「process resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The polymer and photoresist composition can improve its resolution and process margin, since an activation energy required for the reaction of deprotecting the spirocyclic ketal group is low, and also it is possible to realize a minute pattern since the sensitivity to a baking temperature after its exposure to light is low.例文帳に追加

前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 - 特許庁

Since the rendering process 42 and the postprocess 50 are separated, the image frame sequence can be generated regardless of the specification of the display such as resolution and frame rate of the actually used display.例文帳に追加

レンダリング処理４２と後処理５０とを分離して実行するようにしたので、実際に使用されている表示装置の解像度やフレームレートなどの仕様に依存せずに、所定のフレームレートでレンダリングを実行して画像フレーム列を生成することができる。 - 特許庁

A process for the resolution of a racemic mixture of nucleoside enantiomers of formula 1 (Y is H or F; R is an acyl) that includes the step of exposing the racemic mixture to an enzyme selected from the group consisting of swine hepatic esterase, swine pancreatic lipase and subtilisin.例文帳に追加

式：（式中、Ｙは水素又はフッ素であり、Ｒはアシル基である）のヌクレオシドエナンチオマーの分割方法であって、ブタ肝臓エステラーゼ、ブタ膵臓リパーゼおよびズブチリシンからなる群から選択した酵素を用いてヌクレオシドを処理することを含む方法。 - 特許庁

To solve the problems such as the decrease in a pattern resolution which may occur during the forming of second and later layers when a multi- layer circuit board is manufactured by an ordinary MCM-D process and the decrease in the flatness of the layer and to achieve the purpose at a low cost without necessitating a polishing process or the like in a damascene method.例文帳に追加

多層回路基板の製造方法に関し、通常のＭＣＭ−Ｄプロセスで多層回路基板を作製するに際し、第２層以後の作製時に発生するパターン解像度の低下や各層に於ける平坦性低下の問題を解消し、ダマシン法に於ける研磨プロセスなどを必要とすることなく、低コストで目的を達成しようとする。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an easy-to-manufacture droplet discharge head which can be miniaturized while attaining high resolution by achieving formation of nozzles at high density and fine pitch wiring incident thereto, and to provide a droplet discharge head manufactured through this process, and a droplet discharge device equipped with that droplet ejection head.例文帳に追加

製造しやすい上に、ノズルの高密度化と、それに伴う微細ピッチ配線の形成を実現可能にして高解像度化が図れ、かつ小型化も図れる液滴吐出ヘッドの製造方法と、その製造方法によって製造される液滴吐出ヘッドと、その液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁

This method consists of a process in which a first device 11 continuously transmits a dummy packet of an ARP(address resolution protocol) packet to a second device 12 in an interval shorter than a gap between minimum packets, and a process in which the first device 11 decides which the second device 12 is between full duplex and semi duplex by detecting the existence/ nonexistence of a collision.例文帳に追加

本方法は、第１の装置１１が、第２の装置１２に対して、最小パケット間ギャップよりも短い間隔でＡＲＰパケットのダミーパケットを連続的に送信する過程と、第１の装置１１がコリジョンの有無を検出することにより、第２の装置１２が全二重又は半二重の何れであるかを判定する過程と、からなる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board by an electrophotographic process which not only has easy resist stripping characteristics by including the inner wall of a through hole and/or a non-through hole even if the wiring board is manufactured by the electrophotographic process, but also can realize a high resolution in an etching step as compared with a conventional photoresist material.例文帳に追加

電子写真法によるプリント配線板の製造を行うに際しても、貫通孔または／及び非貫通孔の内壁を含めた容易なレジスト剥離特性を有するだけでなく、従来のフォトレジスト材料よりもエッチング工程における高解像力をも実現することが可能な、電子写真法によるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist polymer which has high sensitivity and resolution and causes only a small number of defects and a small degree of line edge roughness upon development, when used for a resist composition in DUV excimer laser lithography or electron beam lithography, its manufacturing process, a resist composition containing the resist polymer and a patterning process using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト用組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト用組成物、および、このレジスト用組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

The disclosed method subjects each of the frames in the input image to image composition including conversion, cutout, and expansion, by use of the conversion matrix of each frame generated by the generation process of the conversion matrix, the cutout area identified by the identification process of the cutout area, and the resolution of the input image.例文帳に追加

また、開示の方法は、変換行列を生成する処理により生成されたフレームごとの変換行列と、切り出し領域を特定する処理により特定された切り出し領域と、入力映像の解像度とを利用して、入力映像におけるフレームのそれぞれに対して変換、切り出し及び拡大を含む画像合成を行う。 - 特許庁

To provide a positive resist material, particularly a chemically amplified positive resist material, having higher sensitivity, resolution, exposure latitude and process adaptability than a conventional positive resist material, ensuring a good pattern shape after exposure and exhibiting excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A printing device 100 is designed to perform the half-tone process with resolution maintained from the time of input while referencing a table called a black data table about a portion if there is a black and white edge portion to be configured only by black color and white color in an input image.例文帳に追加

印刷装置１００は、入力画像の中に白色と黒色のみで構成される白黒エッジ部分があれば、その部分については、黒データテーブルと呼ばれるテーブルを参照しつつ入力時の解像度を保ったままハーフトーン処理を行う。 - 特許庁

By appropriately selecting the interval and thickness of a resist pattern, a fine pattern having a three-dimensional height or a fine pattern having a pattern width equal to or smaller than the resolution of exposure light can be formed in a single lithographic process.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and adhesiveness, and giving a pattern having excellent heat resistance, low water absorption and a good pattern shape even when used in a low-temperature curing process at ≤280°C, a method for producing a pattern, and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、接着性に優れ、さらに２８０℃以下で行なわれる低温硬化プロセスで用いても耐熱性に優れ、吸水率の低い、良好な形状のパターンが得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

For first image data output from the imaging device 20, a signal processing section 40 performs such a recovering process F as creating second image data G2 equivalent to the first image data output from an imaging device 20 when the resolution of the imaging lens 10 is high.例文帳に追加

信号処理部４０が、撮像素子２０から出力される第１の画像データに対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データを生成するような復元処理を施す。 - 特許庁

To manufacture a toner having a small particle size that is effective in obtaining higher definition and higher resolution of an image without increasing the consumption of a water-soluble dispersant, that is, without increasing the frequency of cleaning works after toner granulation in the process of manufacturing a toner by a melt emulsification.例文帳に追加

溶融乳化法においてトナーを製造するに際し、水溶性分散剤の使用量の増加ひいてトナー造粒後の洗浄作業回数の増大を伴うことなく、画像の高精細化、高解像度化に有効な小径化されたトナーを製造する。 - 特許庁

To provide a superior light emitting element which can realize such a light picking-up function that realizes particularly high spatial resolution with a device which has a small size, a light weight, and a high environmental resistance, does not consume much electric power, and is manufactured through a monolithic process and a condensing element.例文帳に追加

特に高い空間分解能を実現する光ピッキングアップ機能を、モノリシック工程で作製された小型・軽量、低消費電力、高耐環境性の装置で実現できる、優れた発光素子及び光集積素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming wiring partitions having sufficient resolution, wide exposure margin, and excellent flattening performance, maintaining high transparency even when being passed through a high temperature heating process and hardly secularly deteriorating metal wiring.例文帳に追加

十分な解像度を持ち、露光マージンが広く、平坦化性能に優れ、高温の加熱工程を経ても高い透明性を維持することができ、金属配線を経時劣化することのない配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The coating composition can provide enhanced resolution of a patterned overcoated photoresist layer and includes the use of a low-activation temperature thermal acid generator, as well as, multiple thermal treatment to process a layer of the underlying coating composition.例文帳に追加

本発明の好ましいコーティング組成物および方法は、パターン化されたオーバーコートしたフォトレジスト層の解像度の向上を提供することができ、下地のコーティング組成物の層を処理するため、多重の熱処理と共に低活性化温度熱酸発生剤の使用を含む。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist material having high resolution, wide exposure latitude, a small difference in dimension between thinness and denseness, process adaptability, a good pattern shape after exposure and excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さく疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition superior in photosensitive characteristics and storage stability and high in resolution and good in process stability by incorporating a specified triaryl-feldazyl compound and a specified titanocene compound and an additionally polymerizable compound.例文帳に追加

優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物および感光材料、優れた耐熱性、密着性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide the method for manufacturing the polymer toner low in fixing temperature, usable for high speed printing, suitable for a color toner, high in offset temperature, superior in storage stability, and high in resolution by using an aqueous dispersion polymerization process.例文帳に追加

本発明の目的は、低い定着温度をもち、あるいは高速印字に対応でき、カラートナーに好適で、かつ、オフセット温度の高い、保存性に優れ、更に、高解像度に対応できる水系分散体を用いた重合トナーの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction device which has exceedingly high resolution and also can acquire an X-ray diffraction image with high intensity, by enabling both cylindrical surface conversion processing and time delay integration processing to be performed in the same arithmetic control process.例文帳に追加

円筒面変換処理と時間遅延積分処理との両方を同じ演算制御過程内で行うことを可能にすることにより、極めて分解能が高く、しかも強度の高い回折Ｘ線像を得ることができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which has superior resolution and excellent line edge roughness, the positive photoresist composition being a photosensitive composition used for a process of manufacturing a semiconductor such as an IC, manufacture of liquid crystal, the circuit board of a thermal head, etc., other photofabrication processes, etc.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、解像力に優れ、且つ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition not only excellent in performances such as sensitivity, heat resistance and resolution, but in particular, significantly improved in storage stability at a normal temperature and transmittance, and suitable for forming an interlayer insulating film for the process of manufacturing a LCD.例文帳に追加

感度、耐熱性、解像度などの性能が優れているだけでなく、特に常温貯蔵安定性及び透過率を顕著に向上させてＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成するのに適合した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having excellent resolution while maintaining high sensitivity specific to a chemically amplified resist in the process of forming a pattern by irradiation with active energy rays, and to provide a method for producing a relief pattern, and electronic components using the resist composition.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によるパターン形成において、化学増幅レジスト特有の高感度を維持しつつ解像力に優れるネガ型レジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

When a dither pattern emphasizing the gradation and a dither pattern emphasizing the resolution are used for binarization process in an output processing 3008 with respect to image processing, the calibration conducted by way of user's operation before start of print is applied only to the image processing emphasizing the resolution and the calibration conducted not through the user's operation during printing is applied to both the image processing processes.例文帳に追加

画像処理に関して、出力処理３００８における二値化処理について階調性を重視するディザパターンと解像度を重視するディザパターンとが用いられる場合に、印刷開始前にユーザの操作を介して行なうキャリブレーションは、上記解像度を重視する画像処理についてのみ行ない、印刷中にユーザの操作を介さずに自動的に行なうキャリブレーションは、上記二つの画像処理それぞれについて行なう。 - 特許庁

A system control section 112 sets a plurality of focus detection areas according to the size of a resolution area to an image area stipulated by the image data including a subject image when a focal position for a focus lens 104 is detected by setting a blur area for applying a blur process to an image area stipulated by the image data including the subject image and a resolution area for not applying the blur processing.例文帳に追加

システム制御部１１２は被写体像を含む画像データで規定される画像領域に対してぼかし処理を施すぼかし領域とぼかし処理を施さない解像領域とを設定して、フォーカスレンズ１０４の合焦位置を検出する際、被写体像を含む画像データで規定される画像領域に、解像領域の大きさに応じて複数の焦点検出領域を設定する。 - 特許庁

Article 52-72 When a customer of the Member Bank files an application for the resolution of a Complaint Related to Banking Services, a Designated Dispute Resolution Organization shall respond to the request for consultation, provide necessary advice to the customer, investigate the circumstances pertaining to such Complaint Related to Banking Services, notify said Member Bank of the substance and content of such Complaint Related to Banking Services, and demand that said Member Bank process the complaint expeditiously. 例文帳に追加

第五十二条の七十二　指定紛争解決機関は、加入銀行の顧客から銀行業務関連苦情について解決の申立てがあつたときは、その相談に応じ、当該顧客に必要な助言をし、当該銀行業務関連苦情に係る事情を調査するとともに、当該加入銀行に対し、当該銀行業務関連苦情の内容を通知してその迅速な処理を求めなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide an image processing method capable of performing a dither process on image data using the dither matrix having the most suitable resolution for the image data subjected to a zoom process; an image processing apparatus for executing the method; an image forming apparatus having the image processing apparatus; a computer program for causing a computer to execute the method; and a recording medium in which the computer program is recorded.例文帳に追加

変倍された画像データに最適な線数を有するディザマトリクスを用いて画像データに対するディザ処理を実行することができる画像処理方法、該方法を実行する画像処理装置、該装置を備える画像形成装置、コンピュータに前記方法を実行させるためのコンピュータプログラム及び該コンピュータプログラムを記録してある記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

The image processing part 36 is composed of a first masking part 50 for masking the image data output from an A/D (analog-digital convertor) 35; a PinP processing circuit 51 for executing the resolution conversion process and the PinP process for the masked image data; and a second masking part 52 for masking the image data output from the PinP processing circuit 51 again.例文帳に追加

画像処理部３６は、Ａ／Ｄ３５から出力された画像データに対してマスク処理を施す第１マスク処理部５０と、マスク処理が施された画像データに対して解像度変換処理とＰｉｎＰ処理とを行なうＰｉｎＰ処理回路５１と、ＰｉｎＰ処理回路５１から出力された画像データに対して再度マスク処理を施す第２マスク処理部５２とからなる。 - 特許庁

Since difference is hard to be generated in image quality even when expanding or reducing according to resolution of a display device and an output device to process as the vector data, smooth and high-definition display and output becomes possible in comparison with the case of transmitting image data.例文帳に追加

ベクトルデータとして処理するために、表示装置や出力装置の解像度に合わせて拡大、縮小しても画質に差異が生じにくいために、異なるコンピュータを用いる場合であっても、イメージデータを送信する場合に比べて滑らかで高品位な表示及び出力が可能となる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The device also compares, with a reference value, a statistical value based on an n-th order center moment (where n denotes an integer equal to or more than 2) of a specific color component of a measurement value obtained by measuring the color of the patch image with the spatial resolution, thereby detecting a color irregularity being caused by the specific process.例文帳に追加

また、当該空間分解能でパッチ画像を測色して得た測色値の特定の色成分におけるｎ次（ｎは２以上の整数）の中心モーメントに基づく統計値と基準値との比較により、当該特定のプロセスに起因する色むらがパッチ画像に生じたことを検出する。 - 特許庁

In a signal processing section 40, using the restoration coefficient K, a restoring process F is performed for the first image data G1 so as to generate second image data G2 equivalent to the first image data output from the imaging element 20 when the resolution of the imaging lens 10 is higher.例文帳に追加

信号処理部４０において、第１の画像データＧ１に対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データＧ２を生成するような復元処理Ｆを、復元係数Ｋを用いて実施する。 - 特許庁

To provide a method for patterning in microfabrication of a thin film formed of zinc oxide crystal without generating significant deterioration of conductive characteristics and visible light permeability by suppressing resolution of the thin film formed of the zinc oxide crystal in any process of development and photoresist peeling.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming conductive pattern in which a high-resolution conductive pattern having a conductivity and durability can be obtained without requiring complicated process and an expensive apparatus, even when it is applied to the formation of an interconnection, etc. which is used for a plurality of different materials.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

the values of the critical dimensions of the die can be obtained from a scan image of low resolution obtained at a relatively high scanning speed, so the method can obtain values of critical dimensions of respective dies in the whole wafer within an acceptable inspection time to monitor uniformity of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

ダイの限界寸法の値は、相対して高いスキャン速度により得られる低解像度の走査像から得られるので、上述の方法は、受け入れ可能な検査時間内で、ウェハ全体中の各ダイの限界寸法の値を得て、半導体製造プロセスの均一性を監視することができる。 - 特許庁

In the case that the print process starts ("Y" at a step 6), character interval for printing an delivery form 13 is calculated from the setting information and resolution of a printing device 5 (a step S7), and character string is printed in a respective cell area 14 with the character interval (steps S8, S9).例文帳に追加

印刷処理が開始されると（ステップＳ６で「Ｙ」）、上記設定情報と印字装置５の解像度とから納付書１３上での印字用の文字間隔が算出され（ステップＳ７）、その文字間隔で文字列がそれぞれの升目領域１４に印字される（ステップＳ８，Ｓ９）。 - 特許庁

In the process for optimizing the recording condition before the main recording to the optical recording medium, when the resolution of a pickup head at the reproduction is higher than that of the pickup head at the time of recording, a waveform equivalent coefficient is set to be higher than the value determined in the specification, at the time of judging the recording condition.例文帳に追加

光記録媒体への本記録前の記録条件最適化プロセスにおいて、記録時のピックアップヘッドよりも再生時のピックアップヘッドの方が解像力が高い場合には、記録条件判定時に波形等価係数を規格で定められた値よりも高く設定する。 - 特許庁