「process processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(111ページ目) - Weblio英語例文検索

This is because there are final goods with low processing degree, such as foods manufactured domestically, while highly processed goods are core in exports just like the word of "Process Trade" literally (mentioned before, Table2-3-1-13).例文帳に追加

これは、国内では食材のように加工度の低い最終財があるのに対し、輸出では加工貿易の言葉の通り、加工度の高い財が中心となっているためである（前述、第2-3-1-13 表）。 - 経済産業省

To improve the extensibility of post-process in a PDA and a PC using position information by acquiring the position information from a plurality of GPS receiving devices and further to improve convenience by efficiently performing transmission processing.例文帳に追加

複数のＧＰＳ受信機器から場所情報を取得し、これを利用するＰＤＡやＰＣでの後処理の拡張性を向上し、さらに効率的に送信処理して利便性を向上させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a drawing can for an aerosol capable of processing without buckling and breaking and provide the drawing can for the aerosol having a sufficient can strength and an excellent corrosion resistance.例文帳に追加

座屈や割れが生じることなく加工可能なエアゾール用絞り加工缶の製造方法および缶体強度が十分でかつ耐食性に優れたエアゾール用絞り加工缶を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet processing device capable of smoothly performing additional folding process with productivity higher than that in a conventional manner in which a pair of additional folding rollers are made to run in a direction orthogonal to a sheet conveying direction.例文帳に追加

円滑に、またシート搬送方向と直交する方向に折り増しローラ対を走行させる従来手法とくらべると生産性よく折り増し処理を行えるシート処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing method for introducing a raw process gas inbetween a pair of electrodes, of which the opposing surface of at least one electrode is coated with a solid dielectric, and processing a substrate to be treated with the plasma provided by means of applying an electric field inbetween the electrodes, is characterized by introducing the raw process gas between the electrodes, through at least two flow-rate control units arranged in parallel.例文帳に追加

少なくとも一方の電極対向面を固体誘電体で被覆した一対の電極間に原料処理ガスを導入し、電極間に電界を印加することにより得られるプラズマで被処理基材を処理する方法であって、原料処理ガスの電極間への導入を並列にした少なくとも２つの流量制御装置を介して行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法及びその装置。 - 特許庁

The mobile communication method includes a process A in which the relay node RN performs SFN synchronization processing with a radio base station DeNB based upon report information transmitted by the radio base station DeNB, and a process B in which the relay node RN when setting an RRC connection with the radio base station DeNB reports a result of the SFN synchronization processing to the radio base station DeNB.例文帳に追加

本発明に係る移動通信方法は、リレーノードＲＮが、無線基地局ＤｅＮＢによって送信されている報知情報に基づいて、無線基地局ＤｅＮＢとの間のＳＦＮ同期処理を行う工程Ａと、リレーノードＲＮが、無線基地局ＤｅＮＢとの間でＲＲＣコネクションを設定する際に、無線基地局ＤｅＮＢに対して、ＳＦＮ同期処理の結果を通知する工程Ｂとを有する。 - 特許庁

The control device 10 for the plant includes an input means 13 for inputting process signals sent from the plant, a numerical operation part 11 for outputting a boolean value that has determined the normality/abnormality of the process signals through arithmetic processing based on a program, and a control module 20 for outputting control signals associated with the safety protection operation of the plant by logically processing the boolean value on the basis of a logic circuit.例文帳に追加

プラントの制御装置１０において、プラントから送信されるプロセス信号を入力する入力手段１３と、プログラムに基づく演算処理によって前記プロセス信号の正常／異常を判定したブール値を出力する数値演算部１１と、論理回路に基づき前記ブール値を論理処理し前記プラントの安全保護動作に係る制御信号を出力させる論理処理部２０と、を備える。 - 特許庁

For a plurality of intermediate image processes constituting an image processing function to be executed, a route list creation process and an execution order list creation process are performed, to determine the order of executing intermediate image processing according to an order determined to be executable, and it is registered to the list of orders of execution together with buffer information (information on a data read position, a data write position, or the like) when determined.例文帳に追加

実行予定の画像処理機能を構成する複数の中間画像処理について巡回経路リスト作成処理及び実行順序リスト作成処理を行って、実行可能であると判定された順に従って中間画像処理の実行順序を決定して、その決定時のバッファ情報（データ読出位置やデータ書込位置などの情報）と共に実行順序リストに登録する。 - 特許庁

The image-forming apparatus records object data concern information relating to image data which becomes an object of image forming processing and process stage information relating to progress of this image forming processing; based on these object data concern information and process stage information which have been recorded, following a proposal rule defined beforehand, generates hint information about optimization; and offers this generated hint information.例文帳に追加

画像形成処理の対象となる画像データに係る対象データ関係情報と、当該画像形成処理の経過に関わる処理過程情報とを記録し、当該記録された対象データ関係情報及び処理過程情報に基づき、予め定められた提案ルールに従って、最適化に関するヒント情報を生成して、当該生成したヒント情報を提供する画像形成装置である。 - 特許庁

The pavement constructing method by the cold mixture including a process for paving the cold mixture forming a stable processing layer and a process for spraying or applying a coupling material and an aggregate on the stable processing layer constructed by the paved cold mixture at least one time or more constructing a protection layer and the pavement body constructed by the pavement constructing method are provided.例文帳に追加

安定処理層を形成する常温混合物を舗設する工程、舗設された常温混合物によって構築された安定処理層上に、結合材と骨材とをそれぞれ少なくとも１回以上散布ないしは塗布して保護層を構築する工程とを含む、常温混合物による舗装構築方法と、その舗装構築方法によって構築される舗装体を提供することによって上記課題を解決する。 - 特許庁

In the method of producing a porous resin sheet for a piezoelectric/pyroelectric element including a charging process where the inside of a bubble is charged by performing electron beam irradiation processing or corona discharge processing on a porous resin sheet, the charging process is performed in a state where a cover layer having a capacitance index X of 0.2 or higher is laminated on one or both surfaces of the porous resin sheet.例文帳に追加

多孔質樹脂シートに電子線照射処理又はコロナ放電処理を施すことにより気泡内部を帯電させる帯電処理工程を含む圧電・焦電素子用多孔質樹脂シートの製造方法であって、下記式にて表わされるキャパシタンス指標Ｘが０．２以上であるカバー層を多孔質樹脂シートの片面又は両面に積層した状態で前記帯電処理工程を行う。 - 特許庁

The system includes a processing chamber for treating a semiconductor substrate with one or more process gases comprising water vapor, a means for delivering the water vapor or one or more precursors thereof to the processing chamber, an exhaust conduit connected to the processing chamber, an absorption spectroscopy system for sensing water vapor in a sample region, and a controller for controlling the water vapor content in the processing chamber.例文帳に追加

本装置は、半導体基板を、水蒸気を含む１または複数種のプロセスガスを用いて処理するためのプロセスチャンバーと、水蒸気または水蒸気の１もしくは複数種の前駆物質をプロセスチャンバーへ送出する手段と、プロセスチャンバーに接続された排気管と、サンプル領域において水蒸気を検出するための吸収分光装置と、プロセスチャンバー内部の水蒸気含有量を制御するための制御装置とを備える。 - 特許庁

This image processing method is characterized in including an analysis process for finding a fractal dimension of the input image and a noise parameter setting process for determining the type and the intensity of the noise superposed on the input image for converting the input image into a prescribed image based on the found fractal dimension.例文帳に追加

入力画像のフラクタル次元を求める解析工程と、求めたフラクタル次元に基づいて、入力画像を所定の画像に変換するために入力画像に重畳するノイズの種類およびノイズの強さを決定するノイズパラメータ設定工程とを含むことを特徴とする画像処理方法である。 - 特許庁

The optical element is manufactured using a process for coating the surface of a light pervious base material with an uncured optical material resin and curing the optical material resin to form the optical element having the resin layer and a cutting process for cutting the outer peripheral part of the optical element by laser processing after the resin layer is formed.例文帳に追加

透光性基材の表面に未硬化の光学材料樹脂を塗布し、該光学材料樹脂を硬化させて樹脂層を有する光学素子を形成する工程と、前記樹脂層の形成後に前記光学素子の外周部をレーザー加工で切断する切断工程と、によって光学素子が製造される。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold of the present invention is characterized by comprising a process in which a specified shape is formed on the original plate for the mold consisting of the sintered material by cutting processing and a process in which electroforming is performed on the original plate for the mold on which the specified shape is machined and a mold on which the specified shape is transferred is obtained.例文帳に追加

本発明の金型の製造方法は、焼結材料からなる金型原板に所定の形状を切削加工により形成する工程と、前記所定の形状が切削加工された金型原板に電鋳を行い、前記所定の形状が転写された金型を得る工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a treating agent for a polyurethane-based elastic fiber, in which an excellent wound package is obtained in a process for producing a polyurethane-based elastic fiber and the polyurethane-based elastic fiber to be used in the processing process is provided with excellent unwinding property and smoothness and to provide a method for treating the polyurethane-based elastic fiber.例文帳に追加

ポリウレタン系弾性繊維の製造工程において優れた捲形状のパッケージを得ることができ、同時にその加工工程において用いるポリウレタン系弾性繊維に優れた解舒性及び平滑性を付与できるポリウレタン系弾性繊維用処理剤及びポリウレタン系弾性繊維の処理方法を提供する。 - 特許庁

When the vector control is carried out to drive a motor 17 of the washing machine via an inverter circuit 12, a calculation process to perform the vector control and a control process concerning an input operation or the like for the washing machine 41 are carried out by a single microcomputer 54 which has a processing power of 50MIPS.例文帳に追加

洗濯機のモータ１７を、インバータ回路１２を介して駆動するためベクトル制御を行う場合に、ベクトル制御を行うための演算処理と、洗濯機４１の入力操作などに関する制御処理とを５０ＭＩＰＳの処理能力を備える単一のマイコン５４で行うように構成する。 - 特許庁

A mesh data preparation processing part 200 executes a process for preparing offset plane or neutral plane data of each part and a process for preparing the mesh data of the offset plane or neutral plane data of each the part based on the structural information of the object including the plurality of parts to produce the mesh data for the numerical simulation.例文帳に追加

メッシュデータ作成処理部２００は、複数の部品を含む解析対象物の構造情報に基づき、各部品のオフセット面または中立面データを作成する工程、および各部品のオフセット面または中立面データのメッシュデータを作成する工程を実行し、数値シミュレーション用のメッシュデータを作成する。 - 特許庁

To provide an image-forming apparatus which executes a process so as not to result in abnormal operation or an abnormal image by performing exclusive control for executing a process by software so that resources of a PCI bus will not exceed 100%, for conducting the resource management of the PCI bus by a collective method, without depending on the configuration and a processing method of the image-forming apparatus.例文帳に追加

画像形成装置の構成、処理方式によらず、ＰＣＩバスのリソース管理を一括した方式で行うために、ＰＣＩバスのリソースが１００％を越えないようにソフトにてプロセスの実行を排他制御することで、異常動作、異常画像とならないように処理する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Then, when drawing processing is completed and printing start request is made to an engine part 108, start of the image formation process of MYK of a plane of color where drawing point discrimination is performed and a plane of a color used by the stamp pattern is performed by the engine part 108, synchronized with the imaging process operation of the engine part 108, and the data are printed and outputted.例文帳に追加

そして、描画処理が完了し、エンジン部１０８に印刷起動を行う際、描画点判別された色のプレーンとスタンプパターンが使用する色のプレーンのＭＹＫの作像プロセス起動をエンジン部１０８で行い、エンジン部１０８の作像プロセス動作に同期させて印刷出力する。 - 特許庁

To improve the even speed characteristic of a helper roll by composing a control device of a helper roll having an entering side roll, exiting side roll, and helper roll and processing a strip-shaped process material in such a manner as preventing the unbalanced tension of a process material between each roll caused by a rotational speed difference between each roll on acceleration and deceleration of each roll.例文帳に追加

入側ロール、出側ロール、ヘルパロールを備え、帯状の被処理材のプロセス処理するヘルパロールの制御装置の構成を各ロールの加減速時に各ロールの回転速度に差が生じて、各ロール間で被処理材の張力がアンバランスになることを防止し、ヘルパーロールの揃速性を向上させる。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly for exposure at a short wavelength, that is, has high transparency and the optimum n and k values and is excellent also in etching resistance during substrate processing.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

Among combinations of numbers of horizontal and vertical pixels that the processing parts support, a combination that is one size greater than the numbers of horizontal and vertical pixels of the source of video signals is used, whereby a process is performed while one-to-one dot correspondence is maintained without extra expansion/contraction during the process.例文帳に追加

上記課題を解決するために、処理部がサポートしている水平及び垂直画素数の組み合わせのうち、映像信号源の水平及び垂直画素数よりも一回り大きものを使用することで、途中余分な拡大・縮小をすることなく１対１のドット対応維持したまま処理を行う。 - 特許庁

The method of cleaning a semiconductor manufacturing apparatus having a process chamber for processing silicon wafers is characterized in that the process chamber interior is heat treated in a halogenous gas atmosphere, then in a reductive gas atmosphere and finally in an oxidative gas atmosphere.例文帳に追加

シリコンウェハに加工処理を施す加工処理室を具備する半導体製造装置のクリーニング方法であって、前記加工処理室内を、ハロゲン系ガス雰囲気下で熱処理し、次いで還元性ガス雰囲気下で熱処理した後に、酸化性ガス雰囲気下で熱処理することを特徴とする半導体製造装置のクリーニング方法である。 - 特許庁

To provide a discharge plasma processor and a processing method using the same which continuously and stably generates a uniform glow discharge plasma substantially under the atmospheric pressure to form a thin film, using not only a single process gas but a plurality of process gases, and can deal with complicated processes in etching, ashing steps, etc.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a spin chuck horizontally holding a substrate W without contacting with an upper surface and a lower surface of the substrate W, a process liquid supply mechanism supplying the process liquid to the upper surface and the lower surface of the substrate W held by the spin chuck, and an annular member 4 enclosing the substrate W held by the spin chuck.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗの上面および下面に非接触で当該基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板Ｗの上面および下面に処理液を供給する処理液供給機構と、スピンチャックに保持された基板Ｗを取り囲む環状部材４とを備えている。 - 特許庁

To obtain an impurity diffusion processing method in a semiconductor element manufacturing process which forms a uniform impurity diffusion layer and can carry on an impurity diffusion process high in performance and a yield, an impurity diffusing device for use in the same method, and a semiconductor element containing a solar cell, etc., high in a yield.例文帳に追加

均一な不純物拡散層を形成し、性能や歩留まりの高い不純物拡散処理が可能な半導体素子製造工程における不純物拡散処理方法および同方法に用いる不純物拡散装置、並びに、歩留まりの高い太陽電池等を含む半導体素子を得ること。 - 特許庁

When coding processing is carried out by detecting a prediction mode that is suitable for intra-prediction from optimal prediction modes detected, on the basis of different predictive value generation units, one optimal prediction mode detection process is utilized for another optimal prediction mode detection process, thereby detecting an optimal prediction mode, on the basis of these different predictive value generation units.例文帳に追加

本発明は、異なる予測値生成単位で検出される最適予測モードからイントラ予測に適した予測モードを検出して符号化処理する際に、一方の最適予測モード検出処理を他方の最適予測モード検出処理に利用して、これら異なる予測値生成単位による最適予測モードを検出する。 - 特許庁

To provide a method for processing an opening groove of a straw package which can be easily set in a conventional line process as an additional process, executed at a low cost, reliably perform the sealed packaging even in ice water, and easily take out a straw from a packaging bag when it is used.例文帳に追加

本発明は従来のライン工程に追加工程として簡単に設定できると共にローコストで実施でき、且つ、氷水の中でも密閉包装が確実で且つ使用時には包装袋からストローを容易に取出すことができるストロー包装体の開封溝加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an extruder designed to save energy and reduction in carbon dioxide emission in a low-carbon type material processing process, in particular a polymer forming process including compounding and granulation, having high pressurization extrusion capacity and kneading dispersion performance and excellent feed performance and vent performance and achieving advanced energy-saving and compact characteristics.例文帳に追加

低炭素型材料加工プロセス、特にコンパウンドや造粒を始めとするポリマー加工プロセスの省エネと二酸化炭素排出量低減を図れるように考案した、昇圧押出能力と混練分散性能が共に高く、フィード性能とベント性能が共に優れ、高度な省エネとコンパクトの性格を有する押出機を提供する。 - 特許庁

To provide an etching protective material, along with a manufacturing method of a device substrate that uses the material, which provides by a method of simple and low cost, all of high resistance with respect to an etchant (alkaline and acid), heat resistance during processing, proper adhesion to a wafer applied with etching process, and ease in removing, after etching process.例文帳に追加

簡便かつ安価な方法により、エッチング液（アルカリおよび酸）に対する良好な耐性、加工時の耐熱性、エッチング処理を施すウェハへの良好な密着性およびエッチング処理後の易除去性のすべてを兼ね備えるエッチング保護材およびその保護材を用いたデバイス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Isolation 104A in a printer driver 100A selects whether the printing process is to be separated from a spooler process according to input of user's operation through UI 101A, performs processing concerned with the setting of Isolation in an OS 500 and stores Isolation setting information concerned with the setting of the Isolation in a driver setting storage part 103A and a setting storage part 400.例文帳に追加

プリンタドライバ１００ＡのIsolation１０４Ａは、ＵＩ１０１Ａを介してユーザの操作入力に応じて、印刷プロセスをスプーラプロセスから分離するか否かを選択して、ＯＳ５００のIsolationの設定に関する処理を行い、Isolationの設定に関するIsolation設定情報をドライバ設定保存部１０３Ａ及び設定保存部４００に記憶させる。 - 特許庁

The method of manufacturing a rare earth anisotropic magnet includes the steps of: using R-Fe-B-based rare earth magnet powder as a raw material, wherein R is at least one of the rare earth elements including Y; and, during processing the powder through the HDDR process, pulverizing the HD-processed powder and then conducting the DR process to the powder.例文帳に追加

Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石粉末（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種）を原料とし、これにＨＤＤＲ処理を行なう際に、ＨＤ処理後の粉末を粉砕した後にＤＲ処理を行なうことを特徴とする希土類異方性磁石の製造方法。 - 特許庁

To provide a photo ordering program and a photo ordering system whereby a required retry process can surely be carried out by preventing a work mistake in retrying process works and the work efficiency of the entire processing processes in a large lab can be enhanced by averaging loads of each of the processes.例文帳に追加

工程作業のやり直しの際に作業ミスを防止して必要なやり直し工程を的確に行うことができ、また各工程の負荷を平均化して大ラボ内における処理工程全体の作業効率を向上させることのできる写真受注プログラム及び写真注文システムを提供する。 - 特許庁

In step S1, a defect detection processing for extracting the ordinates of a new defect and a detection size by a prescribed process is performed, after a prescribed process by using an area reducing function of an inspection device, and in step S3, existence of a new defect is determined in chip unit by a discrimination condition validating all detected new defects.例文帳に追加

ステップＳ１で、検査装置の面積縮小機能を用いて所定の工程後に所定の工程による新規欠陥の座標及び検出サイズを抽出する欠陥検出処理を行い、ステップＳ３で、検出されたすべての新規欠陥を有効とする識別条件で新規欠陥の有無をチップ単位に判定する。 - 特許庁

The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜３と帯電防止膜５との間に中間膜４を形成する工程と、基板試料１に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料１に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料１に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

The method for producing the negative ionic powder is constituted by a ceramicizing step of mixing at least zirconium oxide, silica, phosphoric acid, and tourmaline which are pulverized to one micron or less and firing the resulting mixture to process it into ceramics and a powder processing step of pulverizing the ceramics formed in the ceramicizing step to several microns or less to process them into a negative ionic powder.例文帳に追加

１ミクロン以下に粉砕した少なくとも酸化ジルコニウム、シリカ、リン酸、トルマリンを混合し、焼成してセラミックスに加工するセラミックス化工程と、このセラミックス化工程でできたセラミックスを数ミクロン以下に粉砕してマイナスイオンパウダーに加工するパウダー加工工程とでマイナスイオンパウダーの製造方法を構成している。 - 特許庁

To provide magnetic toner, an image forming method, and a process cartridge that can suppress a decrease in picture quality such as a blotch and a fog, a decrease in developing performance, a photoreceptor flaw, and in-machine scatter of magnetic toner even when a large-capacity process cartridge with increased processing speed and an increased amount of toner to be charged in a developing unit is used.例文帳に追加

プロセススピードを上げたり、現像器内へのトナー充填量を増加させた大容量プロセスカートリッジを使用した場合においても、ブロッチ、カブリなどの画質の低下や現像性の低下、感光体傷、磁性トナーの機内飛散を抑制することができる磁性トナー、画像形成方法ならびにプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

A buffer memory/combining processing control section 5-23 controls the switching section and the buffer memory and performs control so as not to combine the reception data of a process number protruded out of the IR buffer, to fixedly key the process number protruded out of the IR buffer and to combine only the reception data in which CRC errors are detected.例文帳に追加

バッファメモリ・合成処理制御部５−２３は、スイッチ部及びバッファメモリを制御し、ＩＲバッファからはみ出すプロセス番号の受信データは合成しない、或いはＩＲバッファサイズからはみ出すプロセス番号を決め打ちせず、ＣＲＣ誤りを検出した受信データのみを合成するよう制御する。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus in which processes such as development, bleaching, fixing and cleaning are carried out by introducing a photosensitive material such as photographic paper into tanks and immersing the material in process liquids and process time is reduced by applying ultrasonic waves, and in particular, to prevent peeling at an end portion of the photosensitive material by the ultrasonic waves.例文帳に追加

印画紙などの感光材料が槽内に取込まれ、処理液に浸漬されることで、現像・漂白・定着・洗浄などの処理を行い、超音波を加えることで、処理時間を短縮するようにした処理槽であって、前記超音波による感光材料の端部の剥がれを防止する。 - 特許庁

An apparatus for detecting the termination of the process includes a detecting means for detecting the frequency of the high-frequency power supplied to the plasma treatment apparatus 1, and an operation processing means for analyzing detected frequency data and judging the termination of the process on the basis of the rate of change of the oscillation frequency.例文帳に追加

また、プロセス終了検出装置は、プラズマ処理装置（１）に供給される高周波電力の発振周波数を検出する周波数検出手段と、検出された周波数データを解析し且つ発振周波数の変化率に基づいてプロセスの終了を判別する演算処理手段とを備えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a flexible joint pipe having a resin-covering layer on the inside surface, capable of enhancing the production efficiency and suppressing the cost by eliminating a pre-processing to elongate the pipe wall prior to the powder coating or baking process and also enhancing the quality of the resin-covered layer formed by the powder coating process.例文帳に追加

内面に樹脂被覆層を有する可撓性継手管の製造方法において、粉体塗装又は焼付処理前に管壁を伸長させる前加工を不要にすることによって、生産効率の向上とコスト安を図り、併せて、粉体塗装によって形成した樹脂被覆層の品質を向上させる。 - 特許庁

When forming, for example, the surface of a lower electrode for a capacitor on the surface of a semiconductor wafer W which is an object to be processed, a process of depositing a HSG polysilicon film (rugged polysilicon film) 16 non-selectively and a process of doping an impurity such as phosphorus into the polysilicon film are conducted continuously in one and the same processing container 28.例文帳に追加

被処理体である半導体ウエハＷの表面に例えばキャパシタ用の下部電極の表面を形成する場合、非選択でＨＳＧポリシリコン膜（ラグドポリシリコン膜）１６を堆積させる工程と、このポリシリコン膜中に不純物、例えばリンをドープさせる工程とを、同一の処理容器２８内で連続的に行なう。 - 特許庁

The manufacturing (processing) method of the nozzle plate for an inkjet head has the process of preparing the nozzle plate which has the ink repellent layer 2 formed on a surface of the side where the ink is ejected in the nozzle plate 1 with the ink ejection ports 1a formed on a substrate, and, for example, the following processes succeeding the process.例文帳に追加

基板にインク吐出口１ａを形成してなるノズルプレート１におけるインクが吐出する側の面に、撥インク層２が形成されたノズルプレートを準備する工程と、この工程に続けて、例えば以下の工程を有することを特徴とするインクジェットヘッド用のノズルプレートの製造（加工）方法。 - 特許庁