「process state」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

The state of an object is monitored by a monitoring device 10, and process recording data are stored with both information acquired by a time information providing device 50 or a location information providing device 60 and electronic signatures guaranteed by an electronic authenticating device 70 added thereto by a process recording server 30.例文帳に追加

モニタリング装置１０が対象物の状態をモニタリングし、経過記録サーバ３０は、時刻情報提供装置５０や位置情報提供装置６０から取得した情報とともに、電子認証装置７０により保証される電子署名を付して経過記録データを保存する。 - 特許庁

The method for manufacturing a liquid crystal display device includes a process of temporary hardening to temporarily harden a sealing material applied in an unhardened state on one of the substrates so as to seal a liquid crystal held between a pair of substrates and a process of further hardening the temporarily hardened sealing material.例文帳に追加

一対の基板間に挟持された液晶を封止するためにいずれかの基板上に未硬化の状態で設けたシール材を仮硬化させる仮硬化工程と、仮硬化させたシール材をさらに硬化させる本硬化工程とを含む液晶表示素子の製造方法。 - 特許庁

To easily prepare a standard work combination chart of accurate contents in a short time by preparing the standard work combination chart for a plurality of work process cycles and extracting the standard work combination chart for the work process cycle in a normal state.例文帳に追加

複数の作業工程サイクルについての標準作業組合せ表を作成し、定常な状態の作業工程サイクルについての標準作業組合せ表を抽出することによって、正確な内容の標準作業組合せ表を容易に、かつ、短時間で作成することができるようにする。 - 特許庁

To prevent the occurrence of breaking of a wire to a fine wiring pattern at a lithography process carried out at an after process for a print substrate by rapidly discharging a solvent in resist ink to the atmosphere from the surface of a print substrate in a state to radiate far infrared rays to resist ink coated on the print substrate.例文帳に追加

遠赤外線をプリント基板に塗布されたレジストインクに放射させた状態でその表面からレジストインク中の溶剤を大気に迅速に排出させることによって、プリント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な配線パターンに断線を生じることを防止できる。 - 特許庁

The polyester fibers in tow state for stretch and cutting processing has ≥2.2 cN/dtex of stress at 7% elongation and ≤25% of elongation at break before the stretch and cutting process and the polyester fibers after stretch and cutting process has ≥1.8 cN/dtex of stress at 3% elongation.例文帳に追加

牽切加工用に用いるポリエステル繊維において、牽切加工前のトウ状ポリエステル繊維の７％伸長時応力が２．２ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、破断伸度が２５％以下であり、かつ、牽切加工後のポリエステル繊維の３％伸長時応力が１．８ｃＮ／ｄｔｅｘ以上となる牽切加工用ポリエステル繊維。 - 特許庁

In a cleaning process being performed later than a process for forming a ferroelectric thin film 110 becoming a part of a ferroelectric thin film capacitor, dry cleaning, e.g. ashing, Ar aerosol cleaning, CO_2 cleaning, cleaning with CO_2 in a supercritical state, or UV cleaning, is employed.例文帳に追加

強誘電体薄膜キャパシタの一部となる強誘電体薄膜１１０を形成する工程よりも後に行なわれる洗浄工程において、アッシング、Ａｒエアロゾル洗浄、ＣＯ_2 洗浄、超臨界状態のＣＯ_2 による洗浄又はＵＶ洗浄等のドライ洗浄を用いる。 - 特許庁

A latest P-value correction factor is calculated based upon browsing state data, including the number of times of browsing and the degree of process attention of an analysis result list picture showing analysis results associated with product IDs, specified by a user, by the process IDs, and a P-value correction factor.例文帳に追加

ユーザーにより指定された製品ＩＤに係る分析結果を工程ＩＤ毎に表す分析結果一覧画面の閲覧回数および工程注目度を含む閲覧状況データ並びにＰ値補正ファクタに基づいて最新のＰ値補正ファクタを算出する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is highly adaptable in function process terms for performing shutdown of a commercial power source according to a state of an apparatus, without any inconvenience for an inside device and with high safety without carrying out an unneeded process when the commercial power source is turned off based on a detection result by an illuminance sensor.例文帳に追加

照度センサの検知結果に基づいて商用電源を切る場合に無駄な処理を行わず、装置状態に応じて内部デバイスに対して支障なく安全性高く商用電源遮断を実行できる機能処理面での対応性に富んだ画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a developer supply cartridge that prevents the leakage of a developer from a developer supply opening when the developer supply cartridge or a process cartridge is dismounted from an apparatus body in a state in which the process cartridge and the developer supply cartridge are both mounted in the apparatus body.例文帳に追加

プロセスカートリッジと現像剤補給カートリッジとが共に装置本体に装着されている状態で、現像剤補給カートリッジ又はプロセスカートリッジを前記装置本体から取り出す際に、現像剤補給開口から現像剤が漏れるのを防止した現像剤補給カートリッジを提供する。 - 特許庁

A slide contact surface portion 77 of the process cartridge is in a state of being in sliding contact with the protruding portion of the contact terminal 71 by action of inserting the process cartridge 6, and the protruding portion 71b is pressed in a direction being apart from the recording medium 70 to limit contact between the contact terminal 71 and the recording medium 70.例文帳に追加

プロセスカートリッジ６の挿入動作によって、プロセスカートリッジの摺接面部７７が接触端子７１の突出部に摺接する状態となって、突出部７１ｂが記録媒体７０から離間する方向に押圧されて、接触端子７１の記録媒体７０への接触が規制される。 - 特許庁

The removal of the alkali metal sulfuric acid salt crystal in the process (2) is performed by concentrating and heating the liquid added with the sulfuric acid in the process (1) to precipitate the alkali metal sulfuric acid salt crystal and performing solid-liquid separation in a state that the succinic acid is dissolved.例文帳に追加

前記工程（２）におけるアルカリ金属硫酸塩結晶の除去は、前記工程（１）において硫酸添加した液を濃縮および加熱してアルカリ金属硫酸塩結晶を析出させ、かつ、コハク酸が溶解した状態で、固液分離することにより行われる。 - 特許庁

In a replacement process P10 after a residual stress-applying process P9, a fixed roller 42 and mobile roller 44, between which a belt-like metal member 12 is extended, are replaced with replacement rollers 92 and 94 in a state that a predetermined tension is applied to the belt-like metal member 12.例文帳に追加

残留応力付与工程Ｐ９に次ぐ架け替え処理工程Ｐ１０において、帯状金属部材１２に一定の張力が付与された状態で、帯状金属部材１２を固定ローラ４２および移動ローラ４４から架け替えローラ９２、９４への架け替えが行われる。 - 特許庁

To provide a method for producing a cast-coated paper less in reduction of white paper gross and excellent in surface state in finishing processes such as a winder treatment process, conveying process, etc., after its cast mirror surface finishing and also excellent in ink drying and blocking resistance in the production of the cast-coated paper by a coagulation method.例文帳に追加

凝固法キャスト塗被紙の製造において、キャスト鏡面仕上げ後のワインダー処理工程、搬送工程等後工程において白紙光沢度の低下が少なく面状に優れ、インキ乾燥性や耐ブロッキング性に優れたキャスト塗被紙の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

This method has a screwing process to perform the lathe machining of the female screw part 3b after allocating the lens barrel attaching part 15 and a milling process to perform the milling work of the abutting surface 7 by making it orthogonal with the axis center of the female screw part 3b of the lens barrel attaching part in the state that centrifugal force is not actuated to the revolver.例文帳に追加

鏡筒取付部１５を割り出した後、雌ネジ部３ｂを旋削加工するネジ工程と、前記レボルバに遠心力を作用させない状態で鏡筒取付部の雌ネジ部３ｂの軸心と直交するようにして、当て付け面７をフライス加工するフライス工程とを有する。 - 特許庁

The liquid crystal display device is manufactured by using a three-mask process so that a mask process is completed in the state that insulation layers of a gate pad part and a data pad part are not etched and the insulation layers of the gate pad part and data pad part are etched after assembling the upper part and lower part substrates.例文帳に追加

ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングしない状態でマスク工程を完了し、上部及び下部基板を合着後ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングする方法を利用して３マスク工程により液晶表示装置を製造する。 - 特許庁

In a cleaning process being performed later than a process for forming a ferroelectric thin film 110 becoming a part of a ferroelectric thin film capacitor, dry cleaning, e.g. ashing, Ar aerosol cleaning, CO_2 cleaning, cleaning with CO_2 in supercritical state, or UV cleaning, is employed.例文帳に追加

強誘電体薄膜キャパシタの一部となる強誘電体薄膜１１０を形成する工程よりも後に行なわれる洗浄工程において、アッシング、Ａｒエアロゾル洗浄、ＣＯ_2 洗浄、超臨界状態のＣＯ_2 による洗浄又はＵＶ洗浄等のドライ洗浄を用いる。 - 特許庁

An element of LDD structure is formed by a method of manufacturing a semiconductor device using a hard mask in a state wherein a conductive film has been formed so as to cover all of a surface of a substrate, whereby the damage to the element due to the plasma process in the LDD forming process is reduced as much as possible.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性膜を形成した状態で、ハードマスクを利用した半導体装置の作製方法でＬＤＤ構造の素子を形成することにより、ＬＤＤ形成工程におけるプラズマプロセスによる素子への損傷を極力低減する。 - 特許庁

The liquid crystal resin P remaining in a molten state at an outlet 3c of the polymerization vessel 3 is re-ejected from the polymerization vessel 3 by a gauge pressure higher than 0.005 MPa after the resin ejecting process for each lot and before the resin producing process of the subsequent lot.例文帳に追加

各ロットに対する樹脂吐出工程の後であって次のロットに対する樹脂生成工程の前に、重合容器３の吐出口３ｃに溶融状態で残存している液晶樹脂Ｐを０．００５ＭＰａを超えるゲージ圧で重合容器３から再吐出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal contaminated sample that reflects an actual heavy metal contaminated state in an actual post-process of a semiconductor device to grasp with high reliability the gettering performance of a silicon wafer accompanying heavy metal contaminated in the manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセスにおける重金属汚染に伴うシリコンウェーハのゲッタリング能を高い信頼性で把握することを可能にするため、現実のデバイス後工程における重金属汚染の状態を反映した金属汚染試料を作製することができる方法を提供する。 - 特許庁

The abutting state with the barrier ribs 12 is made uniform since the dielectric layer 4b of the second layer is softened in the sealing process and/or the exhaust process, and thereby the abutting accuracy is improved, and the plasma display panel capable of displaying the excellent image and the manufacturing method can be realized.例文帳に追加

以上により、封着工程および／または排気工程において第二層目の誘電体層４ｂが軟化することで隔壁１２との当接状態が均一化されるため、当接精度が向上し、良好な画像表示が可能なプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法が実現できる。 - 特許庁

A manufacturing method of a member for a display device comprises a process of providing a photosensitive material containing at least a photosensitive resin in a liquid state on the base material and a process of performing post exposure to the photosensitive material on the base material by using a metal halide lamp.例文帳に追加

感光性樹脂を少なくとも含有する感光性材料を液体状で基材上に設ける工程と、基材上の前記感光性材料に対してメタルハライドランプを用いてポスト露光を行う工程とを有する表示装置用部材の製造方法である。 - 特許庁

In this inspection method of a plasma display panel, a formation state of the photosensitive film is inspected by entering light having a wavelength without being sensed by the photosensitive film into the photosensitive film after an exposure process and before a development process, and imaging reflection of the light.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルの検査方法は、露光処理後であって現像処理前の感光性膜に、前記感光性膜を感光させない波長の光を入射し、前記光の反射を撮像して、前記感光性膜の形成状態を検査することを特徴とする。 - 特許庁

When a user designates output in a state where the customized process cartridge 4 is attached to the image forming apparatus 1 and image quality information is recorded in the image control mechanism 7 of the process cartridge 4, an image forming control means 3 reads out the image quality information from the mechanism 7.例文帳に追加

画像形成装置１にカスタマイズプロセスカートリッジ４が装着され、カスタマイズプロセスカートリッジ４の画像管理機構７に画質情報が記録された状態で、ユーザがアウトプットを指示すると、画像形成制御手段３が画像管理機構７から画質情報を読み出す。 - 特許庁

To provide a method and the device capable of realizing a stable discharge state under an atmospheric pressure condition in a peeling process in a semiconductor manufacturing process, and performing ashing by using a simple device and a discharge plasma processing capable of a processing with the small amount of processing gas.例文帳に追加

半導体製造工程における剥離工程において、大気圧条件下で安定した放電状態を実現させることができ、簡便な装置かつ、少量の処理ガスで処理の可能な放電プラズマ処理を用いて、アッシングをすることができる方法及びその装置を提供。 - 特許庁

To provide an integrated monitoring and analysis device and method for integrally monitoring and analyzing problems from the monitoring of the operating state on a process of various facilities such as a production facility in a factory or the like and the grasping of a factor disturbing the normal operation in each process.例文帳に追加

工場等における生産設備等各種設備の工程上の稼働状況の監視から当該各工程毎の正常稼働を妨げる要因の把握までの問題を統合的に監視して解析するようにした統合的監視解析装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the battery includes a process for forming a film 16 consisting of a mixture comprising a foaming agent, an organic solvent, and two or more kinds of rubbers dissolved in a compatible state, and a process for forming a porous film separator by heating the film 16 so that the foaming agent is foamed and an organic solvent is vaporized.例文帳に追加

発泡剤と有機溶剤と相溶した２種類以上のゴムとを含む混合物からなる膜１６を形成する工程と、発泡剤が発泡するように且つ有機溶剤が蒸発するように膜１６を加熱することによって多孔膜であるセパレータを形成する工程とを含む。 - 特許庁

In this case, (A) the raw material graphite particles (G1) previously heated to ≥100°C are brought in collision with each other in the fluidized state in the process, or (B) the spherical graphite particles (G2) obtained through the process are heated to ≥100°C and hot-pressed.例文帳に追加

このとき、（イ）上記工程において、原料黒鉛粒子(G_1)を予め１００℃以上に加熱しておいてから流動状態で衝突させるか、あるいは、（ロ）上記工程を経て得た球形化黒鉛粒子(G_2)を１００℃以上に加熱してからホットプレスするという手段を講じる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer transfer apparatus where a semiconductor wafer can be sucked and fixed on a suction table side in a flat state when conveying the wafer among each process such as an alignment for positioning the wafer, a UV irradiation, a protective tape peel-off or the like, in a process for manufacturing the wafer.例文帳に追加

ウェハの製造工程において、ウェハ位置決めを行うアライメント、ＵＶ照射、保護テープ剥離などの各工程の間をウェハを搬送する際に、半導体ウェハを吸着テーブル側に平坦な状態で吸着固定することのできる半導体ウェハの移載装置を提供する。 - 特許庁

A single semiconductor heat treating device is constituted by disposing a process tube 12 which can house a wafer 10 in a horizontal state and has a rectangular cross section, a susceptor 14 which covers the process tube 12 and has an oblong cross section, and an induction heating coil 16 which covers the susceptor 14 and has a shape similar to that of the susceptor 14.例文帳に追加

枚葉型半導体熱処理装置であって、ウェハ１０を水平に内装可能な矩形断面のプロセスチューブ１２と、前記プロセスチューブ１２を覆う断面形状を長円とするサセプタ１４と、前記サセプタ１４を覆う相似形状の誘導加熱コイル１６とを配置してなる。 - 特許庁

The quality control support server 1, when receiving information about the details of inspection from a print checker 5, specifies information about a corresponding state after the printing process, determines whether the product after the printing process corresponds to a non-defective product, based on the information, and calculates a defective fraction.例文帳に追加

品質管理支援サーバ１は、印刷検査機５から検査内容に関する情報を受信すると、これに対応する印刷工程後の状態に関する情報を特定し、これらの基づいて、印刷工程後の製品が良品に該当するか否かを判別し、不良率を算出する。 - 特許庁

The synthetic binding unit may include a unique design such that during an amplification process, a region of the synthetic binding unit is not subjected to the polymerase chain extension, and thus the amplicon keeps the single stranded state and is available for binding to the synthetic capture unit during the capture process.例文帳に追加

合成結合単位は、増幅過程において、合成結合単位の領域がポリメラーゼ鎖伸長を受けず、これによりその単位複製配列は一本鎖のままであり捕捉過程における合成捕捉単位との結合に利用可能であるような特有のデザインを含み得る。 - 特許庁

To easily supply a moisture to a process gas in a vaporized state with a simple apparatus in the case of variously surface treating the surface of a semiconductor substrate of a silicon wafer or the like, by the gas supplied by a process gas supply conduit 2 in a vacuum container 1.例文帳に追加

シリコンウリハー等の半導体基板の表面を、真空容器１内でこれにプロセスガス供給管路２より供給したプロセスガスにて各種の表面処理を行う場合において、前記プロセスガスに水分を気化した状態で供給することが容易に簡単な装置にてできるようにする。 - 特許庁

A process for injecting the wire rod 2 and a process for ejecting/discharging injection-molded product intermittently are repeated successively while the rod 2 is inserted into the slider, the ejector pins and each cavity so as to be in a tensioned state, thus a series of product having many injection-molded products fixed on the wire rods is manufactured.例文帳に追加

線材２をスライダ、エジェクタピン内及び各キャビティ内に挿通した状態に張設した状態で、射出工程と成形された射出成形品を間欠的に押出・排出させる工程を順次繰り返し、線材に多数の射出成形品が固着した一連の製品を製造する。 - 特許庁

What process 01 performs writing to a memory is stored in a state holding part 11, and data stored in the memory are subjected to operation by a mask mechanism 12 depending on whether or not the data are the data written by the process which performs reading of the content of the memory, whereby the confidentiality is enhanced.例文帳に追加

何れのプロセス０１がメモリに書き込みを行ったかを状態保持部１１に記憶し、メモリの内容を読み出そうとしているプロセスにより書き込みが行われたデータであるか、否かにより、メモリに保持されているデータにマスク機構１２によって演算を施すことで機密性を高める。 - 特許庁

When a base film is rolled around a winding core and formed in a shape of a roll after coating and calendar processing and rewound and cut into a plurality of magnetic tapes after heat treatment in a roll state, the elapsed time from completion of heat treatment process to cutting process is made 80 hours or shorter.例文帳に追加

塗布、カレンダ処理後、ベースフィルムを巻芯に巻き取ってロール状に形成し、ロール状態のまま熱処理した後、巻戻して複数本の磁気テープに裁断する場合において、熱処理の工程が完了してから裁断の工程までの経過時間を８０時間以内とする。 - 特許庁

In the case of asynchronous functional cooperation execution control, a business process temporary stop control part 8 temporarily stops the execution of a BPL by a business process processing part 2 until the execution result of the task is acquired when the execution configuration of the task is an asynchronous type, and stores state storage data prior to the stop.例文帳に追加

非同期機能連携実行制御には、ビジネスプロセス一時停止制御部８は、タスクの実行形態が非同期型の場合に当該タスクの実行結果を取得するまでビジネスプロセス処理部２によるＢＰＬの実行を一時停止させ、かつ停止前の状態保存データを保存処理する。 - 特許庁

The upper shell and the lower shell are respectively placed on the masking jig for the upper shell and the masking jig for the lower shell used in the coating process step 2 and are transported in this state to a drying furnace where the coatings of the outer peripheral surfaces of the upper shell and the lower shell are dried by heating in a drying process step S3.例文帳に追加

また、乾燥工程Ｓ３において、上シェル及び下シェルを、塗装工程Ｓ２で用いた上シェル用マスキング治具及び下シェル用マスキング治具にそれぞれ載置したままで乾燥炉に搬送して、上シェル及び下シェルの外周面の塗装を加熱乾燥させる。 - 特許庁

When a data transfer process is started, a state in which a plurality of character objects lift an icon object in a three-dimensional virtual space, and carry the icon object from a start point toward a completion point in the three-dimensional virtual space, according to a degree of progress of the data transfer process, is displayed.例文帳に追加

データ転送処理が開始されると、データ転送処理の進捗度合いに応じて、３次元仮想空間において複数のキャラクタオブジェクトがアイコンオブジェクトを持ち上げて、当該３次元仮想空間内の開始地点から完了地点へ向かってアイコンオブジェクトを運ぶ様子が表示される。 - 特許庁

When a fault detecting process means 103 detects a fault of the disk drive 200 or 201, the constitution display process means 102 registers fault information in the image definition file 301 and displays the state of the disk drive on the image display device 400 with the registered fault information.例文帳に追加

故障検出処理手段１０３がディスク装置２００，２０１の故障検出時に、構成表示処理手段１０２が画像定義ファイル３０１に故障情報を登録し、その登録した故障情報によりディスク装置の状態を画像表示装置４００に表示する。 - 特許庁

The method for producing the thermoplastic resin foam is characterized by comprising a process for impregnating a polyamide as the thermoplastic resin with CO_2 in a supercritical state of 40 to 150°C and a process for heating the CO_2-impregnated polyamide to foam the resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂としてポリアミドを用い、ポリアミドに超臨界状態のＣＯ_２を４０℃以上、１５０℃以下の温度で超臨界状態のＣＯ_２を含浸させる工程と、ＣＯ_２が含浸されたポリアミドを加熱により発泡する工程とを備える、熱可塑性樹脂発泡体の製造方法。 - 特許庁

To dissolve such troubles as the deficit weighing, etc., caused by an air layer when a metallic material is weighed under liquid layer state, by setting a distances of a speed/pressure changing position with the position where the injection pressure in the advancing process of a screw reaches the setting pressure as a starting point of an injecting process control.例文帳に追加

金属材料を液層状態で計量した際の気層による計量不足等を、スクリュの前進過程における射出圧力が設定圧力に達したときの位置を射出プロセス制御の起点として速度・圧力切換位置の距離を設定することで解決する。 - 特許庁

The solid state imaging device is manufactured through a process of forming conductive layers 13, 14 containing the metallic element on the semiconductor substrate 6 to form the electrode 15 by patterning the conductive layers 13, 14, and another process of forming the nitride silicon film 16 on the surface of the electrode 15.例文帳に追加

また、半導体基体６上に金属元素を含む導電体層１３，１４を成膜し、この導電体層１３，１４をパターニングして電極１５を形成する工程と、この電極１５の表面に窒化珪素膜１６を形成する工程とを有して、上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

During the process of the development of the shoen system and the demise of Kochi-komin sei (the system of complete state ownership of land and citizens), the shoen owners, by utilizing their political influence, endeavored to secure the cultivators as residents of their own shoen by entitling them to the exemptions of the public duties or the temporary odd-job duties; such a process is known as the establishment of myo taisei (local tax management system based on rice land). 例文帳に追加

荘園制の発達と公地公民制の解体の過程で荘園領主は自己の政治力を背景として国役や臨時雑役などを免除させることで寄作者を自己の荘園内に移住させて荘園内に取り込もうとした（名体制の成立）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This method includes a molding process for molding the thickness of a cushion member made of thermoplastic elastomer up to desired thickness by heating and pressing the cushion member, and a cooling process for cooling the molded cushion member in the pressed state.例文帳に追加

自動二輪車用シートの厚さ調節方法は、熱可塑性エラストマー製のクッション体を加熱プレスすることにより、クッション体の厚さを所望の厚さとなるまで成形する成形工程と、成形されたクッション体をプレスした状態で冷却する冷却工程とを備える。 - 特許庁

In the finish grinding in the back grinding process serving also as the stress relief process, the finish grinding is performed while pressing a grinding stone 105 for toothing to a grinding stone 107 for grinding only in a spark-out period in which the wafer back surface is polished in a rotating state from the finish grinding basically.例文帳に追加

このため、ストレスリリーフ工程を兼ねるバック・グラインディング工程の仕上げ研削において、基本的に仕上げ研削から回り状態でウエハ裏面を磨くスパークアウト期間のみ、目立て用砥石１０５を研削用砥石１０７に押し当てながら仕上げ研削をする。 - 特許庁