「process resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

Ultimately, the dispute was settled through bilateral negotiations outside the WTO process, but the fact that the matter was referred to WTO dispute settlement procedures and that negotiations took place before the international community was integral to achieving a resolution in conformity with international norms and to preventing a trade war.例文帳に追加

本件は最終的にはWTOにおける協議とは別に行われた二国間協議によって決着が図られたが、紛争がWTOに付託され、国際社会の監視の下で協議されたことは、貿易戦争を回避しつつ国際ルール整合的な決着を図る上で大きな効果があったと言えよう。 - 経済産業省

(v) where a patent has been granted for an invention of a process, acts of producing, assigning, etc., importing or offering for assignment, etc. any product (excluding those widely distributed within Japan) to be used for the use of the said process and indispensable for the resolution of the problem by the said invention, knowing that the said invention is a patented invention and the said product is used for the working of the invention as a business; 例文帳に追加

五　特許が方法の発明についてされている場合において、その方法の使用に用いる物（日本国内において広く一般に流通しているものを除く。）であつてその発明による課題の解決に不可欠なものにつき、その発明が特許発明であること及びその物がその発明の実施に用いられることを知りながら、業として、その生産、譲渡等若しくは輸入又は譲渡等の申出をする行為 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To solve the problems such as the decrease in a pattern resolution which may occur during the forming of second and later layers when a multi- layer circuit board is manufactured by an ordinary MCM-D process and the decrease in the flatness of the layer and to achieve the purpose at a low cost without necessitating a polishing process or the like in a damascene method.例文帳に追加

多層回路基板の製造方法に関し、通常のＭＣＭ−Ｄプロセスで多層回路基板を作製するに際し、第２層以後の作製時に発生するパターン解像度の低下や各層に於ける平坦性低下の問題を解消し、ダマシン法に於ける研磨プロセスなどを必要とすることなく、低コストで目的を達成しようとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board by an electrophotographic process which not only has easy resist stripping characteristics by including the inner wall of a through hole and/or a non-through hole even if the wiring board is manufactured by the electrophotographic process, but also can realize a high resolution in an etching step as compared with a conventional photoresist material.例文帳に追加

電子写真法によるプリント配線板の製造を行うに際しても、貫通孔または／及び非貫通孔の内壁を含めた容易なレジスト剥離特性を有するだけでなく、従来のフォトレジスト材料よりもエッチング工程における高解像力をも実現することが可能な、電子写真法によるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When an intermediate code image data interpreting part 31 interprets the intermediate code image data to perform a rendering process, if the color designation on/off information is set to invalidate the color information, attribute information including the black information for the process of enhancing resolution is written into a band buffer 14 while no color information is written into it.例文帳に追加

中間コード画像データ解釈部３１で中間コード画像データを解釈してレンダリング処理を行う際に、色指定有効／無効情報が色情報を無効とする設定の場合、高解像度化処理のための黒色の情報を含む属性情報をバンドバッファ１４に書き込み、色情報については書き込まない。 - 特許庁

This method consists of a process in which a first device 11 continuously transmits a dummy packet of an ARP(address resolution protocol) packet to a second device 12 in an interval shorter than a gap between minimum packets, and a process in which the first device 11 decides which the second device 12 is between full duplex and semi duplex by detecting the existence/ nonexistence of a collision.例文帳に追加

本方法は、第１の装置１１が、第２の装置１２に対して、最小パケット間ギャップよりも短い間隔でＡＲＰパケットのダミーパケットを連続的に送信する過程と、第１の装置１１がコリジョンの有無を検出することにより、第２の装置１２が全二重又は半二重の何れであるかを判定する過程と、からなる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an easy-to-manufacture droplet discharge head which can be miniaturized while attaining high resolution by achieving formation of nozzles at high density and fine pitch wiring incident thereto, and to provide a droplet discharge head manufactured through this process, and a droplet discharge device equipped with that droplet ejection head.例文帳に追加

製造しやすい上に、ノズルの高密度化と、それに伴う微細ピッチ配線の形成を実現可能にして高解像度化が図れ、かつ小型化も図れる液滴吐出ヘッドの製造方法と、その製造方法によって製造される液滴吐出ヘッドと、その液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of performing a dither process on image data using the dither matrix having the most suitable resolution for the image data subjected to a zoom process; an image processing apparatus for executing the method; an image forming apparatus having the image processing apparatus; a computer program for causing a computer to execute the method; and a recording medium in which the computer program is recorded.例文帳に追加

変倍された画像データに最適な線数を有するディザマトリクスを用いて画像データに対するディザ処理を実行することができる画像処理方法、該方法を実行する画像処理装置、該装置を備える画像形成装置、コンピュータに前記方法を実行させるためのコンピュータプログラム及び該コンピュータプログラムを記録してある記録媒体を提供する。 - 特許庁

To control an ink liquid drop with high accuracy by a highly accurate manufacturing process where not only the ejection pressure source but also the nozzle structure, the pressure chamber, the ink supply passage, and the like, are designed optimally in order to realize a high resolution, high speed printer having a small multihead nozzle in ink jet recording according to a conventional manufacturing process.例文帳に追加

従来の製造工程によれば、インクジェット記録において小型、マルチノズルヘッドを有した高解像度、高速プリンタを実現するためには、吐出圧力源だけでなく、ノズル構造、圧力室、インク供給路などが最適設計され、精度の良い製造方法によりインク液滴を精度良く制御することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist polymer which has high sensitivity and resolution and causes only a small number of defects and a small degree of line edge roughness upon development, when used for a resist composition in DUV excimer laser lithography or electron beam lithography, its manufacturing process, a resist composition containing the resist polymer and a patterning process using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト用組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト用組成物、および、このレジスト用組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

The disclosed method subjects each of the frames in the input image to image composition including conversion, cutout, and expansion, by use of the conversion matrix of each frame generated by the generation process of the conversion matrix, the cutout area identified by the identification process of the cutout area, and the resolution of the input image.例文帳に追加

また、開示の方法は、変換行列を生成する処理により生成されたフレームごとの変換行列と、切り出し領域を特定する処理により特定された切り出し領域と、入力映像の解像度とを利用して、入力映像におけるフレームのそれぞれに対して変換、切り出し及び拡大を含む画像合成を行う。 - 特許庁

The image processing part 36 is composed of a first masking part 50 for masking the image data output from an A/D (analog-digital convertor) 35; a PinP processing circuit 51 for executing the resolution conversion process and the PinP process for the masked image data; and a second masking part 52 for masking the image data output from the PinP processing circuit 51 again.例文帳に追加

画像処理部３６は、Ａ／Ｄ３５から出力された画像データに対してマスク処理を施す第１マスク処理部５０と、マスク処理が施された画像データに対して解像度変換処理とＰｉｎＰ処理とを行なうＰｉｎＰ処理回路５１と、ＰｉｎＰ処理回路５１から出力された画像データに対して再度マスク処理を施す第２マスク処理部５２とからなる。 - 特許庁

When a dither pattern emphasizing the gradation and a dither pattern emphasizing the resolution are used for binarization process in an output processing 3008 with respect to image processing, the calibration conducted by way of user's operation before start of print is applied only to the image processing emphasizing the resolution and the calibration conducted not through the user's operation during printing is applied to both the image processing processes.例文帳に追加

画像処理に関して、出力処理３００８における二値化処理について階調性を重視するディザパターンと解像度を重視するディザパターンとが用いられる場合に、印刷開始前にユーザの操作を介して行なうキャリブレーションは、上記解像度を重視する画像処理についてのみ行ない、印刷中にユーザの操作を介さずに自動的に行なうキャリブレーションは、上記二つの画像処理それぞれについて行なう。 - 特許庁

(RS)-α-Methylbenzylamine containing bis(α- methylbenzyl)amine prepared as a by-product in the racemization is used at least as a part of raw material of optical resolution and is fed as a raw material together with new (RS)-α-methylbenzylamine to the following optical resolution process.例文帳に追加

光学分割の結果生成した光学活性なα−メチルベンジルアミンのうち不要な鏡像体を、触媒量の強塩基性ラセミ化剤、好ましくは水素化ナトリウムの存在下にラセミ化し、ラセミ化に際して副生するビス（α−メチルベンジル）アミンを含有する（ＲＳ）−α−メチルベンジルアミンを、光学分割の原料の少なくとも一部として使用し、新鮮な（ＲＳ）−α−メチルベンジルアミンとともに、つぎの光学分割工程に原料として供給する。 - 特許庁

Article 247 Any remuneration to be paid to the person specified by resolution at a Beneficiary Certificate Holders' Meeting as set forth in paragraph (1) of the preceding Article, the costs required for such person to process affairs, the interest that accrues on and after the day of the payment of such costs, and compensation for damages incurred by such person for processing affairs in the absence of negligence shall be borne by the Fiduciary Trust Company, etc. as costs borne in relation to the trust property. 例文帳に追加

第二百四十七条　前条第一項の権利者集会の決議により定められた者に対して与えるべき報酬、その事務処理のために要する費用及びその支出の日以後における利息並びにその事務処理のために自己の過失なくして受けた損害の賠償額は、信託財産に関して負担する費用として受託信託会社等の負担とする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 77 (1) When an investor files an application for resolution of a complaint concerning the business carried out by a Member Firm or a Financial Instruments Intermediary Service Provider, an Authorized Association shall respond to a request for consultation, provide necessary advice to the applicant, investigate the circumstances pertaining to such complaint and notify said Member Firm or Financial Instruments Intermediary Service Provider of the substance and content of such complaint and demand that said Member Firm or Financial Instruments Intermediary Service Provider should process the complaint expeditiously. 例文帳に追加

第七十七条　認可協会は、投資者から協会員又は金融商品仲介業者の行う業務に関する苦情について解決の申出があつたときは、その相談に応じ、申出人に必要な助言をし、その苦情に係る事情を調査するとともに、当該協会員又は金融商品仲介業者に対し、その苦情の内容を通知してその迅速な処理を求めなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 259 (1) When a person such as a customer files an application for resolution of a complaint concerning the Commodity Transactions Brokerage Business carried out by an Association Member, an Association shall respond to a request for consultation, provide the necessary advice to the applicant, investigate the circumstances pertaining to such complaint and demand that said Association Member should notify the details of such complaint and process the complaint expeditiously. 例文帳に追加

第二百五十九条　協会は、委託者等から協会員の行う商品取引受託業務に関する苦情について解決の申出があつたときは、その相談に応じ、申出人に必要な助言をし、その苦情に係る事情を調査するとともに、当該協会員に対し、その苦情の内容を通知してその迅速な処理を求めなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

There can also be cases in which payment and settlement transactions cannot be completed for transactions in process, even if the resolution procedure for failed financial institutions is promptly accomplished. 例文帳に追加

このため、安全確実な決済手段として、金融機関破綻時にも全額保護される預金（以下「決済用預金」という。）を制度として用意すべきである。また、仕掛かり中の決済取引を円滑に結了させるための措置を講じることも必要である。これらの措置により、受取人起動型の決済（口座引落し）においても支払人起動型の決済（口座振込）においても同様の安全性が確保されることとなる。 - 金融庁

To provide a semiconductor inspection device and method that minimize damage to a semiconductor substrate due to illumination light (UV light) in the ultraviolet range thereby achieving inspection or observation using an image of high resolution or resolving power, and achieving efficient inspection etc., using UV light suitable to a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

紫外領域の照明光（ＵＶ光）による半導体基板へのダメージを最小限に抑え、分解能または解像度の高い画像での検査または観察を行うことを可能とし、半導体製造工程に適した効率的なＵＶ光による検査等を行なうことが可能な半導体検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and a process for performing high temporal- and spatial-resolution MR imaging of the anatomy of a patient during intensity modulated radiation therapy (IMRT) to directly measure and control the highly conformal ionizing radiation dose delivered to the patient for the treatment of diseases caused by proliferative tissue disorders.例文帳に追加

増殖性の組織異常によって引き起こされる疾病の治療において、患者へと投与される高度に原体照射的な電離放射線の線量を直接測定して制御するため、強度変調放射線治療（ＩＭＲＴ）の最中に患者の体構造について、高い時間および空間分解能でのＭＲ画像化を実行するための装置およびプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a compound sensitive to radiations including KrF excimer laser, extreme ultraviolet radiations, electron beams and X-rays, which is a nonpolymeric composition sensitive to such radiations, and producible by a simple process without using any metal catalyst, wherein the composition is highly sensitive, has high resolution, high heat resistance and high etching resistance and is soluble to solvents.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物であり、金属触媒を使用することなくかつ簡単な工程で製造できる、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate which yields no residue by development, exhibits high sensitivity and high resolution, has high adhesiveness to a substrate and excellent etching resistance, is developable with a diluted alkali aqueous solution, and produces fine chips of stripped material in a stripping process with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To obtain a modified epoxy resin capable to satisfy a characteristic feature required to form a permanent mask on a film form base material like an FPC (flexible printed circuit) cover lay, particularly simultaneously and fully satisfying photosensitivity, resolution rate, a film forming property, a solder heat resistance, plating resistance and flexibility, a process for its preparation and a photosensitive resin composition.例文帳に追加

ＦＰＣのカバーレイのようなフィルム状の基材上に形成される永久マスクとして要求される特性（特に、光感度、解像度、塗膜性、はんだ耐熱性、耐めっき性、及び可撓性）を同時に十分満足することのできる感光性樹脂組成物を調製できる変性エポキシ樹脂、その製造方法及びその感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Color signals of R, G, and B available through a photographing lens 10 having a phase modulation function for expanding a focal depth and a color imaging element 12 are subject to a deconvolution process using a single restoration filter (restoration gain data) stored in a memory part 24 by a restoration processing part 22 of a restoration processing block 20, for restoring color signals of high resolution.例文帳に追加

被写界深度を拡大する位相変調機能を有する撮影レンズ１０及びカラー撮像素子１２を介して得られるＲ、Ｇ、Ｂの各色信号に対し、復元処理ブロック２０の復元処理部２２は、メモリ部２４に記憶された単一の復元フィルタ（復元ゲインデータ）によるデコンボリューション処理を行うことにより高解像度の色信号に復元する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having good image density, resolution and cleanability even after repeated copying, ensuring low driving torque of a cleaning blade, no burr of the blade and a slight reduction in the thickness of a photosensitive layer and excellent in durability and to provide a method for producing the photoreceptor, an image forming method, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

繰り返しコピーしても画像濃度、解像度及びクリーニング性が良好で、クリーニングブレードの駆動トルクが低く、クリーニングブレードめくれの発生が無く、且つ感光層の膜厚減耗量が少ない耐久性に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体の製造方法、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

Moreover, arraying of high-resolution probes for measuring a minute area, which is difficult in a conventional system, is easily performed by using a semiconductor process, and more detailed analysis, such as accelerating of measurement, and measurement of transient magnetic-field distribution, becomes available with one-dimensional arraying.例文帳に追加

さらに従来方式では難しかった微小領域を測定するための高分解能プローブのアレイ化についても半導体プロセスを用いることで、本装置では容易に実現することができ、一次元アレイ化によって測定の高速化、過渡的な磁界分布測定等、より詳しい解析を行うことを可能とした。 - 特許庁

A load determination/parameter change section 308 reduces the texture determination criterion value to increase the textures when the number of edges counted by the edge number measurement section 307 is larger than the number of maximum edges for which this image processing apparatus can complete a resolution enhancement process per frame within a target processing time.例文帳に追加

そして、負荷判定・パラメータ変更部３０８は、エッジ数計測部３０７によって計数されたエッジの数が、情報処理装置が目標処理時間内に１フレーム分の高解像度化処理を完了可能な最大エッジ数よりも多い場合、テクスチャを増加させるべくテクスチャ判定基準値を減少する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a polymer compound suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加

平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ／水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a signal processing part 40, a restoration process F for generating second image data G2, equivalent to the first image data output from the imaging device 20, when the resolution of the imaging lens 10 is high, is performed on the first image data G1 output from the imaging device 20 by using the restoration coefficient K stored in the coefficient storage part 30.例文帳に追加

信号処理部４０において、撮像素子２０から出力される第１の画像データＧ１に対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データＧ２を生成するような復元処理Ｆを、係数記憶部３０に記憶せしめられる復元係数Ｋを用いて実施する。 - 特許庁

A signal processing part 40 performs a restoration process for generating second image data, equivalent to first image data output from the imaging device 20, when the resolution of the imaging lens 10 is high on the first image data output from the imaging device 20 which has imaged the optical image of an object projected onto the light-receiving surface 21 through the imaging lens 10.例文帳に追加

信号処理部４０が、撮像レンズ１０を通して受光面２１上に投影された被写体の光学像を撮像した撮像素子２０から出力される第１の画像データに対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データを生成するような復元処理を施す。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a three-dimensional ultrasonic photographic system which is capable of obtaining three-dimensional ultrasonic images of an object having a higher level of resolution and frame ratio without adopting a digital scanning conversion process by directly receiving ultrasonic echo signals and focusing them with voxels in a diagnostic region of an object corresponding to respective pixels of an image display device.例文帳に追加

映像表示装置の各画素に対応するオブジェクトの診断領域内のボクセルで超音波のエコー信号を直接受信集束することにより、デジタル走査変換過程を採用することなく、高解像度で且つ高フレーム率を有するオブジェクトの３次元超音波映像が獲得できる３次元超音波撮像システムを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A signal processing part 40 performs a restoration process for generating second image data, equivalent to first image data output from the imaging device 20, when the resolution of the imaging lens 10 is high on the first image data output from the imaging device 20, which has imaged the optical image of an object through the imaging lens 10.例文帳に追加

信号処理部４０が、撮像レンズ１０を通して被写体の光学像を撮像した撮像素子２０から出力される第１の画像データに対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データを生成するような復元処理を施す。 - 特許庁

To provide a X-ray radiographic apparatus capable of performing frequency processing, e.g. smoothing (noise removal) and sharpening (edge enhancement), appropriately depending on the distribution of resolution occurring in the photographing region of a photographing means due to bubbles in the production process and ensuring good diagnostic power.例文帳に追加

撮像手段の撮影領域内に製造工程の気泡などを原因とする解像度の分布が生じていても、平滑化処理（ノイズ除去）、先鋭化処理（エッジ強調）などの周波数処理を、分布に応じて適切に行うことが可能で、良好な診断能を有するＸ線撮影装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high radiation sensitivity and sufficiently high resolution, excels in adhesion to a substrate, a base or an upper layer, suppresses generation of a sublimate during baking in a film forming process, ensures a large development margin, and can be suitably used for forming an interlayer insulation film or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、解像度が十分に高く、基板もしくは下地または上層との密着性に優れ、膜形成工程の焼成時における昇華物の発生が抑制され、且つ現像マージンが大きく、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適に使用できる感放射線樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁