「process resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition which ensures satisfactory surface curability and curing depth during exposure and can form a colored pattern excellent in resolution even when a thick colored pattern is formed by a photography process, and the cured material of the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material which enables recording of an image without necessitating image exposure through the intermediary of a complicated film and which has plate wear resistance and excels in sensitivity and resolution, and a manufacturing method thereof, and to provide an image forming method wherein the image is printed after recorded, without conducting a wet development process.例文帳に追加

複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度及び解像度に優れた平版印刷版材料及びその製造方法の提供、又、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。 - 特許庁

The device also compares, with a reference value, a statistical value based on an n-th order center moment (where n denotes an integer equal to or more than 2) of a specific color component of a measurement value obtained by measuring the color of the patch image with the spatial resolution, thereby detecting a color irregularity being caused by the specific process.例文帳に追加

また、当該空間分解能でパッチ画像を測色して得た測色値の特定の色成分におけるｎ次（ｎは２以上の整数）の中心モーメントに基づく統計値と基準値との比較により、当該特定のプロセスに起因する色むらがパッチ画像に生じたことを検出する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which it is possible to form a high resolution resist pattern with low line edge roughness, and which is used as an upper layer resist of a two layer resist process and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

低ラインエッジラフネスで、高解像度なレジストパターンを形成することが可能となり、２層レジストプロセスの上層レジストとして用いることができる感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive member having a stable conductive characteristic in various kinds of the environment (a high temperature and a high humidity to a low temperature and a low humidity), a process cartridge, and an electrophotography using the conductive member, in the electrophotography of high resolution and high speed.例文帳に追加

高解像度や高速の電子写真装置において、種々の環境（高温高湿から低温低湿）においても安定した導電特性を有する導電性部材、それを用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of a circuit pattern capable of forming a high resolution resist pattern by efficiently removing the resist on the surface of a substrate, wherein resist peeling speed is high when a resist peeling process using ozone water is carried out.例文帳に追加

オゾン水を用いたレジスト剥離工程を行う場合に、レジスト剥離速度が速く、基板表面のレジストを高効率に除去することにより、高解像度のレジストパターンを形成することが可能な回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

When it is judged that a printing process is not finished in the set time by the original data, printing data is generated by converting color data to monochromic data (S308 or S309) or decreasing a resolution (S311 or S307), thereby reducing the quantity of data.例文帳に追加

元のデータでは設定時間内に印刷処理が終了しないとの判定がなされるとカラーデータをモノクロデータへ変換（Ｓ３０８、Ｓ３０９）したり、解像度の低減（Ｓ３１１、Ｓ３０７）を行い、データ量を削減して印刷データを生成する。 - 特許庁

To provide an electron microscope of which, the problem of deterioration of vacuum in a mirror body caused by gas, and drift of sample resulting from the elongation of a heater by heating, which occurs in real-time observation of a reaction process of the sample with the gas in heating are solved, capable of observing with high resolution.例文帳に追加

電子顕微鏡で試料の加熱時のガスとの反応過程をリアルタイムで観察する際に起こる、ガスによる鏡体内の真空の悪化や、加熱によるヒーターの伸びからくる試料ドリフトを解決し、高分解能観察を可能にする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having good resolution and also having very good dry peelability in a dry peeling process by a means such as a peeling tape without using a peeling liquid when a resist material used in copper planting or bump formation on a substrate such as a wafer is peeled.例文帳に追加

ウエハ上などの基材上に銅めっきやバンプ形成に用いられるレジスト材料を剥離する際に、剥離用液体を用いないで、剥離テープなどの方法によるドライ剥離法において、極めてドライ剥離性が良好であり、かつ解像度が良い感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

In a signal processing section 40, using the restoration coefficient K, a restoring process F is performed for the first image data G1 so as to generate second image data G2 equivalent to the first image data output from the imaging element 20 when the resolution of the imaging lens 10 is higher.例文帳に追加

信号処理部４０において、第１の画像データＧ１に対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データＧ２を生成するような復元処理Ｆを、復元係数Ｋを用いて実施する。 - 特許庁

By appropriately selecting the interval and thickness of a resist pattern, a fine pattern having a three-dimensional height or a fine pattern having a pattern width equal to or smaller than the resolution of exposure light can be formed in a single lithographic process.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 - 特許庁

Specifically, a dual damascene structure corresponding to a design pattern figure can be formed by means of one exposure, development and etching step using a high resolution gray scale mask, which reduces a production process of a dual damascene structure and enhances the pattern accuracy.例文帳に追加

具体的には、高分解能グレーマスクを用いて、１回の露光、現像及びエッチング工程により、設計パターン形状に対応したデュアルダマシン構造を形成可能とし、デュアルダマシン構造の作製工程の短縮化及びパターン精度を向上させる。 - 特許庁

A printing device 100 is designed to perform the half-tone process with resolution maintained from the time of input while referencing a table called a black data table about a portion if there is a black and white edge portion to be configured only by black color and white color in an input image.例文帳に追加

印刷装置１００は、入力画像の中に白色と黒色のみで構成される白黒エッジ部分があれば、その部分については、黒データテーブルと呼ばれるテーブルを参照しつつ入力時の解像度を保ったままハーフトーン処理を行う。 - 特許庁

To provide an inexpensive image forming material than can obtain an image of high density and high resolution, avoid the occurrence of flaws during manufacturing, has high sensitivity during the image forming period, and has no deterioration of an image quality in an image forming process.例文帳に追加

高密度エネルギー光の露光により高濃度で、高解像度の画像が得られ、製造時に傷が発生しにくく、画像形成時の感度が高く、画像形成工程における画質の劣化を伴わない、安価な画像形成材料を提供する。 - 特許庁

the values of the critical dimensions of the die can be obtained from a scan image of low resolution obtained at a relatively high scanning speed, so the method can obtain values of critical dimensions of respective dies in the whole wafer within an acceptable inspection time to monitor uniformity of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

ダイの限界寸法の値は、相対して高いスキャン速度により得られる低解像度の走査像から得られるので、上述の方法は、受け入れ可能な検査時間内で、ウェハ全体中の各ダイの限界寸法の値を得て、半導体製造プロセスの均一性を監視することができる。 - 特許庁

In the case that the print process starts ("Y" at a step 6), character interval for printing an delivery form 13 is calculated from the setting information and resolution of a printing device 5 (a step S7), and character string is printed in a respective cell area 14 with the character interval (steps S8, S9).例文帳に追加

印刷処理が開始されると（ステップＳ６で「Ｙ」）、上記設定情報と印字装置５の解像度とから納付書１３上での印字用の文字間隔が算出され（ステップＳ７）、その文字間隔で文字列がそれぞれの升目領域１４に印字される（ステップＳ８，Ｓ９）。 - 特許庁

To provide a method of forming conductive pattern in which a high-resolution conductive pattern having a conductivity and durability can be obtained without requiring complicated process and an expensive apparatus, even when it is applied to the formation of an interconnection, etc. which is used for a plurality of different materials.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To solve a problem of deterioration of vacuum in a mirror body caused by gas, and drift of a sample resulting from the elongation of a heater by heating, which occurs in real-time observation of a reaction process of the sample with the gas in heating are solved, and to carry out observing with high resolution.例文帳に追加

電子顕微鏡で試料の加熱時のガスとの反応過程をリアルタイムで観察する際に起こる、ガスによる鏡体内の真空の悪化や、加熱によるヒーターの伸びからくる試料ドリフトを解決し、高分解能観察を可能にする。 - 特許庁

In the case of conducting double density gradation processing where input image data of an n-value (n>3) are converted into binary image data having double resolution in the main scanning direction, an error spread section 22 and a comparison section 23 process the input image data received from an input section 21 to convert the data into ternary image data.例文帳に追加

ｎ値（ｎ＞３）の入力画像データを、主走査方向に２倍の解像度をもつ２値の画像データに変換する倍密度階調処理を行う場合において、入力部２１から入力された入力画像データは、誤差拡散部２２、比較部２３で処理されて３値の画像データに変換される。 - 特許庁

To provide a camera-equipped mobile phone whereby one camera mechanism such as a rotary mirror mechanism can photograph an object on a front side or a rear side and which can process image data photographed on the front side and the rear side with a resolution different between both the sides.例文帳に追加

回転ミラー機構等により前面または背面何れの側の被写体を1つのカメラ機構で撮影することができるカメラ付携帯電話において、前面側と背面側で撮影した画像データを異なる解像度で処理する。 - 特許庁

In the process for optimizing the recording condition before the main recording to the optical recording medium, when the resolution of a pickup head at the reproduction is higher than that of the pickup head at the time of recording, a waveform equivalent coefficient is set to be higher than the value determined in the specification, at the time of judging the recording condition.例文帳に追加

光記録媒体への本記録前の記録条件最適化プロセスにおいて、記録時のピックアップヘッドよりも再生時のピックアップヘッドの方が解像力が高い場合には、記録条件判定時に波形等価係数を規格で定められた値よりも高く設定する。 - 特許庁

To provide a method of forming a photosensitive resin film with which a silica-based coating film usable as an interlayer dielectric is relatively easily formed and which is excellent in process margin and makes a formed silica-based film excellent in resolution and heat resistance, and to provide a method of forming a silica-based coating film using the same.例文帳に追加

層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、プロセスマージンに優れ、形成されるシリカ系被膜が解像性及び耐熱性に優れる感光性樹脂膜の形成方法及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

In this image forming apparatus, an operation speed of the deflecting element, a Video Rate, spot power, a combination of parameter values acquired by using sub-scanning-direction addressability as a parameter, and the number of line skips are set depending on a resolution ratio N and a process speed ratio M.例文帳に追加

画像形成装置では、解像度比Ｎとプロセス速度比Ｍに応じて、偏向素子の操作速度、Video Rate、スポットパワー及び、副走査方向アドサビリティーをパラメータとするパラメータ値の組み合わせ及び、ラインスキップ数を設定している。 - 特許庁

To provide a positive-type resist material, particularly a chemically-amplified, positive-type resist material, having a high resolution, margin of exposure, a small difference between sparse and dense dimensions, and process adaptability, surpassing those of conventional positive-type resist materials, furnishing a good pattern shape on exposure, and showing excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

In the process for optimizing the recording condition before the main recording to the optical recording medium, when the resolution of a pickup head at the reproduction is higher than that of the pickup head at the time of recording, the recording density in the recording operation for deciding the recording condition is set to be lower than the recording density at the main recording.例文帳に追加

光記録媒体への本記録前の記録条件最適化プロセスにおいて、記録時のピックアップヘッドよりも再生時のピックアップヘッドの方が解像力が高い場合には、記録条件判定用の記録における記録密度を本記録での記録密度よりも低く設定する。 - 特許庁

To provide a superior light emitting element which can realize such a light picking-up function that realizes particularly high spatial resolution with a device which has a small size, a light weight, and a high environmental resistance, does not consume much electric power, and is manufactured through a monolithic process and a condensing element.例文帳に追加

特に高い空間分解能を実現する光ピッキングアップ機能を、モノリシック工程で作製された小型・軽量、低消費電力、高耐環境性の装置で実現できる、優れた発光素子及び光集積素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming material, by which a highly sensitive image having high resolution and high sharpness can be obtained through exposure to light or heating without employing a complicated process and a valuable device and, at the same time, on which a direct image formation can be possible based on digital data with infrared laser or the like, and an image forming method.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、露光或いは加熱により高感度で、高解像度で鮮鋭度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等によりデジタルデータに基づき直接画像形成が可能な画像形成材料及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonpolymer-based radiation-sensitive resist composition having high sensitivity, high resolution and high heat resistance and soluble in a solvent in an easy manufacturing process, the composition which can be used for not only UV rays such as i-line and g-line but for radiation such as visible rays, KrF excimer laser light or the like, electron beams, X rays and ion beams.例文帳に追加

ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも利用でき、簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition giving a high resolution with a suppressed LER deterioration caused by film-thinning at the time of forming a chemically amplified resist film with a film thickness of 10-100 nm in lithography, and also to provide a resist patterning process using the chemically amplified positive resist composition.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。 - 特許庁

A low pass filter 15 removes high frequency components from the waveform with the frequency and amplitude obtained by the sectional process circuit for super fine resolution 14, and a data extracting circuit 16 extracts data contained in a region where each value of the amplitude exceeds a threshold being set by a threshold setting circuit 17.例文帳に追加

区分超解像処理回路１４で得られた周波数と振幅の波形に対し、低域通過フィルタ１５で高周波成分を除去し、データ切り出し回路１６で各振幅値が閾値設定回路１７で設定した閾値を越える領域についてデータを切り出す。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition superior in photosensitive characteristics and storage stability and high in resolution and good in process stability by incorporating a specified triaryl-feldazyl compound and a specified titanocene compound and an additionally polymerizable compound.例文帳に追加

優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物および感光材料、優れた耐熱性、密着性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a connecting method of an electrode using a connecting member, excellent in connection reliability for a long time, free from accurate positioning between a conductive particle and an electrode, and with high resolution, capable of avoiding unnecessary adhesion and preventing dust or the like from attaching, and aiming at continuous automation of a connection work process with excellent workability.例文帳に追加

長時間の接続信頼性に優れ、導電粒子と電極との正確な位置合わせが不要、高分解能の接続部材で、不要な粘着性やごみ等の付着防止ができ、作業性が良く接続作業工程の連続自動化が図れる接続部材を用いた電極の接続方法を提供する。 - 特許庁

Since the rendering process 42 and the postprocess 50 are separated, the image frame sequence can be generated regardless of the specification of the display such as resolution and frame rate of the actually used display.例文帳に追加

レンダリング処理４２と後処理５０とを分離して実行するようにしたので、実際に使用されている表示装置の解像度やフレームレートなどの仕様に依存せずに、所定のフレームレートでレンダリングを実行して画像フレーム列を生成することができる。 - 特許庁

To provide a developing solution composition capable of improving development properties, such as sensitivity, resolution, pattern features, and film residual rate in a photolithographic process which uses a photosensitive composition containing a polyarylene resin having a crosslinking functional group.例文帳に追加

架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、感度、解像度、パターン形状、残膜率などの現像性を向上させることができる現像液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist material having high resolution, wide exposure latitude, a small difference in dimension between thinness and denseness, process adaptability, a good pattern shape after exposure and excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さく疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming toner having excellent low temperature fixing property, offset resistance and durability and providing a high-quality image with high resolution and no contamination on the base, and to provide an image forming apparatus, an image forming method and a process cartridge.例文帳に追加

低温定着性、耐オフセット性および耐久性にすぐれるとともに、解像度が良く、地肌汚れがない高品質の画像を与える画像形成用トナー、画像形成装置、画像形成方法、およびプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist material, particularly a chemically amplified positive resist material, having higher sensitivity, resolution, exposure latitude and process adaptability than a conventional positive resist material, ensuring a good pattern shape after exposure and exhibiting excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

Since difference is hard to be generated in image quality even when expanding or reducing according to resolution of a display device and an output device to process as the vector data, smooth and high-definition display and output becomes possible in comparison with the case of transmitting image data.例文帳に追加

ベクトルデータとして処理するために、表示装置や出力装置の解像度に合わせて拡大、縮小しても画質に差異が生じにくいために、異なるコンピュータを用いる場合であっても、イメージデータを送信する場合に比べて滑らかで高品位な表示及び出力が可能となる。 - 特許庁

This compound expressed by formula (I) is prepared by using a resolution method of mirror image compounds from a mixture of methyl (1R,2S)/(1S,2S)-1-amino-2-vinylcyclopropyl carboxylate, comprising a process of treating the mixture with an esterase to obtain the corresponding (1R,2S) mirror image compounds.例文帳に追加

(1R,2S)/(1S,2S)-1-アミノ-2-ビニルシクロプロピルカルボン酸メチルエステルの混合物をエステラーゼで処理して相当する(1R,2S)鏡像体を得る工程を含むことを特徴とする前記混合物からの鏡像体の分割方法を用いて、式(I)の化合物を調製する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method by which a high-resolution and high-definition image is formed and by which even after repeated use, a high-quality image can be maintained stably, and to provide an image forming apparatus for forming an image by the method and a process cartridge.例文帳に追加

高解像度及び高精細な画像を形成し、かつ、繰り返し使用しても高画質画像を安定に維持することが可能な画像形成方法、その方法により画像を形成する画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a toner and a liquid developer for electrostatic latent image development having a good dispersed state, giving an image with high image density, stably high resolution and good transferability, excellent also in texture and washing resistance, and suitable for textile printing, and an image forming method and apparatus and a process cartridge using those.例文帳に追加

良好に分散され、画像濃度が高く、安定して高解像度で転写性の良好な画像が得られ、特に風合、耐洗濯性にも優れ、捺染用に適した静電潜像現像用トナー、液体現像剤、及びこれらを用いる画像形成方法、装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁