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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5102



例文

The single-step process relates to a method for producing chondroitin polysulfate with an intrinsic viscosity of 0.09-0.18 and an organosulfur content of 25.6-37.3 wt.%, being characterized by comprising adding chlorosulfonic acid to a formamide solution of chondroitin at such a rate that the temperature of the formamide solution is kept at levels lower than 40°C but higher than 15°C.例文帳に追加

本発明の一段階プロセスは、コンドロイチンのホルムアミド溶液に、前記ホルムアミド溶液の温度が40℃より低く且つ15℃より高く保たれる速度でクロロスルホン酸を添加することを特徴とする、0.09〜0.18の固有粘度及び25.8〜37.3%の有機イオウ含有量を有するコンドロイチンポリサルフェートの製造方法に関する。 - 特許庁

The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加

化合物半導体素子が形成されたSiCウエハ1の表面側と、このSiCウエハを保持する支持基板2とを、軟化温度が200℃を超える接着材3により接着した後、上記SiCウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール6を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁

To provide a laminated film which shows superb water vapor/oxygen gas barrier properties and high pinhole resistance, best suitability for working in a process to print/laminate the film when used as various kinds of packaging materials and packaging use almost without change with time in the physical properties such as gas barrier performance and mechanical strength due to moisture absorption under a normal temperature/humidity atmosphere.例文帳に追加

水蒸気バリアー性、酸素ガスバリアー性、耐ピンホール性に優れるとともに、各種包装材料として使用したときに印刷やラミネートなどを行う工程における加工適正が良好であり、また常温・常湿雰囲気下での吸湿によるガスバリア性能や機械強度等の物性の経時変化の少ない包装用途に適したフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive sheet to be pasted on the surface of a semiconductor wafer having a patterning thereon to protect the patterning in a process for processing the semiconductor wafer that causes neither "warpage" nor "cracks" of the wafer when exposed to a high temperature even when the wafer having the pressure-sensitive adhesive sheet pasted thereon is ground very thin.例文帳に追加

パターニングを施した半導体ウェハを加工する工程において、半導体ウェハ表面に貼り合わせることによりパターニングを保護することができる粘着シートであって、粘着シートを貼着したウェハを極薄研削しても、高温下に曝した場合にウェハに「反り」や「割れ」が発生することがない粘着シートを提供する。 - 特許庁

例文

By using InGaSnO_x (4≤x≤5) as a material of the thin-film transistor, an amorphous InGaSnO_x (4≤x≤5) semiconductor can be formed on a flexible board at a room temperature with a wide process window, and the thin-film transistor having high bending strength can be manufactured while suppressing the variations between products at the minimum.例文帳に追加

薄膜トランジスタの活性層の材料としてInGaSnO_x(4≦x≦5)を用いることで、フレキシブル基板上に室温で非単結晶InGaSnO_x(4≦x≦5)半導体を広いプロセスウィンドウで成膜することが可能になり、曲がる薄膜トランジスタを製品間のばらつきを最小限に抑えて作製することが可能になる。 - 特許庁


例文

The manufacturing method comprises a magnet mounting step S1 for mounting a permanent magnet 7 on a rotor core 5, a casting step S2 for forming short circuit bars on the core 5 by a molten metal, and a magnetizing step S3 for magnetizing the magnet 7 by applying a magnetic field to the magnet 7 in a cooling process of the core 5 from a high temperature.例文帳に追加

回転子鉄心5に永久磁石7を装着する磁石装着工程S1と、溶融した金属によって前記回転子鉄心に短絡バーを形成するキャスト工程S2と、前記回転子鉄心の高温からの冷却過程において前記永久磁石7に磁界を印加して着磁する着磁工程S3とを備えた構成とする。 - 特許庁

To provide a PTC (positive temperature coefficient) element that can prevent thermal deterioration of an element body at the time of bonding an electrode plate and a terminal plate with the welting process or the like, and effectively implementing the natural functions of the element without occurrence of decoupling of the electrode plate and terminal plate even when an impact or a pressure is applied to the PTC element.例文帳に追加

電極板と端子板とを溶接等によって接合する際に、素子本体が熱劣化することを防止できると共に、PTC素子に衝撃や圧力が作用したとしても、電極板と端子板との接合が外れることがなく、素子本来の機能を有効に発揮することができるPTC素子を提供すること。 - 特許庁

(A) The oligomer is produced by a continous process from one or more monomers selected from ethylenically unsaturated alkoxysilane monomers and acyloxysilane monomers, and optionally, one or more other ethylenically unsaturated monomers and polymerizing the monomers at a temperature of 150-500°C, and has a degree of polymerization of 2-100, and (B) the curable composition contains the oligomer and a catalyst is obtianed.例文帳に追加

(A)エチレン性不飽和のアルコキシシランおよびアシルオキシシランモノマーからなる群より選択される1種以上のモノマーおよび任意的に1種以上の他のエチレン性不飽和モノマーから、連続プロセスによって製造され、該モノマーが150〜500℃の温度で重合され、2〜100の重合度を有するオリゴマー;ならびに(B)触媒を含む硬化性組成物。 - 特許庁

To provide a fixing device and an image forming device which can securely suppress an excessive temperature rise when small-sized recording media are successively fixed or when the driving of the device suddenly stops, etc., in an electromagnetic induction heating type fixing process, stably maintain high heat generation efficiency, and have small loss of power consumption.例文帳に追加

電磁誘導加熱方式の定着工程において、小サイズの記録媒体を連続的に定着した場合や装置が突発的に駆動停止した場合等であっても過昇温が確実に抑止されるとともに、高い発熱効率が安定的に維持されて、電力消費の損失が少ない、定着装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a film reducing cost of a film manufacturing facility and film manufacturing cost by easily forming thin-film growth nuclei by eliminating a high-temperature process in an atmospheric-pressure environment when forming the thin-film growth nuclei on a substrate without degrading throughput nor generating waste of the thin-film growth nuclei.例文帳に追加

基板上に薄膜成長核を形成する場合に、大気圧環境下で、高温プロセスを排除し、かつスループットを低下させることなく、さらには薄膜成長核の無駄を発生させることなく容易に薄膜成長核を形成することにより膜製造設備のコストの低減及び膜製造コストの低減を図ることができる膜製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

Herein are described methods of making dielectric films containing silicon, such as, but not limited to, silicon oxide, silicon oxycarbide, silicon carbide, and combinations thereof, that exhibit at least one of the following characteristics: low wet etch resistance, a dielectric constant of 6.0 or below, and/or resistance against a high-temperature rapid thermal anneal process.例文帳に追加

ここに記載されるのは、低いウェットエッチ耐性、6.0以下の誘電率、及び/又は高温急速熱アニールプロセス耐性、といった特性のうちの少なくとも1つを示す、酸化ケイ素、酸炭化ケイ素、炭化ケイ素及びこれらの組み合わせなどの、とは言えこれらに限定はされない、ケイ素を含む誘電体膜を形成する方法である。 - 特許庁

To provide a composition for a dielectric thin film capable of a low-temperature process and having high dielectric constant (high-k) characteristics, to provide a metal oxide dielectric thin film formed using the same and its manufacturing method, to provide a transistor element containing the dielectric thin film, and to provide an electronic element including the transistor element and having excellent electrical properties.例文帳に追加

低温工程が可能であるうえ、高誘電率(high-k)特性を持つ誘電薄膜組成物、前記組成物を用いて形成された金属酸化物誘電薄膜およびその製造方法、前記誘電薄膜を含むトランジスタ素子、並びに前記トランジスタ素子を含んでおり、優れた電気的特性を持つ電子素子を提供すること。 - 特許庁

This production method for the polyurethane molded body, after mixing a polyol ingredient, an isocyanate ingredient and a chain extending agent including water and injecting the mixture into a mold, comprises a molding process for centrifugally molding the mixture over a duration of 10 minutes or more with a centripetal acceleration of 290 m/s^2 or more and at a temperature of 90°C or higher.例文帳に追加

ポリウレタン成型体の製造方法において、ポリオール成分及びイソシアネート成分、並びに水を含む鎖延長剤を混合して型内に注入した後に、求心加速度290m/s^2以上で、90℃以上で10分間以上遠心成型する成型工程を含むことを特徴とするポリウレタン成型体の製造方法。 - 特許庁

This adhesive tape is fabricated such that a fabric cloth of wooly processed polyester yarns is sandwiched between a layer of high density polyethylene and low density polyethylene on one side and a layer of low density polyethylene added with a heat-fusible resin and a low density polyethylene layer on the other side, formed as a laminate by a low temperature lamination process, and an adhesive layer is provided outside thereof.例文帳に追加

ウーリー加工したポリエステル糸による織布を挟んで一方に高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレン層、他の一方に低密度ポリエチレンに、熱溶着樹脂を添加した層並びに低密度ポリエチレン層を、低温ラミネート形成法により積層体として形成し、その外側に粘着剤層を設けている粘着テープ。 - 特許庁

The raw molded body is placed in a single furnace and fired in an oxidative atmosphere in the process wherein the firing temperature is raised up over about 1,150°C, than, kept in a reduction firing atmosphere containing carbon monoxide at about 1,150-1,350°C, then they are tightly sealed and cooled down.例文帳に追加

原料の成形体を、単独炉におき、約1150℃以上の温度に昇温する過程は酸化焼成雰囲気で焼成し、続いて、約1150℃〜1350℃の温度で一酸化炭素が存在する還元焼成雰囲気に保持した後、密封した状態で冷却するソフトフェライトを担持させた電磁波吸収用陶磁器質材料の製造方法。 - 特許庁

In the process of manufacturing the liquid crystal display device including a matrix of scan lines and signal lines arranged on a substrate, TFT connected to these lines and pixel electrodes connected to TFT with an applied interlayer insulation film, the temperature of the substrate at the formation of the transparent conductive film on the interlayer insulation film is regulated within 100-170°C.例文帳に追加

基板上にマトリクス状に配置された走査線及び信号線と、これらに接続されるTFTと、TFTに塗布系の層間絶縁膜を介して接続された画素電極とを有する液晶表示装置の製造方法において、層間絶縁膜上へ透明導電膜を成膜する際の基板温度を、100〜170℃とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a crystalline thermoplastic resin molded object improved in heat-resistant rigidity, by improving the degree of crystallization of a thermoplastic resin and fusion peak temperature due to DSC in a process for molding the crystalline thermoplastic resin, and to provide the thermoplastic resin molded object improved in heat-resistant rigidity obtained thereby.例文帳に追加

、結晶性の熱可塑性樹脂の成形工程において、熱可塑性樹脂の結晶化度、DSCによる融解ピーク温度の改良を行うことにより、耐熱剛性の改良された熱可塑性樹脂成形体を製造する方法、及び、それによって得られた耐熱剛性の改良された熱可塑性樹脂成形体の提供 - 特許庁

In the process for producing a semiconductor substrate by epitaxially growing an SiGe epitaxial layer containing Ge at a set concentration and a silicon thin film sequentially on an SOI substrate and then performing heat treatment a plurality of times at a specified temperature in an oxidizing atmosphere, a silicon thin film is formed after the oxide film is removed.例文帳に追加

SOI基板上に設定した濃度のGeを含むSiGeエピタキシャル層とシリコン薄膜とを順次エピタキシャル成長を形成し、次に酸化雰囲気下で所定の温度と時間で熱処理を複数回行なった基板において、酸化膜を除去した後にシリコン薄膜を形成したことを特徴とする半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

In this system, the component concentration measurement of an aqueous solution of salts can be executed by using an unsaturated solution prepared by diluting by 10 to 7 times with water the aqueous solution of salts of high temperature and a high concentration such as the liquid in a boiling-dry can in a salt manufacturing process by an ATR method (attenuated total reflectance method) by an infrared spectrophotometer.例文帳に追加

赤外分光光度計によるATR法(全反射減衰法)により、製塩工程におけるせんごう缶の缶内液のように、高温度でかつ高濃度の塩類水溶液を、水で10/7倍に希釈することにより調製した未飽和溶液を用いて、該塩類水溶液の成分濃度測定が可能であることを見出した。 - 特許庁

To fully secure accuracy in flow rate detection, even when environmental temperature varies and to hold down the nonuniformity in sensitivity among products, without providing a process for sensitivity correction before shipment of the products, in a thermal flow sensor which detects the flow rate of a test fluid, using a heat resistor and a pair of thermometric resistors.例文帳に追加

発熱抵抗体および1対の測温抵抗体を用いて被検流体の流量検出を行う熱式流量センサにおいて、環境温度が変化した場合でも、流量検出の精度を十分に確保し、かつ、製品出荷前に感度補正のための工程を設けなくても、製品間における感度のバラツキを抑制可能とする。 - 特許庁

This method for producing the ingredient-containing dry soup comprises the following process: pushing frozen molded ingredients into a soup base cooled to have thickness so as to expose its surface followed by subjecting the soup base with the ingredients to freeze dry to be preservable in normal temperature to obtain the dry soup having no burdensome work when eaten, good restitution, flavor, color and palate feeling.例文帳に追加

冷却して高粘度化したスープベースに、凍結済みの成型具材を、その表面が露出するように押し込んだ後、凍結乾燥に供することにより、常温保管が可能であって、喫食に際して煩わしい作業を伴うことが無いうえ、良好な復元性を備え、且つ、スープ本来の風味、色調、及び、食感を有する乾燥スープが得られる。 - 特許庁

The method preferably includes a heat recovery process where a reaction liquid and/or a reaction gas of which the temperature is raised by reaction heat obtained from the reaction of the chlorine in the chlorine-containing 1,2- dichloroethane with the ethane are subjected to heat recovery and utilized for preheating the chlorine-containing 1,2-dichloroethane and/or the ethylene, and/or for heat sources of other processes.例文帳に追加

好ましくは、塩素を含有する1,2—ジクロロエタン中の塩素とエチレンを反応させて得られる反応熱により温度上昇した反応液及び/又は反応ガスを、塩素を含有する1,2—ジクロロエタン及び/又はエチレンの予熱、及び/又は他プロセスの熱源として熱回収する工程を有する1,2—ジクロロエタンの製造方法。 - 特許庁

To achieve early first print time by accelerating temperature up of a heating roller even in an image forming apparatus in which an image carrier in a printer engine, a member to be interlocked with the image carrier, a resist member and a heat fixing member are driven by driving force of a single driving source, as well as to perform process control with proper timing.例文帳に追加

適正なタイミングでプロセス制御を行なうとともに、プリンタエンジンにおける像坦持体およびこの像坦持体の動作に連動すべき部材とレジスト部材と加熱定着部材とを単一の駆動源の駆動力によって駆動する画像形成装置であっても加熱ローラの昇温を早めてファーストプリント時間を早くする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the steel stock for spring by subjecting a billet of spring steel to hot rolling and cooling, the steel billet is kept under the thermal environment in the temperature region higher than its A3 transformation point during the whole process from the initiation of the hot rolling to its finishing, and the cooling is performed at (0.5 to 3.0)°C/s cooling rate.例文帳に追加

ばね鋼の鋼片を熱間圧延したのち冷却してばね用鋼材を製造する方法において、熱間圧延の開始から終了までの全過程で、鋼片はそのA3変態点より高い温度域の熱環境下にあり、かつ、冷却は、0.5〜3.0℃/秒の冷却速度で実施されるばね用鋼材の製造方法。 - 特許庁

To obtain an image forming device by which a load imposed on non- magnetic toner can be remarkably reduced in the case of development, low stress coat capable of coping with toner for low temperature fixing can be realized, a toner layer without including reversal toner, etc., can be formed on a developing roller and cleanerless image forming process can be realized when a color image is formed by the development by plural developing devices.例文帳に追加

複数の現像器による現像でカラーの画像形成を行うに際し、現像時に非磁性トナーにかかる負荷を著しく低減して、低温定着用トナーにも対応可能な低ストレスコートを実現し、現像ローラ上に反転トナー等を含まないトナー層を形成でき、クリーナレスな画像形成工程を実現できる等の画像形成装置である。 - 特許庁

When a indication for revision is inputted (S12), environmental information on the voltage of a battery as the power source and peripheral temperature is obtained (S14) and when the environment meet certain conditions (S16), the clock frequency, communication speed, etc., are switched to values higher than usual (S18), so that the revision process is performed fast (S20).例文帳に追加

そこで、バージョンアップの指示が入力された場合(S12)、電源であるバッテリの電圧や周辺温度などの環境情報を取得し(S14)、環境が一定の条件を満足していれば(S16)、クロック周波数や通信速度などを通常時よりも高い値に切り替えることにより(S18)、バージョンアップ処理を高速に実行する(S20)。 - 特許庁

When manufacturing a solid-state electrolytic capacitor using a derivative of polythiophene (polyethylenedioxithiophene), after the cut portion of the anode foil 2 and an oxide coating film 2a of a capacitor element are recovered (S4), the capacitor is immersed in an oxidant solution diluted by a solvent for 30 seconds at room temperature and thus the oxidant is impregnated into the capacitor element (S5, oxidant impregnation process).例文帳に追加

ポリチオフェンの誘導体(ポリエチレンジオキシチオフェン)を用いた固体電解コンデンサを製造する場合、コンデンサ素子の陽極箔2の切り口および酸化皮膜2aの修復を行った後(S4)、溶媒により希釈した酸化剤溶液に室温で30秒間浸漬し、コンデンサ素子に酸化剤を含浸させる(S5、酸化剤含浸工程)。 - 特許庁

The method for producing the polyester multifilament high- density woven fabric comprises the following process: the warps for the fabric are made twistless or subjected to low twisting ≤5,000 in twist multiplier, then sized with an acrylic sizing agent 3-18 wt.% in concentration and ≤10 mPas in viscosity, and then drying the sized product at a temperature of as low as70°C.例文帳に追加

織物を構成する経糸には無撚若しくは撚係数5000以下の甘撚を施し、次いで糊剤濃度が3%から18%、糊剤粘度が10mPas以下のアクリル系の糊剤を使用してサイジング或いは糊付けを行い、70℃以下の低温で乾燥させることを特徴とするポリエステルマルチフィラメント高密度織物の製造方法。 - 特許庁

To provide a silicon production process of supplying trichlorosilane to a reactor while circulating hydrogen gas to produce silicon in the reactor, in which problems caused by leakage due to condensation of trichlorosilane included in a discharged hydrogen gas or temperature elevation due to compositional changes in the gas are effectively eliminated and silicon is continuously and stably produced.例文帳に追加

水素ガスを循環しながらトリクロロシランを反応器に供給して反応器内にシリコンを生成させるシリコン製造プロセスにおいて、排出される水素ガス中に含まれるトリクロロシランなどの凝縮による漏洩や、ガスの組成変動による温度上昇による不都合が有効に解消され、シリコンの製造を連続して安定に行う。 - 特許庁

In the process for fabricating a semiconductor device where the shape of skin surface is detected by detecting the capacitance of the skin surface and a conductive film through a silicon nitride and polyimide film of passivation film, a polyimide film having a thickness of 400-700 nm is formed on the uppermost layer of the semiconductor device at a temperature of 350-380°C.例文帳に追加

パシベーション膜である窒化シリコン及びポリイミド膜を介して皮膚表面と導電膜との容量を検出し、皮膚表面の形状を検出する半導体装置の製造方法において、その半導体装置の最上層に膜厚が400nm以上700nm以下のポリイミド膜を硬化温度を350℃以上380℃以下で形成する。 - 特許庁

A thermoplastic resin and an organic compound which are contained in the formation for powder compacting as a binder is combined so that gasification and removal of the organic compound may be completed at the temperature of under the Vicat softening point that the thermoplastic resin has, in the degreasing process of the compacted article using the formation for powder compaction.例文帳に追加

粉末成形用組成物に含まれるバインダーの熱可塑性樹脂と有機化合物とを、この粉末成形用組成物を用いた成形体の脱脂工程の際、有機化合物の気化および除去が熱可塑性樹脂の有するビカット軟化点の温度未満の温度で完了する熱可塑性樹脂と有機化合物との組み合わせとする。 - 特許庁

The information equipment is allowed to process plural information including prescribed data such as time, azimuth and temperature belonging to each information on the basis of the prescribed data to express the information and provided with a display part for displaying a scale axis 1006b setting up each of the prescribed data as each scale.例文帳に追加

本発明の情報機器は、その各々について時刻、方位、温度等その他所定のデータが帰属された複数の情報を、当該所定のデータに基づいて取り扱い可能なものであって、前記情報を表現するとともに前記所定のデータの各々を各目盛りとした目盛り軸1006bを表示する表示部113が備えられる。 - 特許庁

The dipping treatment method including a process of performing dipping treatment (for example, anodization), and cleaning/drying to a substrate in which a metal film is formed as a thin film comprises a step for determining the start time for performing drying; and a step of determining time for turning on a heater so that a specified temperature is reached at the starting time.例文帳に追加

薄膜として金属膜が形成された基板に対して浸漬処理(例えば陽極酸化),洗浄及び乾燥を行なう工程を含む浸漬処理方法であって、乾燥を行なうための開始時間を決定するステップと、前記開始時間に所定の温度になるようにヒータをオンする時間を決定するステップと、を具備したものである。 - 特許庁

The resin composition for pavement comprises, at the least, an ethylene-vinyl acetate copolymer having 25-45 wt.% vinyl acetate content, 40-100°C melting temperature and ≥400 g/10 minutes melt flow rate, petroleum process oil having 20-40% carbon content (CA) derived from an aromatic ring, and a teleblock polymer.例文帳に追加

酢酸ビニルの含有量が25〜45重量%であり、溶融温度が40〜100℃であってメルトフローレートが400g/10min以上のエチレン酢酸ビニル共重合体と、芳香族環由来の炭素の含有量(CA)が20〜40%の石油系プロセスオイルと、テレブロックポリマーとを少なくとも含むことを特徴とする舗装用樹脂組成物である。 - 特許庁

Before forming a second layer insulation film on the upper side of a tungsten wiring, the thermal budget at a maximum temperature C of 600°C or more to be loaded in process steps after forming the tungsten wiring film is applied beforehand, to avoid forming an unstable atomic configuration in the tungsten wiring, thereby relaxing the stress of the tungsten wiring and compacting it.例文帳に追加

タングステン配線上部に第二の層間絶縁膜が成膜される前に、該タングステン配線成膜後の工程で負荷される最高温度C、すなわち600℃以上の熱履歴をあらかじめ施すことで、タングステン配線の内部に不安定な原子配列が形成されるのを防止し、タングステン配線の応力緩和と緻密化を図る。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor free from an image defect such as fogging, a black spot and environmental memory and void by improving the temperature and humidity change of charging characteristic and sensitivity characteristic when using titanyl phthalocyanine pigments, and to provide an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the organic photoreceptor.例文帳に追加

本発明の目的は、チタニルフタロシアニン顔料等を用いた場合の帯電特性、感度特性の温湿度変化を改良し、カブリ、黒ポチ、環境メモリ、白ヌケ等の画像欠陥の発生がない有機感光体を提供することであり、該有機感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

A heating control means of the rice cooker inputs the output from a preliminary immersing time measuring means, whose measurement is started by an outer lid opening time clocking means, and automatically controls a heating means so that the water absorption rate of rice reaches the saturation state when the water absorbing process terminates, being not more than 30%, and the water temperature is 40-60°C.例文帳に追加

加熱制御手段は、外蓋開放時間計測手段により測定開始される予備浸漬時間測定手段からの出力を入力として、吸水工程終了時に米の吸水率が飽和状態まで達しており、かつ吸水率30%以下、かつ水温が40〜60℃になるように加熱手段を自動制御するものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a carbonaceous thin-film electrode doped with a metal element, which is excellent in charge and discharge cycle property, can realize high capacity, a negative electrode material for a nonaqueous electrolyte secondary cell and a nenaqueous electrolyte secondary cell, by a low temperature heat treatment process without relying on a binder forming method which causes lowering of operation reliability.例文帳に追加

作動信頼性の低下をもたらすバインダー成形法に頼ることなく、低コストの低温熱処理プロセスによって、充放電サイクル特性に優れかつ大容量を発現しうる金属元素をドープしたカーボン薄膜電極の作製法、非水電解液二次電池用負極材および非水電解液二次電池を提供する。 - 特許庁

To provide an electrically conductive multifilament yarn having a low change in electrical resistivity and rigidity to a temperature-humidity change in a heat treatment process in a brush production or long-term use, and excellent electrical resistivity and shape stability in use as a brush for contact electrification and cleaning and carrying out excellent electrification or cleaning for a long period of time.例文帳に追加

ブラシ作成時の熱処理工程や長期間の使用における温湿度変化に対して電気抵抗値及び剛性の変化が小さく、接触帯電用やクリーニング用のブラシとして用いると、電気抵抗値及び形態の安定性に優れ、良好な帯電やクリーニングを長期間行うことができる導電マルチフィラメント糸を提供する。 - 特許庁

A method for producing a barium titanate crystal includes removing an organic component from a solution in which Ba alkoxide, Ti alkoxide, and KF are mixed, by a sol gel process at a temperature below 1,000°C, thereby obtaining a crystal powder in which a part of Ba in a BaTiO_3 crystal is replaced by K and a part of O is replaced by the same amount of F.例文帳に追加

BaアルコキシドとTiアルコキシドとKFとが混合された溶液を、ゾルゲル法によって、1000℃未満の温度で有機分を除去することにより、BaTiO_3結晶のBaの一部がKにOの一部がKと同量のFに置換された結晶粉末を得ることを特徴とするチタン酸バリウム系結晶の製造方法である。 - 特許庁

In the second process, UO2 powder and U3O8 monocrystal are mixed to produce stuff powder and the stuff powder with U3O8 monocrystal of 1 to 15 wt.% is granulated and molded to produce green pellets, which is sintered in reducing gas atmosphere for more than 1 hour at the temperature of 1600°C or higher.例文帳に追加

第2の工程では、UO_2粉末と前記U_3O_8単結晶とを混合し原料粉末に製造するが、前記原料粉末の中からU_3O_8単結晶の量を1〜15重量%にして、原料粉末を顆粒にした後成形しグリーンペレットを製造して、グリーンペレットを1600℃以上の温度で1時間以上還元性気体雰囲気で焼結する。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device and its manufacturing method wherein no copper corrosive cracking on a conductor pattern occurs, nor thickness abnormality on a pure tin part in a tin plating layer occurs, while an insulating film such as a high temperature hardening solder resist can be adopted without increasing the number of processes and complicating a manufacturing process.例文帳に追加

導体パターンの銅食われや錫めっき層における純錫部の厚さ異常を生じる虞がなく、かつ工程数の増大や製造工程の煩雑化等を招くことなしに高温硬化型のソルダレジストのような絶縁性被膜を採用することができる半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the ethylene copolymer resin is the high-pressure polymerization process to produce the ethylene copolymer resin and is characterized as follows: the temperature of a molten resin at a heat exchanger placed at the outlet of a high-pressure polymerization reactor retains at least 230°C and a fine-meshed filter is attached to a palletizing extruder which palletizes the molten resin.例文帳に追加

高圧重合法によるエチレン共重合体樹脂を製造する方法であって、高圧重合反応器出口に設けられた熱交換器での溶融樹脂温度を少なくとも230℃以上に保つこと、かつ該溶融樹脂を造粒成型する造粒押出機に微細フィルターを設けることを特徴とするエチレン共重合体樹脂の製造方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for catalytically cracking waste plastic, wherein the efficiency in decomposition is high, even polyethylene composed of linear chain molecules difficult in decomposition is decomposable at a low temperature, decomposed residue is hardly produced, the process is simple, and a high energy efficiency of 50% or above in terms of net yield of oil is achieved.例文帳に追加

分解反応効率に優れ、分解し難い直鎖分子のポリエチレンであっても低温で分解することができ分解残渣がほとんど生じることがなく、またプロセスが簡潔であり油分純収率で50%以上の高いエネルギ効率を実現できる廃プラスチックの接触分解方法及び接触分解装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device using a novel polyorganosiloxane composition which is excellent in photosensitive characteristic to a UV i-line and adhesion to an organic thin film, can be cured at a low temperature of 250°C or less, allows extremely small volume shrinkage in a process of this heat-curing, and also has excellent low degassing property in a resin structure and a resin film after heat-curing.例文帳に追加

UV−i線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、250℃以下での低温硬化が可能であり、この加熱硬化の過程での体積収縮が極めて小さく、更に加熱硬化後の樹脂構造体および樹脂膜において、低デガス性に優れる新規なポリオルガノシロキサン組成物を用いた半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a toner that responds to a low temperature fixing system, shows good offset resistance and forms high quality images having good sharpness for a long period of time without contaminating a fixing device or images, and to provide a developer using the toner, a toner container, a process cartridge and an image forming method.例文帳に追加

本発明は低温定着システムに対応し、耐オフセット性が良好であり、定着装置及び画像を汚染することがなく、鮮鋭性の良好な高品質画像を長期にわたり形成することができるトナー並びに、該トナーを用いた現像剤、トナー入り容器、プロセスカートリッジ、及び画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the process A, a film-forming material is supplied (202) to allow inorganic starting gas to attach to the substrate being unreacted during the heating of the substrate up to a film-forming temperature, and an oxygen radical is supplied to the substrate for performing (203) RPO (remote plasma oxidation) treatment to form the first film layer thereon.例文帳に追加

第1薄膜層形成工程Aは、基板温度を成膜温度まで昇温させる基板昇温加熱の途中で、有機原料ガスを基板上に未反応のまま付着させる成膜原料供給を行なった後(202)、酸素ラジカルを基板上に供給して第1の薄膜層を形成するRPO(リモートプラズマ酸化)処理を行なう(203)。 - 特許庁

To provide the device structure of a superconducting random access memory of ultra high speed and a large scale, of which the high temperature process can be employed for most of manufacturing processes, a memory cell can be miniaturized, an inductance can be efficiently formed on a DC bias current supply line, and a magnetic field is not affected by the bias current.例文帳に追加

大部分の製造工程に高温プロセスを採用することができ、また、メモリセルの小型化が可能であり、さらに、直流のバイアス電流供給線路に効率的にインダクタンスを形成でき且つこのバイアス電流による磁場の影響を受けない、超高速で、大規模な、超伝導ランダムアクセスメモリのデバイス構造を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner excellent in chargeability and transferability even when used in a low-speed through high-speed process, free of variation in offset occurrence temperature even in oilless fixing, and excellent in long-term cleanability of residual toner on a photoreceptor in blade cleaning, and to provide a method for manufacturing the same and an electrostatic latent image developer.例文帳に追加

低速から高速プロセスに使用された場合においても、帯電性、転写性に優れ、オイルレス定着においてもオフセット発生温度のばらつきがなく、かつブレードクリーニングにおける感光体上の残存トナーの長期に渡るクリーニング性に優れる静電潜像現像用トナー及びその製造方法、並びに静電潜像現像剤を提供することである。 - 特許庁

例文

The hollow fiber membrane can be used for a separation process in a high pressure owing to its pressure resistance, used for separation of the organic solvent at high temperature owing to its dimensional stability, and also is applicable to various application fields owing to its conductivity.例文帳に追加

本発明によれば、膜の耐圧性により高圧下における分離工程に中空糸膜を使用することができ、膜の寸法安定性により高温下における有機溶媒分離に中空糸膜を使用することができるだけではなく、膜の伝導性により中空糸膜を種々の応用分野に適用することができるという効果がある。 - 特許庁




  
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