙主体層と内面樹脂層とを弱接着により積層するブランクを金型で樹脂成型することで、ブランクとベース部とを一体に成型してなる複合容器であって、前記ベース部の一部を内方へと押し込むことにより、前記ブランクの内面樹脂層が内方へと押し込まれるとともに前記紙主体層が剥離して、該紙主体層を剥離するための剥離起点が形成される複合容器である。 - 特許庁

例文

In the membrane electrode assembly 10 having an anode 12 having a catalyst layer 12b, a cathode 13 having a catalyst layer 13b, and an electrolyte membrane 11 interposed between the catalyst layers, distribution of an ion exchange capacity in the thickness direction of the electrolyte membrane 11 becomes maximum at a point of 10 to 50% from the interface between the electrolyte membrane 11 and the catalyst layer 12b of the anode 12.例文帳に追加

触媒層12bを有するアノード電極12と、触媒層13bを有するカソード電極12と、これらの触媒層の間に狭持された電解質膜11とを有する膜電極接合体10において、電解質膜11の厚み方向のイオン交換容量の分布が、前記アノード電極12が有する触媒層12bとの界面から10〜50%の点において最大である該電解質膜11。 - 特許庁




  
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