「process processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(112ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a expanded resin laminated soundproof sheet and its manufacturing process which has no restriction on shapes/installation sites/weights, gives a thin structure of overall laminated sheet and a good plastic workability such as a press processing, is equipped with an enough vibration controllability in a final using condition after finishing a heating and foaming process, and exhibits a soundproofing performance.例文帳に追加

形状・施工場所・重量に制限を受けることがないとともに、積層板全体として薄く、プレス加工などの塑性加工性がよく、加熱発泡工程を経た最終の使用状態で十分な制振性能などを備え、防音性能を発揮する発泡樹脂積層防音板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus in which processes such as development, bleaching, fixing and cleaning are carried out by introducing a photosensitive material such as photographic paper into tanks and immersing the material in process liquids and process time is reduced by applying ultrasonic waves, and in particular, to prevent peeling at the end portion of the photosensitive material by the ultrasonic waves.例文帳に追加

印画紙などの感光材料が槽内に取込まれ、処理液に浸漬されることで、現像・漂白・定着・洗浄などの処理を行い、超音波を加えることで、処理時間を短縮するようにした写真処理装置において、前記超音波による感光材料の端部の剥がれを防止する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a flexible joint pipe having a resin-covering layer on the inside surface, capable of enhancing the production efficiency and suppressing the cost by eliminating a pre-processing to elongate the pipe wall prior to the powder coating or baking process and also enhancing the quality of the resin-covered layer formed by the powder coating process.例文帳に追加

内面に樹脂被覆層を有する可撓性継手管の製造方法において、粉体塗装又は焼付処理前に管壁を伸長させる前加工を不要にすることによって、生産効率の向上とコスト安を図り、併せて、粉体塗装によって形成した樹脂被覆層の品質を向上させる。 - 特許庁

When forming, for example, the surface of a lower electrode for a capacitor on the surface of a semiconductor wafer W which is an object to be processed, a process of depositing a HSG polysilicon film (rugged polysilicon film) 16 non-selectively and a process of doping an impurity such as phosphorus into the polysilicon film are conducted continuously in one and the same processing container 28.例文帳に追加

被処理体である半導体ウエハＷの表面に例えばキャパシタ用の下部電極の表面を形成する場合、非選択でＨＳＧポリシリコン膜（ラグドポリシリコン膜）１６を堆積させる工程と、このポリシリコン膜中に不純物、例えばリンをドープさせる工程とを、同一の処理容器２８内で連続的に行なう。 - 特許庁

An apparatus for detecting the termination of the process includes a detecting means for detecting the frequency of the high-frequency power supplied to the plasma treatment apparatus 1, and an operation processing means for analyzing detected frequency data and judging the termination of the process on the basis of the rate of change of the oscillation frequency.例文帳に追加

また、プロセス終了検出装置は、プラズマ処理装置（１）に供給される高周波電力の発振周波数を検出する周波数検出手段と、検出された周波数データを解析し且つ発振周波数の変化率に基づいてプロセスの終了を判別する演算処理手段とを備えている。 - 特許庁

A buffer memory/combining processing control section 5-23 controls the switching section and the buffer memory and performs control so as not to combine the reception data of a process number protruded out of the IR buffer, to fixedly key the process number protruded out of the IR buffer and to combine only the reception data in which CRC errors are detected.例文帳に追加

バッファメモリ・合成処理制御部５−２３は、スイッチ部及びバッファメモリを制御し、ＩＲバッファからはみ出すプロセス番号の受信データは合成しない、或いはＩＲバッファサイズからはみ出すプロセス番号を決め打ちせず、ＣＲＣ誤りを検出した受信データのみを合成するよう制御する。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus in which processes such as development, bleaching, fixing and cleaning are carried out by introducing a photosensitive material such as photographic paper into tanks and immersing the material in process liquids and process time is reduced by applying ultrasonic waves, and in particular, to prevent peeling at an end portion of the photosensitive material by the ultrasonic waves.例文帳に追加

印画紙などの感光材料が槽内に取込まれ、処理液に浸漬されることで、現像・漂白・定着・洗浄などの処理を行い、超音波を加えることで、処理時間を短縮するようにした処理槽であって、前記超音波による感光材料の端部の剥がれを防止する。 - 特許庁

The micro-corner cube array 10 is produced by a process for preparing single crystal substrates 1 and 4 which consist of a cubic system crystal and have a surface being substantially in parallel with the (111) surface of the crystal and a process for performing an anisotropic etching processing concerning the surfaces of the single crystal substrates 1 and 4.例文帳に追加

マイクロコーナーキューブアレイ１０は、立方晶系の結晶からなる単結晶基板１，４であって結晶の｛１１１｝面と実質的に平行な表面を有する単結晶基板１，４を用意する工程と、この単結晶基板１，４の表面に対して異方性エッチング処理を行なう工程とによって作製される。 - 特許庁

To provide a packet flow control system or the like which can effectively utilize the process capability resource within a packet communication network by supervising and restricting packets considering the load of process, in an packet processing apparatus A for controlling the acceptance of the packets to be inputted to the apparatus A.例文帳に追加

パケット処理装置Ａに入力されるパケットの受付を制御するにあたって、当該パケット処理装置Ａにおける処理負荷を考慮して当該パケットを監視及び規制することによって、パケット通信網内の処理能力リソースを効率的に利用することを可能とするパケット流量制御システム等を提供する。 - 特許庁

In the method for forming the silicon nitride film on the surface of an object to be processed by supplying a predetermined process gas in a processing vessel to be evacuated, an ammonia gas, a silane based gas, and a hydrocarbon gas are used as the process gas and the silicon nitride film is formed by supplying the silane based gas (HCD) intermittently.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器内に所定の処理ガスを供給して被処理体の表面にシリコン窒化膜を成膜する方法において、前記処理ガスとしてアンモニアガスと、シラン系ガスと、炭化水素ガスとを用い、前記シラン系ガス（ＨＣＤ）を間欠的に供給するようにしてシリコン窒化膜を成膜する。 - 特許庁

To obtain an impurity diffusion processing method in a semiconductor element manufacturing process which forms a uniform impurity diffusion layer and can carry on an impurity diffusion process high in performance and a yield, an impurity diffusing device for use in the same method, and a semiconductor element containing a solar cell, etc., high in a yield.例文帳に追加

均一な不純物拡散層を形成し、性能や歩留まりの高い不純物拡散処理が可能な半導体素子製造工程における不純物拡散処理方法および同方法に用いる不純物拡散装置、並びに、歩留まりの高い太陽電池等を含む半導体素子を得ること。 - 特許庁

To provide a discharge plasma processor and a processing method using the same which continuously and stably generates a uniform glow discharge plasma substantially under the atmospheric pressure to form a thin film, using not only a single process gas but a plurality of process gases, and can deal with complicated processes in etching, ashing steps, etc.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a spin chuck horizontally holding a substrate W without contacting with an upper surface and a lower surface of the substrate W, a process liquid supply mechanism supplying the process liquid to the upper surface and the lower surface of the substrate W held by the spin chuck, and an annular member 4 enclosing the substrate W held by the spin chuck.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗの上面および下面に非接触で当該基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板Ｗの上面および下面に処理液を供給する処理液供給機構と、スピンチャックに保持された基板Ｗを取り囲む環状部材４とを備えている。 - 特許庁

When coding processing is carried out by detecting a prediction mode that is suitable for intra-prediction from optimal prediction modes detected, on the basis of different predictive value generation units, one optimal prediction mode detection process is utilized for another optimal prediction mode detection process, thereby detecting an optimal prediction mode, on the basis of these different predictive value generation units.例文帳に追加

本発明は、異なる予測値生成単位で検出される最適予測モードからイントラ予測に適した予測モードを検出して符号化処理する際に、一方の最適予測モード検出処理を他方の最適予測モード検出処理に利用して、これら異なる予測値生成単位による最適予測モードを検出する。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜３と帯電防止膜５との間に中間膜４を形成する工程と、基板試料１に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料１に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料１に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

The method for producing the negative ionic powder is constituted by a ceramicizing step of mixing at least zirconium oxide, silica, phosphoric acid, and tourmaline which are pulverized to one micron or less and firing the resulting mixture to process it into ceramics and a powder processing step of pulverizing the ceramics formed in the ceramicizing step to several microns or less to process them into a negative ionic powder.例文帳に追加

１ミクロン以下に粉砕した少なくとも酸化ジルコニウム、シリカ、リン酸、トルマリンを混合し、焼成してセラミックスに加工するセラミックス化工程と、このセラミックス化工程でできたセラミックスを数ミクロン以下に粉砕してマイナスイオンパウダーに加工するパウダー加工工程とでマイナスイオンパウダーの製造方法を構成している。 - 特許庁

To provide magnetic toner, an image forming method, and a process cartridge that can suppress a decrease in picture quality such as a blotch and a fog, a decrease in developing performance, a photoreceptor flaw, and in-machine scatter of magnetic toner even when a large-capacity process cartridge with increased processing speed and an increased amount of toner to be charged in a developing unit is used.例文帳に追加

プロセススピードを上げたり、現像器内へのトナー充填量を増加させた大容量プロセスカートリッジを使用した場合においても、ブロッチ、カブリなどの画質の低下や現像性の低下、感光体傷、磁性トナーの機内飛散を抑制することができる磁性トナー、画像形成方法ならびにプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an etching protective material, along with a manufacturing method of a device substrate that uses the material, which provides by a method of simple and low cost, all of high resistance with respect to an etchant (alkaline and acid), heat resistance during processing, proper adhesion to a wafer applied with etching process, and ease in removing, after etching process.例文帳に追加

簡便かつ安価な方法により、エッチング液（アルカリおよび酸）に対する良好な耐性、加工時の耐熱性、エッチング処理を施すウェハへの良好な密着性およびエッチング処理後の易除去性のすべてを兼ね備えるエッチング保護材およびその保護材を用いたデバイス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Isolation 104A in a printer driver 100A selects whether the printing process is to be separated from a spooler process according to input of user's operation through UI 101A, performs processing concerned with the setting of Isolation in an OS 500 and stores Isolation setting information concerned with the setting of the Isolation in a driver setting storage part 103A and a setting storage part 400.例文帳に追加

プリンタドライバ１００ＡのIsolation１０４Ａは、ＵＩ１０１Ａを介してユーザの操作入力に応じて、印刷プロセスをスプーラプロセスから分離するか否かを選択して、ＯＳ５００のIsolationの設定に関する処理を行い、Isolationの設定に関するIsolation設定情報をドライバ設定保存部１０３Ａ及び設定保存部４００に記憶させる。 - 特許庁

The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁

The substrate processing method is based on cutting a solid plate substrate with a cutter equipped with a blade having a V-shaped circumference and has a process of scribing a substrate in the longitudinal or lateral direction and a process of scribing the substrate on both the upper and the lower surface.例文帳に追加

円周部がＶ字形形状の刃を備えるカッターにより一枚板形状の基板を分断する基板加工方法において、前記基板の縦方向又は横方向にスクライブする工程と、 前記基板の上面及び下面の両面において前記基板をスクライブする工程と、を有することを特徴とする基板加工方法。 - 特許庁

To provide an adhesive which does not drop out small pieces in a process for processing into small pieces or the like and also in a process for the subsequent 180 degree bending appearance observation examination, when adhered to an adherend, does not break the adherend, when peeled from the adherend, and does not stain the adherend with a left paste or the like.例文帳に追加

被着体に貼り付けた場合、小片化等の加工時及びその後の１８０度折り曲げ外観検査工程においても小片が脱落することなく、しかも被着体から剥離する際には被着体を破壊せず、しかも被着体に糊残り等の汚染を生じさせない粘着体を提供する。 - 特許庁

The manufacturing (processing) method of the nozzle plate for an inkjet head has the process of preparing the nozzle plate which has the ink repellent layer 2 formed on a surface of the side where the ink is ejected in the nozzle plate 1 with the ink ejection ports 1a formed on a substrate, and, for example, the following processes succeeding the process.例文帳に追加

基板にインク吐出口１ａを形成してなるノズルプレート１におけるインクが吐出する側の面に、撥インク層２が形成されたノズルプレートを準備する工程と、この工程に続けて、例えば以下の工程を有することを特徴とするインクジェットヘッド用のノズルプレートの製造（加工）方法。 - 特許庁

When executing each instruction specified by information fetched from the busy-lock-dedicated process queue 13, a busy lock executing means 6 does not execute the instruction but registers information about the instruction in the general process queue 12 if the instruction is an unlocking instruction finishing busy-locked resource using processing.例文帳に追加

繁忙ロック実行手段６は、繁忙ロック専用プロセスキュー１３から取り出した情報で特定される各命令の実行時に、当該命令が繁忙ロック対象資源利用処理を終了するアンロック命令であれば当該命令を実行せずに当該命令に係る情報を汎用プロセスキュー１２に登録する。 - 特許庁

The processing method of the liquid crystal display device having a liquid crystal panel assembly fabricated by joining a liquid crystal panel and an attachment unit includes: a first process of fixing the liquid crystal panel; and a process of separating the attachment unit from the liquid crystal panel.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置の加工方法は、液晶パネルと付属ユニットとを接合し組み立てた液晶パネル組品を有する液晶表示装置の加工方法であって、液晶パネルを固定する第１の工程と、付属ユニットを液晶パネルから分離する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

For an ECR plasma etching device D1, a mechanism is provided where a movable diaphragm 110 is lifted for a wafer processing vessel 100a to be shielded from a process gas exhaust port 106, and a switching valve 108 allows a gas inlet port 103 to communicate with a high-pressure gas inlet piping 105, while being shielded from a process gas inlet piping 104.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマエッチング装置Ｄ１の場合、可動式隔壁１１０を上昇させウェハ処理槽１００ａをプロセスガス排気口１０６から遮断し、切り替えバルブ１０８によりガス導入口１０３を高圧ガス導入配管１０５と導通させプロセスガス導入配管１０４から遮断する機構を備えている。 - 特許庁

To flexibly minutely optimize physical distribution control or a production/physical distribution plan requiring arbitrary time accuracy along an intention of a planner at high speed or with desired accuracy, in a process for processing a plurality of products in a plurality of different processes, and allowing each the product to select a plurality of different process paths.例文帳に追加

異なる複数の工程で複数製品を処理し、各製品が異なる複数工程経路を選択可能なプロセスにおいて、任意の時間精度を必要とする生産・物流計画や物流制御を高速に或いは所望の精度で詳細に、立案者の意図に沿って柔軟に最適化できるようにする。 - 特許庁

Before being sent back to a load lock chamber 13, a silicon substrate 11 completed in an etching process in an etching chamber 16 is carried to a post-processing chamber 20 provided independently from the etching chamber 16 and subjected to plasma treatment thus removing chlorine remaining on each silicon substrate 11 after ending the etching process.例文帳に追加

エッチングチャンバ１６でエッチングプロセスを終了したシリコン基板１１をロードロックチャンバ１３に返送するに先だって、エッチングチャンバ１６とは別途に設けた後処理用チャンバ２０に搬送してプラズマ処理することにより、エッチングプロセス終了後の各シリコン基板１１上に残留した残留塩素を除去する。 - 特許庁

This method has a mounting process of positioning the spherical body to the measuring plate via a sizing agent of the extent remaining in a projection plane, and a measuring process of imaging the spherical body with the parallel light transmitted through the measuring plate via the telecentric lens and calculating the shape of the spherical body by image processing.例文帳に追加

また、本発明は球状体を投影面内に収まる範囲の糊剤を介して測定板に位置決めするマウント工程と、測定板を透過する平行光で球状体をテレセントリックレンズを介して撮像し画像処理で球状体の形状を算出する測定工程とを有することを特徴としている。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which variation in the pattern dimensions incident to resist regeneration processing can be reduced, finishing dimensions of a transfer pattern can be brought close to target dimensions in a lithography process, and dimensional variation of semiconductor devices is suppressed between lots or within a lot in production.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、レジスト再生処理を経ることで生じるパターン寸法変動の低減を可能にし、リソグラフィ工程に於ける転写パターンの完成寸法を本来の目的寸法に近付け，また、ロット間或いはロット内に於ける半導体装置毎の寸法ばらつきを小さくする。 - 特許庁

The active surface 123 of the electronic component 120 is disposed on the one surface of the base substrate 110 so as to correspond to the one surface thereof; thus, processing for another via hole is unnecessary and a laser process that requires high cost can be omitted, and moreover the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be saved.例文帳に追加

電子部品１２０の活性面１２３をベース基板１１０の一面に一致させて配置することにより、別のビアホール加工が不要であり、多大な費用が消耗されるレーザー工程を省略することができるとともに、製造工程を簡素化することができ、製造費用を節減することができる。 - 特許庁

To provide an etchant and an etching method that can greatly facilitate a processing shape confirming operation in etching processing which should have been done frequently by suppressing a temporal decrease in etching speed during continuation of warming unique to an etchant containing hydroxylamines, in etching processing of silicon, especially, anisotropic etching of silicon in a manufacturing process of an MEMS component.例文帳に追加

シリコンのエッチング加工、特にＭＥＭＳ部品の製造工程におけるシリコンの異方性エッチング加工において、ヒドロキシルアミン類を含有するエッチング液に特有な加温継続時のエッチング速度の経時低下を抑制することによって、頻繁に行わざるを得なかったエッチング処理中の加工形状確認操作を大幅に簡略化できる、エッチング液およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A processing circuit 4 once accepts an AD conversion command and after that, does not process the content of a command other than the AD conversion command even if the command is accepted until a termination command for performing termination instruction of A/D conversion processing and an invalid signal of a chip selection signal CS are accepted as termination instruction signals and an A/D conversion part 5 continuously executes the A/D conversion processing.例文帳に追加

処理回路４は、ＡＤ変換コマンドを一旦受付けた後、Ａ／Ｄ変換処理を終了指示するための終了コマンドやチップセレクト信号ＣＳの無効信号を終了指示信号として受け付けるまでＡＤ変換コマンド以外のコマンドを受け付けたとしても当該コマンドの内容を処理することなく、Ａ／Ｄ変換部５がＡ／Ｄ変換処理を継続実行する。 - 特許庁

This image processing method for executing image processing based on input image information acquired from an image inputting means to obtain output image information includes a process for identifying an object to be photographed existing in an image, and for dividing the image into a plurality of portions, and for obtaining an object pattern whose image processing is performed by a method determined from a relation between each of those divided images and the other images.例文帳に追加

画像入力手段から得られた入力画像情報に基づいて画像処理を行い、出力画像情報を得る画像処理方法において、画像内に存在する被写体を識別して画像を複数に区分し、該区分された画像毎に、他の画像との関係から決定された方法で画像処理可能な被写体パターンとする工程を経る画像処理方法。 - 特許庁

Thus, when the Pachinko game machine 10 is under the probability variation, the drawing (winning/losing determination) process accompanying variable performance start and the permission determination of the display of the continuous notice performance accompanying an entry to a first ball entrance 64 are prevented from being simultaneously carried out during one timer interruption processing, and the draw processing is reliably carried out during the timer interruption processing.例文帳に追加

これにより、パチンコ機１０が確変中である場合に、１つのタイマ割込処理の中で、変動演出開始に伴う抽選（当否判定）処理と、第１入球口６４への入賞に伴う連続予告演出の表示を許可判定とが同時に行われることを防ぐことができ、抽選処理をタイマ割込処理の中で確実に行うことができる。 - 特許庁

Regarding the method for manufacturing the precursor lens having a spherical outer shape to be processed to a spherical lens, a virtual spherical shape larger than the estimated spherical shape is assumed at a processing data input process, and processing data including the virtual spherical frame shape data and edge thickness data is inputted, then, a material block is processed based on the processing data, then, the precursor lens is manufactured.例文帳に追加

玉型レンズに加工される円形の外形形状を有する前駆体レンズの製造方法であって、加工データ入力工程において予想される玉型形状よりも大きな仮想玉型形状を想定し、その仮想玉型のフレーム形状データ及び縁厚データを含む加工データを入力し、その加工データに基づいて材料ブロックを加工して前駆体レンズを作製する。 - 特許庁

When a user uses an IP remote controller to request contents processing to the apparatus to remotely be controlled and then another user requests process contents to the same apparatus to remotely be controlled, the content processing requested first is interrupted, and however the apparatus to remotely be controlled reports the IP remote controller as the request source that the content processing is interrupted.例文帳に追加

ユーザがＩＰリモコンを使ってリモコン制御対象機器に対してコンテンツ処理を依頼した後、さらに別のユーザが同じリモコン制御対象機器に対してコンテンツ処理を依頼すると、最初に依頼されたコンテンツ処理は中断するが、このリモコン制御対象機器はコンテンツ処理が中断したことを依頼元のＩＰリモコンに処理が中断したことを通知する。 - 特許庁

The cooling control device 40 is composed of a refrigerant temperature sensing processing part 42 to process sensing data of the temperature sensor 32, an operation stop/start sensing processing part 44 to sense the stop and start of the operation of the inverter 26 or a hybrid vehicle 8, and a refrigerant supply amount restriction processing part 46 to restrict the amount of refrigerant to be supplied from the water pump 34 when the predetermined conditions are met.例文帳に追加

冷却制御装置４０は、温度センサ３２の検出データを処理する冷媒温度検出処理部４２と、ハイブリッド車両８またはインバータ２６の作動の停止起動を検出する作動停止起動検出処理部４４と、所定の条件のときに電動ウォータポンプ３４の冷媒供給量を制限する冷媒供給量制限処理部４６を含んで構成される。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus, capable of controlling transmission and reception of image data and voice data of a conference participant who utters the content which is determined to become interference of process of a conference on the basis of a speech recognition results, and capable of suppressing displeasure and senses of incongruity to other conference participants, and to provide a conference system including the information processing apparatus, an information processing method, and a computer program.例文帳に追加

音声認識結果に基づいて、会議進行の妨害になると判断される内容の発言を行なった会議参加者の画像データ及び音声データの送受信を制御し、他の会議参加者への不快感、違和感を抑制することができる情報処理装置、該情報処理装置を含む会議システム、情報処理方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing gas sensor is provided with a process for bringing a substrate 12 into contact with a processing liquid 22, containing both metallic fluoro complexes and capturing agents for chemically capturing fluorine ions from the metal fluoro complexes or the processing liquid 22, containing only the capturing agent and making the metal oxide semiconductor film deposit onto the substrate 12, while adding the metallic fluoro complexes to the processing liquid 22.例文帳に追加

ガスセンサの製造方法は、金属のフルオロ錯体と金属のフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤とを含む処理液２２、または捕捉剤のみを含む処理液２２に、基板１２を接触させ、さらに処理液２２に金属のフルオロ錯体を添加しながら、金属の酸化物半導体膜を基板１２の上に析出させる工程を備える。 - 特許庁

This image processor is provided with a receiving means for downloading a program for image processing from the external server, an image processing means for performing the program in the image processor, a transmitting means for requesting the external server to process image data, and a switching means for switching the image data to be processed to either the image processing means or to the external server according to a prescribed condition.例文帳に追加

画像処理装置は、外部サーバーから画像処理用プログラムをダウンロードする受信手段と、前記プログラムを当該画像処理装置において実行する画像処理手段と、外部サーバーに画像データの処理を依頼する送信手段と、所定条件により、画像処理手段と外部サーバーのいずれで画像データの処理を行うかを切り換える切換手段とを備える。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of efficiently performing control even in the case of complicated functions or simultaneity of a plurality of inputs/outputs, of making another request wait during processing when a plurality of request modes are multiply requested, and of preferentially processing a request capable of being processed when the next process can not be processed for some reason.例文帳に追加

機能が複雑になったり、入出力を複数同時に行う場合でも、効率的に制御を行うことができる画像処理装置、複数の要求モードが多重的に要求された場合、処理中の場合には、他の要求を待機させたり、何かの理由で次の要求が処理できない場合に、処理できる要求を優先的に処理することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an embroidery data processing apparatus to process the embroidery data for sewing an embroidery pattern by an embroidery apparatus and a recording medium to record an embroidery processing program with which, particularly, the embroidery data is divided for processing and a boundary part of the division can be beautifully sewn when the embroidery pattern is sewn.例文帳に追加

縫製装置により刺繍模様を縫製するための刺繍データ処理装置及び刺繍データ処理プログラムを記録した記録媒体に関し、特に、刺繍データを分割処理し、刺繍模様を縫製した際に分割の境界部分を美しく縫製可能な刺繍データ処理装置及び刺繍データ処理プログラムを記録した記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an information processing method and an information processor which can be made adaptive to the change of a kind and data and enable the reduction of costs required for program development and maintenance while there are the problems that a troublesome and expensive process to newly prepare a processing program is required when the kind or the data is charged since the processing program is needed for each packet kind in a conventional information processor.例文帳に追加

従来の情報処理装置では、パケット種別毎の処理プログラムであるため、種別やデータの変更があると新たに処理プログラムを作成しなければならず、煩雑でコストがかかるという問題点があり、種別やデータの変更に容易に対応でき、プログラム開発やメンテナンスにかかるコストを低減することができる情報処理方法及び情報表示装置を提供する。 - 特許庁

In the image processing for processing image data for image formation, the image processing device and method and image forming apparatus include: a means for inputting image data; a means for detecting a boundary between a low image density part and a high image density part based upon input image data, and a means for performing a pseudo gradation process for the low image density part within a predetermined range from the boundary.例文帳に追加

画像形成のための画像データを処理する画像処理において、画像データを入力する手段と、入力画像データに基づき、低画像濃度部と高画像濃度部との境界を検知する手段と、境界から所定の範囲内の前記低画像濃度部に対して擬似階調処理を行う手段とを含むことを特徴とする画像処理装置、方法、及び画像形成装置。 - 特許庁