「process steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes the steps of: depositing a hydrophilic material layer on a substrate; depositing a bank material layer on the hydrophilic material layer; patterning the bank material layer to define a bank forming one or more of the droplet deposition wells; and etching the hydrophilic material layer in a self-aligned process using the patterned bank material layer as a resist.例文帳に追加

前記方法は、基板上に親水性材料層を堆積させる工程、前記親水性材料層の上にバンク材料層を堆積させる工程、前記バンク材料層をパターニングして１または２以上の前記液滴堆積ウェルを形成するバンクを規定する工程、前記パターニングされたバンク材料層をレジストとして使用して自己整合プロセス中において前記親水性材料層をエッチングする工程を含む。 - 特許庁

In a UE (a user end) of a radio communication system, a connection reestablishing method includes steps of: starting a radio link monitoring timer or counter; and stopping the radio link monitoring timer or counter when a RRC connection (radio resource control connection) reestablishing process is triggered and the radio link monitoring timer or counter does not end and remains in its operation.例文帳に追加

無線通信システムのＵＥ（ユーザー端末）において接続を再確立する方法は、無線リンクモニタリングタイマーまたは無線リンクモニタリングカウンタを起動する段階と、ＲＲＣ（無線リソース制御）接続再確立プロセスがトリガーされ、かつ無線リンクモニタリングタイマーまたは無線リンクモニタリングカウンタが終了せずに引き続き動作する場合に、無線リンクモニタリングタイマーまたは無線リンクモニタリングカウンタを停止する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing conductive particulates which obviates the flocculation of particulates in a plating liquid, is simple in process steps and makes it possible to obtain conductive particulates having plating layers of an extremely uniform thickness, and to provide the method of manufacturing the conductive particulates capable of forming the uniform plating layers on all of the particulates without the occurrence of bipolar phenomena.例文帳に追加

めっき液中で微粒子が凝集するということがなく、工程が簡単で、かつ極めて均一な厚さのめっき層を有する導電性微粒子を得ることができる導電性微粒子の製造方法を提供すること、また、バイポーラ現象が生じることなく、全ての微粒子に対して均一なめっき層を形成することができる導電性微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process includes the steps of: contacting at least one polyester resin possessing acid groups with an organic solvent to form a resin mixture; heating the resin mixture to a desired temperature; adding at least one solvent inversion agent to the mixture; neutralizing the resin mixture with a neutralizing agent; and introducing a silicon-free anti-foam agent to the resin mixture.例文帳に追加

酸性基を有する少なくとも１種のポリエステル樹脂を有機溶媒と接触させて、樹脂混合物を形成するステップと、前記樹脂混合物を所望の温度まで加熱するステップと、少なくとも１種の溶媒転相剤を混合物に添加するステップと、前記樹脂混合物を中和剤で中和するステップと、シリコーンを含まない泡止め剤を前記樹脂混合物に導入するステップと、を含む方法。 - 特許庁

The substrate coating method for lithography includes the steps of coating the top of a substrate with a film in a lithography process and disposing a topcoat layer on the film, wherein the film is formed using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains a resin (P), having a repeating unit (A) which decomposes due to irradiation with actinic rays or radiation, and which generates an acid.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 - 特許庁

The process comprises the steps; 1) a step to supply a starting substance as the vanadyl/vanadous sulfate solution having a specific chemical composition, 2) a step to obtain the crystal by heating the solution and 3) a step to obtain a clear solution having practically same chemical composition as the starting substance by dissolving the crystal again adding a specific volume of deionized water with continuous agitation, if necessary with heat.例文帳に追加

このプロセスは、１）特定の化学組成を有するバナジル／バナダスサルフェート溶液の形態として出発材料を供用するステップ、２）加熱により前記溶液を蒸発させ結晶化させるステップ、および３）絶えず攪拌しながら、特定の体積の脱イオン水を加え、必要であれば加熱して結晶を再溶解させて、実質的に出発材料と同一の化学組成を有する透明溶液とするステップを含む。 - 特許庁

The process includes steps of: forming a resin mixture by bringing at least one polyester resin into contact with at least one charge control agent and at least one organic solvent; heating the resin mixture to a desired temperature; adding water and optional solvent inversion agent to the mixture; removing the solvent; and forming emulsion containing at least one polyester and one charge control agent in a dispersion phase.例文帳に追加

少なくとも１つのポリエステル樹脂を、少なくとも１つの帯電制御剤及び少なくとも１つの有機溶媒と接触させて樹脂混合物を形成し、樹脂混合物を加熱して所望の温度にし、混合物に水及び随意の溶媒反転剤を添加し、溶媒を除去して、少なくとも１つのポリエステル及び帯電制御剤を分散相内に含むエマルジョンを形成するステップを含むプロセス。 - 特許庁

The composite metal material excellent in electrical conductivity, including titanium as a base material, is produced by steps of: preparing a mixed powder 10 by pulverizing and mixing the titanium powder with added carbon fiber; and applying a process by the compression shearing method comprising solidifying the mixed powder 10 and forming a compact, by loading a shearing load to the mixed powder 10 while applying a compression load.例文帳に追加

チタン粉末にカーボン繊維を加えた粉末を粉砕混合して混合粉末１０を調製する工程と、前記混合粉末１０に圧縮荷重を加えながら剪断荷重を負荷することにより、前記混合粉末１０を固化して成形体とする圧縮剪断法による加工を施す工程とにより、Tiを基材とする導電性に優れた複合金属材料を提供することができる。 - 特許庁

The method includes the steps of coloring, by adding acid, starch, iodine compound to the liquid to be measured; coloring by adding diethyl-p-phenylenediamine; coloring by adding the diethyl-p-phenylenediamine after adding glycine solution, wherein the degree of color is measured in each coloring process; and measuring the chlorite ion by calculating the measured values.例文帳に追加

被検液中の亜塩素酸イオン濃度を測定する方法であって、被検液に対して、酸、デンプン、及びヨウ素化合物を添加して発色させる工程、ジエチル−ｐ−フェニレンジアミンを添加して発色させる工程、グリシン溶液を添加した後にジエチル−ｐ−フェニレンジアミンを添加して発色させる工程、で各々の発色度を測定し、その測定値を演算することにより亜塩素酸イオンを測定方法である。 - 特許庁

(3) Subsection (1) does not apply where the representation is made in respect of a product after the patent for that product or, as the case may be, the process in question has expired or been invalidated and before the end of a period which is reasonably sufficient to enable that person to take steps to ensure that the representation is not made or does not continue to be made. [Am. Act A863: s.33]例文帳に追加

(3)(1)は，表示が，その製品に関する又は場合により問題の方法に関する特許が期間満了するか又は無効とされた後で，かつ，前記の者がその表示をしない又はその表示の継続をしないようにするための措置をとることを可能にする合理的に十分な期間が終了する前に行われている場合は，適用しないものとする。［法律A863:s.33による改正］ - 特許庁

An anticancer agent comprising the cells as an active ingredient obtained by the following process consisting of the steps of; (1) culturing W-cells obtained from a human body in medium A containing 0.1~0.2 weight % of protein X for 5 to 10 hours and collecting them, and (2) disseminating the collected cells in the step (1) on an extracellular matrix Y, culturing them in medium B containing 0.1~0.2 weight % of protein Z for 24 to 48 hours, and collecting them. 例文帳に追加

(1)ヒト体内から採取した W細胞を、タンパク質 Xを 0.1～0.2重量％含有する培地 A中で 5～10時間培養し、回収する工程、及び (2)工程(1)で回収された細胞を細胞外マトリックス Y上に播種し、タンパク質 Zを 0.1～0.2重量％含有する培地 B中で 24～48時間培養し、回収する工程、からなる工程により得られた細胞を有効成分として含有する抗癌剤。 - 特許庁

This process comprises the steps of polymerizing an olefin in the presence of an olefin polymerization catalyst containing a metal complex of the group 3-12 of the periodic table and stopping the polymerization by adding, to the resultant olefin polymer, a compound formed by linking an element of the group 13 or 14 to a hydrocarbon group via a cross-linking group containing an element of the group 15 or 16.例文帳に追加

周期律表第３族〜第１２族の金属錯体を含むオレフィン重合用触媒の存在下に、オレフィンを重合させた後、得られたオレフィン重合体に１３から１４属の元素が１５から１６属の元素を含有してなる架橋基を介して炭化水素基と連結してなる化合物を添加することにより、重合反応を停止する工程を含むことを特徴とする、オレフィン重合体の製造方法。 - 特許庁

To enhance productivity by performing the setup operation during the carry-out operation of a printed circuit board to a post-process device or during the carry-out waiting operation, especially in an electronic component attachment device having a large number of production model switching times with a large item small scale production, thereby performing a plurality of steps in parallel and shortening the work time.例文帳に追加

特に、多品種少量生産により生産機種の切り替え回数が多い生産形態の電子部品装着装置において、後工程装置へのプリント基板の搬出動作中または搬出待ち動作中の時間に、段取り動作を実行することが可能とし、複数の工程を並行して実行することによって、作業時間を短縮することが可能となり、生産性を向上させる。 - 特許庁

The method of fabricating the CMOS image sensor includes the steps of providing a substrate in which a predetermined process has completed; forming a patterned block layer on top of a region of the substrate where the photodiode is to be formed; using mask to implant ions into a remaining region except the region where the photodiode is to be formed, leaving the patterned block layer; and removing the mask.例文帳に追加

本発明のＣＭＯＳイメージセンサの製造方法は、所定の工程が完了した基板を用意するステップと、該基板のフォトダイオードの形成される領域の上部にパターニングされたブロック層を形成するステップと、該パターニングされたブロック層を残した状態で、前記フォトダイオードの形成される領域を除く残りの領域に対して、マスクを用いたイオン注入を行うステップと、前記マスクを除去するステップとを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a roll material, which is an optical film wound like a roll and comprising at least a base film and an optical anisotropic layer thereon, includes the steps of: forming, on the base film after at least a drying process, the optical anisotropic layer to produce an optical film; wetting the optical film; and subsequently winding up the optical film into a roll.例文帳に追加

また、少なくとも、基材フィルムと、その上に、光学異方性層とを有する光学フィルムをロール状に巻き取ったロール状物の製造方法であって、基材フィルム上に、少なくとも乾燥処理を経て、光学異方性層を形成して、光学フィルムを作製すること、光学フィルムを湿潤させること、及びその後、光学フィルムをロール状に巻き取ることを含むロール状物の製造方法である。 - 特許庁

The method of temporarily halting the program being executed on the specified system comprises the steps of: allowing the system to receive a temporary halt request signal; displaying a window for determining a temporary halt in response to the reception of the temporary halt request signal by the system; and performing a process of temporarily halting the program being executed after or while the window is displayed.例文帳に追加

システムが一時停止要求信号を受領するステップと、システムが当該一時停止要求信号の受領を契機に、一時停止を確定するためのウィンドウを表示するステップと、当該ウィンドウを表示した後、または、当該ウィンドウの表示と並行して、前記実行中のプログラムを一時停止する処理を実行するステップにより、所定のシステム上で実行中のプログラムを一時停止する方法。 - 特許庁

To provide an antenna board for a non-contact IC medium which dispenses with extra steps of an anti-sticking and an increase in production costs, the anti-sticking process preventing non-antenna-element areas of a substrate from sticking to each other when a plurality of the antenna boards are stacked, and to provide a non-contact IC medium using the same.例文帳に追加

本発明は、非接触ＩＣ媒体用のアンテナ基板において、複数枚のそのアンテナ基板が積み重ねられた場合に、基材のアンテナ類が無い部分が貼り付いてしまう現象を低減する、余分な工程を必要とせず、製造コストの上昇を招くことのない貼り付き低減処理が施された非接触ＩＣ媒体用アンテナ基板およびそれを用いた非接触ＩＣ媒体を提供する。 - 特許庁

A process for manufacturing a silicon carbide powder for sintering, comprising the steps of decomposing an organ silicon high molecular compound, whose main key components are silicon and carbon, at a temperature between 1600℃ and 2200℃ in the inert gas atmosphere and obtaining a powder whose main component is β-SiC ; obtaining a power made from high-purity β-SiC treated with acids including a hydrofluoric acid after heating this powder to temperatures between 500℃ and 800℃ in the oxidative atmosphere. 例文帳に追加

珪素と炭素を主な骨格成分とする有機珪素高分子化合物を、不活性ガス雰囲気中で1600℃～2200℃の温度で熱分解して、主としてβ-SiCを主成分とする粉末を得、この粉末を酸化性雰囲気中で500℃～800℃の温度に加熱した後、弗酸を含む酸で処理して高純度β-Si Cよりなる粉末を得ることを特徴とする焼結用炭化珪素粉末の製造法。 - 特許庁

The steps of the complexified crystallization process comprise a step of crystallizing the HMG-CoA reductase inhibitor from a water-miscible or water-soluble organic solvent or a mixture of the organic solvent with water, and a step for crystallizing the HMG-CoA reductase inhibitor from an organic ester solvent having a lower miscibility or solubility to water than the above water-miscibility or water-solubility.例文帳に追加

上記複合化された結晶化の各工程は、水混和性もしくは水溶性を有する有機溶媒または上記有機溶媒と水との混合液から、ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ阻害剤を結晶化する工程と、ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ阻害剤を、上記水混和性もしくは水溶性より小さい水に対する混和性もしくは溶解性を有する有機エステル溶媒から結晶化する工程とを含む。 - 特許庁

The defective area detecting/restoring method includes the steps of monitoring gain variations of a variable gain amplifier which amplifies a signal detected from a recording medium, detecting a defective position based on the gain variations of the variable gain amplifier, and determining the detected defective position as a position of a symbol where an error has occurred and executing an error correcting process.例文帳に追加

本発明の欠陥領域の検出／復旧方法は、記録媒体から検出された信号を増幅する可変利得増幅器の利得変動量をモニタリングするステップと、可変利得増幅器の利得変動量に基づいて欠陥位置を検出するステップと、検出された欠陥位置をエラーが発生したと予測されるシンボルの位置として決定してエラー訂正処理を実行するステップと、を含む。 - 特許庁

The process features the steps of, when the headlights are in a first lighting mode, detecting the backscatter of the headlight beam onto a phenomenon of visibility disturbance; increasing the lighting range of the headlight beam from the headlights in relation to a maximum authorized range in accordance with the detected backscatter; and switching the headlights to a second lighting mode when the backscatter reaches a first determined threshold.例文帳に追加

この方法は、ヘッドライトが、第１の照明モードにあるときに、視界を妨げる事象に起因する、ヘッドライトからの光ビームの後方散乱を検出するステップと、検出された後方散乱に応じて、ヘッドライトからの光ビームの照明範囲を、最大公認範囲に比して増加させるステップと、後方散乱が、定められた第１の閾値に達すると、ヘッドライトを、第２の照明モードに切り替えるステップとを含んでいる。 - 特許庁

The manufacturing method includes steps of forming an SiOF film 102 on a substrate 101, forming an opening for wiring formation in the SiOF film, removing fluorine contained in the SiOF film from a surface of the opening, subjecting the fluorine-removed surface of the opening to an oxygen plasma process, and providing wiring metals 104 and 105 to the opening.例文帳に追加

基板１０１上にＳｉＯＦ膜１０２を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に配線形成用の開口部を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に形成された前記開口部の表面から該ＳｉＯＦ膜に含まれるフッ素を除去するステップと、前記フッ素が除去された前記開口部の表面に酸素プラズマ処理を行うステップと、前記開口部に配線用の金属１０４，１０５を設けるステップとを備えている。 - 特許庁

In a method for removing impurity elements as deposits by adjusting pH while blowing air into a crude nickel sulfate aqueous solution, the method is characterized in that either compound of sodium hydroxide or slaked lime is used as a pH adjuster, in that the process for adjusting pH is divided into 2 steps, and in that as pH adjusters different compounds are used in the initial step and in the next step.例文帳に追加

粗硫酸ニッケル水溶液に空気を吹込みながらｐＨを調整して不純物元素を澱物として除去する方法において、ｐＨ調整剤として水酸化ナトリウム又は消石灰のいずれかの化合物を用いるとともに、ｐＨを調整する工程を２段階に別け、かつ最初の工程と次の工程に用いるｐＨ調整剤をそれぞれに別個の化合物とすることを特徴とする。 - 特許庁

The image processor for transmitting inputted image data to other image processors and allowing them to process images includes the steps of transmitting inputted certification information to any information processor, receiving usage restriction information to be applied when a user predetermined by the transmitted certification information uses the image processor, and receiving the usage restriction information to be applied when the user uses the other information processor.例文帳に追加

入力された画像データを他の画像処理装置に送信し、当該他の画像処理装置において処理を実行させる画像処理装置は、入力された認証情報を情報処理装置に送信し、送信された認証情報によって特定されるユーザが前記画像処理装置を使用する際の使用制限情報を受信し、前記他の画像処理装置を使用する際の使用制限情報を受信する。 - 特許庁

The production process of the thin-film superconductive wire material 10A comprises the steps of forming an intermediate layer 2 on a metal tape substrate 1, forming a first superconductive layer 3 having an RE123 composition as a diffusion-preventing layer on the intermediate layer 2 and forming a second superconductive layer 4 having an RE123 composition so as to come into contact with the first superconductive layer 3.例文帳に追加

本発明の薄膜超電導線材１０Ａの製造方法は、金属テープ基板１上に中間層２を形成する工程と、その中間層２上にＲＥ１２３系の組成を有する第１の超電導層３を拡散防止層として形成する工程と、第１の超電導層３に接するように、ＲＥ１２３系の組成を有する第２の超電導層４を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for infiltrating a water-proof material into a zipper, by which an impermeable material can infiltrate into a zipper tape and form a liquid waterproof layer with the zipper tape fabric to obtain a high water proofness to be separated into left and right fabric tapes without a process of cutting and dividing, reduced in processing steps to suppress the manufacturing cost and extended in life of use.例文帳に追加

液状不透水物質をファスナー布テープ内に浸透させ、布テープと一体に結合した不透水層を形成し、高い防水性を付与でき、切り分け工程なくして左右のファスナー布テープを分離でき、加工工程を減らし、製造コストを抑えることができると共に、防水ファスナーの使用寿命を延長することができる、防水材の浸透による防水ファスナーの製造方法の提供。 - 特許庁

The process management method includes steps of: (A) calculating wiring resistance and wiring capacitance in a condition where manufacturing dispersion of the width and thickness of the wiring is represented by points on a predetermined equal probability circle of a joint probability density function; and (B) specifying a variation range RNG of the wiring resistance and the wiring capacitance caused by the manufacturing dispersion based on the calculated wiring resistance and wiring capacitance.例文帳に追加

そのプロセス管理方法は、（Ａ）配線の幅及び厚さの製造ばらつきが同時確率密度関数の所定の等確率円上の点で表されるという条件の下で、配線抵抗及び配線容量を算出するステップと、（Ｂ）算出された配線抵抗及び配線容量に基づいて、製造ばらつきに起因する配線抵抗及び配線容量の変動範囲ＲＮＧを規定するステップとを含む。 - 特許庁

Such a method of packing raw material silicon which includes process steps of packing the lumpy or granular raw material silicon 12 into a cylindrical section 16a of the crucible 16 and forming a general raw material layer, then forming a planar raw material layer consisting of the planar raw material silicon 21 on this general raw material layer and further, successively forming the general raw material layer on the planar raw material layer is adopted.例文帳に追加

るつぼ１６の円筒部１６ａにおいて、塊状又は粒状の原料シリコン１２を充填して一般原料層を形成してから、当該一般原料層の上に板状の原料シリコン２１からなる板状原料層を形成し、更に当該板状原料層の上に一般原料層を形成していくという工程を含むような原料シリコンの充填方法をとる。 - 特許庁

The process for producing a semiconductor substrate by bonding two semiconductor wafers directly comprises steps of: sticking a first semiconductor wafer and a second semiconductor wafer; and heat treating of a semiconductor substrate formed in the sticking step at a temperature of 1,000°C-1,400°C and at a temperature rise/fall rate of 100°C/sec or above.例文帳に追加

２枚の半導体ウェーハが直接接合した半導体基板の製造方法であって、第１の半導体ウェーハと第２の半導体ウェーハを貼り合わせる工程と、この貼り合わせる工程によって形成された半導体基板を、１００℃／秒以上の昇降温速度で、１０００℃以上１４００℃以下の温度で熱処理する工程を有することを特徴とする半導体基板の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of ≤135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

This transmission rate control method includes steps of: the user equipment UE receiving the absolute rate grant channel denoting an absolute value of the transmission rate of an uplink from the radio base station Node-B; and the user equipment UE disregarding the relative rate grant channel denoting a relative value of the transmission rate of the uplink until a HARQ process is circulated after receiving the absolute rate grand channel.例文帳に追加

本発明に係る伝送速度制御方法は、移動局ＵＥが、無線基地局ＮｏｄｅＢから上りリンクの伝送速度の絶対値を示す絶対速度制御チャネルを受信する工程と、移動局ＵＥが、絶対速度制御チャネルを受信した後、ＨＡＲＱプロセスが一巡するまでの間、上りリンクの伝送速度の相対値を示す相対速度制御チャネルを無視する工程とを有する。 - 特許庁

The process of producing the π-conjugated conductive polymer film includes steps of: applying a coating agent containing a π-conjugated conductive polymer on a substrate; drying the coating agent having been applied on the substrate; treating the dried substrate at temperatures of 10°C or higher and under high humidity atmosphere of 70% or more, or in hot water of 30°C or higher.例文帳に追加

本発明のπ共役系導電性高分子膜の製造方法は、基材に、π共役系導電性高分子を含有するコーティング剤を付与する工程；該基材に付与された該コーティング剤を乾燥させる工程；および該乾燥後の基材を、１０℃以上の温度でかつ７０％以上の湿度を有する高湿度雰囲気下で処理、または３０℃以上の温水中で処理する工程を包含する。 - 特許庁

The process for preparing the zeolitic catalyst, which has high mechanical resistance, comprises zeolite and oligomeric silica and has the form of a microsphere, comprises the steps of: rapidly drying the suspension, to which tetra-alkylorthosilicate is optionally added, resulting from the synthesis of zeolite by hydrothermal treatment at autogenous pressure of a reagent mixture containing tetra-alkyammonium hydroxide as a templating agent; and calcining the product resulting from the rapid drying.例文帳に追加

テンプレートとして水酸化テトラ−アルキルアンモニウムを含有する試薬混合物の自発生圧力における水熱処理によるゼオライトの合成から生ずる懸濁液に、必要に応じてテトラ−アルキルオルトシリケートを添加して、急速乾燥させ、そして前記乾燥により生ずる生成物を焼成することからなる、機械抵抗が高く、ゼオライトとオリゴマーシリカとを含んでなる、微小球形態のゼオライト触媒の製造方法。 - 特許庁

The specification of an invention must (a) correctly and fully describe the invention and its operation or use as contemplated by the inventor; (b) set out clearly the various steps in a process, or the method of constructing, making, compounding or using a machine, manufacture or composition of matter, in such full, clear, concise and exact terms as to enable any person skilled in the art or science to which it pertains, or with which it is most closely connected, to make, construct, compound or use it; (c) in the case of a machine, explain the principle of the machine and the best mode in which the inventor has contemplated the application of that principle; and (d) in the case of a process, explain the necessary sequence, if any, of the various steps, so as to distinguish the invention from other inventions. 例文帳に追加

発明の明細書には，(a) その発明及び発明者が考えたその作用又は用途について正確かつ十分に記載し， (b) その発明が属するか又は極めて密接に関係する技術若しくは科学分野における熟練者が，それを製造し，組立てし，調合し又は使用することができる程度に，完全，明瞭，簡潔かつ正確な用語で，方法においては各種の工程について，また機械，製造物又は合成物においてはそれを組立てし，製造し，合成し若しくは使用する方法について明確に記載し， (c) 機械の場合は，機械の原理及び発明者がその原理の応用として考える最良の実施態様について説明し，また (d) 方法の場合は，その発明を他の発明から区別することができるように，もしあれば，種々の工程の必要な順序について説明しなければならない。 - 特許庁

The carrying method includes steps for lengthening the average cycle time of low priority substrates in the production facility for small lot size semiconductor devices, for shortening the average cycle time of high priority substrates in the production facility for small lot size semiconductor devices, and for sustaining a specified level of goods in process in the production facility for small lot size semiconductor devices.例文帳に追加

この方法は、小ロットサイズ半導体デバイス製造施設内における低優先度基板の平均サイクル時間を長くし、小ロットサイズ半導体デバイス製造施設内における高優先度基板の平均サイクル時間を短くして、小ロットサイズ半導体デバイス製造施設内において所定の仕掛品レベルをほぼ維持することにより、小ロットサイズ半導体デバイス製造施設内において所定の仕掛品レベルを維持することをさらに含む。 - 特許庁

This method for producing the fermented substance comprises the following steps: a fungus addition step of adding both of lactobacillus and yeast; a fermentation step of fermenting a substance obtained in the fungus-adding step; and a low-temperature fermentation step of fermenting the substance obtained in the fermentation step through maintaining the substance at a temperature lower than that in the fermentation step so as to simplify the production process.例文帳に追加

乳酸菌および酵母の両方を添加する菌添加ステップと、乳酸菌が発酵可能な温度に一定時間保持することによって、菌添加ステップで得られた物を発酵させる発酵ステップと、発酵ステップで保持した温度よりも低い温度で一定時間保持することによって、発酵ステップで得られた物を発酵させる低温発酵ステップとを設けたことにより、製造工程を簡素化した発酵物の製造方法を提供することができる。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁

The method of estimating remaining capacity and remaining time of the battery device during discharging of the battery device includes the steps of: determining an initial state of the battery device, determining discharge current of the battery device, utilizing a shooting end of discharge process to determine a final state of charge corresponding to the discharge current, and determining the remaining capacity and the remaining time according to the final state of charge.例文帳に追加

バッテリー装置の残存容量及び残存時間を、そのバッテリー装置の放電の間に推定する方法は、そのバッテリー装置の初期状態を決定するステップ、そのバッテリー装置の放電電流を決定するステップ、放電プロセスのシューティング端部を使用して放電電流に対応する最終充電状態を決定するステップ、及び最終充電状態に従って残存容量及び残存時間を決定するステップを含む。 - 特許庁

There is disclosed the method for producing acrylic acid by means of heterogeneously catalyzed partial gas phase oxidation of propylene in two steps, wherein the propylene used is obtained by previous dehydrogenation of propane; a first oxidation step is operated along with the limited propylene conversion; and unconverted propane and the propylene in the product gas mixture of a second step of partial oxidation are substantially recycled by supplying them into the previous propane dehydrogenation process.例文帳に追加

プロピレンの二段階の不均一触媒部分気相酸化によりアクリル酸を製造するための方法に関し、ここで、使用するプロピレン出発は前のプロパン脱水素によるものであり、そして第１の酸化段階は限定されたプロピレンの変換と共に操作され、第２の部分酸化段階の生成物ガス混合物中に存在する未変換のプロパン及びプロピレンは前のプロパン脱水素に投入されるように実質的にリサイクルされる。 - 特許庁

The process for the preparation of the hydrogenated conjugated diene-based polymer comprises the steps of mixing an acid compound selected from oxalic acid and specific α-hydroxycarboxylic acid-based compound, alcohol and water in a hydrogenated conjugated diene-based polymer solution, performing phase separation and collecting the hydrogenated conjugated diene-based polymer from an organic layer to effectively remove the organotitanium catalyst remaining in the hydrogenated conjugated diene-based polymer solution.例文帳に追加

水添化共役ジエン系重合体を製造する方法において、水添化共役ジエン系重合体溶液に対して、シュウ酸及び特定のα−ヒドロキシカルボン酸系化合物の中から選択した酸化合物と、アルコールおよび水を混合し、層分離して有機層の水素化共重合体を分離回収することによって、水添化共役ジエン系重合体溶液に残留する有機チタン触媒を効果的に除去する。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride semiconductor device forming an electrode on a nitride semiconductor layer, includes the steps of: carrying out plasma etching on a front surface of the nitride semiconductor layer by using a reactive etching gas containing at least silicon; cleaning the etched region by an acid or an alkali process liquid, while putting the etched region to an inert gas plasma; and forming the electrode on a cleaned etched region front surface.例文帳に追加

窒化物半導体層上に電極を形成する窒化物半導体装置の製造方法において、少なくともシリコンを含む反応性エッチングガスを用いて、窒化物半導体層の表面をプラズマエッチングする工程と、そのエッチング領域を、不活性ガスのプラズマに曝すと共に、酸系あるいはアルカリ系の処理液で清浄化する工程と、清浄化されたエッチング領域表面に電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a photolithographic method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a printing method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上に印刷法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a printing method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a photolithographic method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、印刷法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にフォトリソグラフィー法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The process for producing a structure comprises steps of preparing a layered product having, on a substrate 3, a first nonporous layer 1 and a second nonporous layer 2 different in constituting material composition from the first nonporous layer, anodizing the layered product to form pores 5 in the first nonporous layer and the second nonporous layer, and removing the second nonporous layer having pores formed therein from the layered product.例文帳に追加

具体的には、構造体の製造方法において、基板３上に第１の非多孔質層１と、該第１の非多孔質層の構成材料とは組成が異なる第２の非多孔質層２を有する積層体を用意する工程、該積層体を陽極酸化し、該第１及び第２の非多孔質層に孔５を形成する工程、及び該積層体から孔が形成されている該第２の非多孔質層を除去する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a photolithographic method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a photolithographic method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にフォトリソグラフィー法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁