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processing layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3235



例文

To provide an adhesive sheet sufficiently preventing a winding mark from being transferred to an adhesive layer when winding the adhesive sheet having the adhesive layer formed into a prescribed plane shape by pre-cut processing or the like into a roll shape, and also sufficiently preventing voids from being formed by rolling air in when pasting the adhesive layer to an adherend.例文帳に追加

プリカット加工などにより所定の平面形状に形成された接着剤層を有する接着シートをロール状に巻き取った場合において、接着剤層に巻き跡が転写されることを十分に抑制し、被着体に接着剤層を貼り付ける際に空気の巻き込みによるボイドの発生を十分に抑制することが可能な接着シートを提供する。 - 特許庁

In the adhesive tape for processing wafer having a radiation curable adhesive layer on a base material resin film, the adhesive force of the adhesive layer in the adhesive tape to the silicon wafer mirror surface is 2.0-35 N/25 mm before radiation curing, and the pure water contact angle of the adhesive layer surface is 85° or more.例文帳に追加

基材樹脂フィルム上に放射線硬化性の粘着剤層を有するウェハ加工用粘着テープであって、該粘着テープにおける粘着剤層のシリコンウェハミラー面に対する放射線硬化前の粘着力が2.0〜35N/25mmで、かつ粘着剤層表面の純水接触角が85°以上であることを特徴とする脆性ウェハ加工用粘着テープである。 - 特許庁

In a neat construction method wherein a resin binder layer is formed on a road surface, the aggregate is scattered from thereon and a resin top coat layer is provided thereon, the above problem is solved by providing the neat construction method and the pavement body having the surface processing layer constructed by the improved neat construction method.例文帳に追加

路面上に樹脂結合材層を形成し、その上から骨材を散布し、更にその上に樹脂トップコート層を設けるニート工法において、結合材として樹脂に代えてアスファルト乳剤を使用する改良型ニート工法、及び、そのような改良型ニート工法によって構築される表面処理層を有する舗装体を提供することによって上記課題を解決する。 - 特許庁

A pattern formed photoresist layer produced from this positive photoresist composition is formed on a substrate, this positive photoresist layer is exposed with an irradiation pattern for imaging, and parts exposed with the irradiation pattern for imaging in the positive photoresist layer are removed, whereby the corresponding pattern formed substrate can be exposed and is prepared for subsequent processing of semiconductor device production.例文帳に追加

このポジ型フォトレジスト組成物から作られたパターン形成されたフォトレジスト層を基板上に形成し、このポジ型フォトレジスト層を結像用照射パターンで露光し、ポジ型フォトレジスト層のうち結像用照射パターンで露光された部分を除去して、対応するパターン形成された基板を露出させることができ、半導体デバイス製造のその後の処理に備える。 - 特許庁

例文

To provide a microcapsule film which does not require release processing on a film support when applying a microcapsule layer of a microcapsule type electrophoretic display panel and does not require an adhesive layer when bonding a film-like material having the microcapsule layer to a color filter or the like, a forming method thereof, and a microcapsule type electrophoretic display panel and a display device which use the microcapsule film.例文帳に追加

マイクロカプセル型電気泳動表示パネルのマイクロカプセル層を塗布する場合にフィルム支持体への離型処理を必要とせず、マイクロカプセル層があるフィルム状の物をカラーフィルタ等と貼り合わせる場合に接着層も必要としないマイクロカプセルフィルムとその製造方法、これを用いたマイクロカプセル型電気泳動による表示パネルおよび表示装置を提供する。 - 特許庁


例文

A technique of processing a high-quality organic field effect device comprises steps of: depositing from a solution an organic semiconductor layer 3; and depositing from a solution a layer 2 of low permittivity insulating material forming at least a part of a gate insulator, such that the low permittivity insulating material is in contact with the organic semiconductor layer 3, in which the low permittivity insulating material is of relative permittivity from 1.1 to below 3.0.例文帳に追加

溶液から有機半導体層3を堆積させる工程、および、溶液から低誘電率絶縁材料の層2を堆積させて、その低誘電率絶縁材料が上記有機半導体層3と接触するようにゲート絶縁体の少なくとも一部を形成する工程を含み、上記低誘電率絶縁材料は比誘電率が1.1から3.0未満とする。 - 特許庁

A program makes a computer 10 managing folders with files belonging thereto in a tree structure perform a step S104 of specifying an upper folder on a layer above a layer, by at least one layer, having a predetermined folder managed in the tree structure, and a step S501 of making a file belonging to a dependent folder depending on the upper folder in the tree structure a processing target.例文帳に追加

ファイルが属するフォルダを、ツリー構造をもって管理するコンピュータ10に、ツリー構造によって管理されている所定のフォルダから、ツリー構造を少なくとも1階層遡った上位フォルダを特定するステップS104と、ツリー構造において、上位フォルダに従属する従属フォルダに属するファイルを、処理対象とするステップS501と、を実行させる。 - 特許庁

The cross section observing method comprises; a marker layer forming step of forming a marker layer whose conductivity differs from other portions of a substrate, on the substrate; a processed object forming step of forming the processed object by processing the substrate on which the marker layer is formed; and a secondary electron detecting step of detecting secondary electrons generated by irradiating the cross section of the processed object with electrons.例文帳に追加

基材に基材の他の部分とは導電率が異なるマーカー層を形成するマーカー層形成工程と、マーカー層が形成された基材に対して処理を行なって被処理物を形成する被処理物形成工程と、被処理物の断面に電子を照射することにより発生した二次電子を検出する二次電子検出工程とを含む断面観察方法である。 - 特許庁

A laminated layer body has a conductive multilayer film composed by laminating a hard coat layer, a metallic thin film and a metal oxide film on at least a triacetylcellulose film base material, wherein only the opposite side face of the side on which the hard coat layer of the triacetylcellulose film base material is provided receives a saponification processing.例文帳に追加

少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上に、ハードコート層、金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を有する積層体であって、前記トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみがケン化処理されていることを特徴とする反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを備えたディスプレイである。 - 特許庁

例文

The manufacturing method of another embodiment of the LED package includes steps of forming the fluorescent layer with a predetermined thickness; forming the fluorescent grid structure in the ink-jet processing which uses an ink with the fluorescent powder contained therein, on the fluorescent layer; and arranging the fluorescent layer on which the fluorescent grid structure has been formed, on the LED chip.例文帳に追加

また、本発明は所定の厚さを有する蛍光層を形成する段階と、前記蛍光層上に蛍光体粉末が含まれたインクを使用するインクジェット工程により格子構造の蛍光体を形成する段階、前記格子構造の蛍光体が形成された蛍光層をLEDチップ上部に配置する段階を含むLEDパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a laminated article, capable of preventing the occurrence of deflection and wrinkle on a surface layer sheet when a laminated article having laminate and the surface layer sheet partially joined to the laminate is manufactured, and capable of preventing adverse effects on a surface of the laminate that faces the surface layer sheet by processing by a laser beam.例文帳に追加

積層体と該積層体に部分的に接合された表層シートを有する積層物品を製造するに際し、表層シートにたわみやしわが発生することを防止することができると共に、レーザー光による加工が、前記積層体における表層シートの対向面に対して悪影響を与えることも防止することができる、積層物品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a release layer disposed on a mold for transferring a prescribed rugged pattern to a material to be transferred by imprinting, surface free energy is optimized by changing the surface free energy of the release layer due to processing by energy for the purpose of charging the material to be transferred via the release layer into a recess of the rugged pattern on the mold.例文帳に追加

インプリントにより所定の凹凸パターンを被転写物に転写するためのモールドに設けられる離型層において、前記モールドにおける前記凹凸パターンの凹部に前記離型層越しで前記被転写物を充填するため、エネルギーによる処理によって前記離型層の表面自由エネルギーを変動させることによる表面自由エネルギーの最適化がなされている。 - 特許庁

To provide an insulation wire that reduces damage to an insulation layer of the insulation wire and sufficiently follows excessive bending and extension even when the insulation wire is inserted into a slot part in an overcrowded state in a coil processing process for the insulation wire by imparting superior lubricity to an insulation layer surface of the insulation wire and also greatly improving flexibility of the insulation layer.例文帳に追加

絶縁電線の絶縁層表面に優れた潤滑性を付与し、かつ絶縁層の可とう性を大幅に向上させることにより、絶縁電線のコイル加工工程において、絶縁電線をスロット部に過密に挿入しても絶縁電線の絶縁層の損傷を低減させることができ、また過度の曲げや伸びに対し十分に追従する絶縁電線を提供する。 - 特許庁

In this electrophotographic photoreceptor where the conductive base substance 2 to which the centerless grinding processing is performed, an under coating layer 4 incorporating metallic oxide particulates and a photoreceptive layer 3 are successively laminated, the surface roughness of the base substance 2 is 1 to 15 μm and the film thickness of the layer 4 is set to be twice or more as large as the surface roughness of the base substance 2.例文帳に追加

センタレス研削処理が施された導電性基体2と、金属酸化物微粒子を含有する下引き層4と、感光層3とが順次積層された電子写真感光体であって、導電性基体2の表面粗度が1〜15μmであり、且つ下引き層4の膜厚が導電性基体2の表面粗度の2倍以上であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet capable of sufficiently suppressing transfer of winding marks onto an adhesive layer, also sufficiently suppressing the generation of voids due to entraining of air by winding when pasting the adhesive layer onto an adherend, in the case of winding the adhesive sheet, which has an adhesive layer formed in a prescribed planar form by pre-cut processing or the like, in rolled state.例文帳に追加

プリカット加工等により所定の平面形状に形成された接着剤層を有する接着シートをロール状に巻き取った場合において、接着剤層に巻き跡が転写されることを十分に抑制し、被着体に接着剤層を貼り付ける際に空気の巻き込みによるボイドの発生を十分に抑制することが可能な接着シートを提供する。 - 特許庁

In a magnetic recording medium 10 of which a magnetic layer 2 consisting of a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective layer 3 are formed in order on a non magnetic support 1, a lubricant which is combined the compound of a perfluoropolyether having carboxyl group at its end and amine with a partial earboxylic acid alkyl ester fluoride is held on the carbon protective layer 3 treated at an ultraviolet-rays irradiation processing under inert gas atmosphere.例文帳に追加

非磁性支持体1上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層2、カーボン保護膜3が順次形成されて成る磁気記録媒体10において、不活性ガス雰囲気下で紫外線照射処理を施したカーボン保護層3に、末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルとアミンとの化合物と、部分フッ化カルボン酸アルキルエステルとを組み合わせた潤滑剤を保持させる。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of blowing a fluid on a surface of a processing-target substrate including a semiconductor substrate; forming a protective layer on the surface of the processing-target substrate, after the fluid blowing step; and performing removing and processing operation with respect to a region of the substrate with the protective film being selectively removed.例文帳に追加

半導体基板を含む被処理基板の表面に流体を吹き付ける工程と、前記流体を吹き付ける工程の後、前記被処理基板の表面に保護層を形成する工程と、前記保護層をエネルギービームにより選択的に除去する工程と、前記被処理基板における、前記保護膜が選択的に除去された領域に対して、除去加工を行う工程と、を具備する。 - 特許庁

An ejection test film obtained by forming a recording processing liquid accepting layer with 8 pigment compound to be discolored according to the pH change such as bromo thymol blue dispersed in a binder component such as a resin formed On a film base material is used for judgment of the ejection state by ejecting a recording processing liquid onto the film for discoloration so that the impact position of the recording processing liquid is confirmed by visual observation.例文帳に追加

フィルム基体上に、樹脂等バインダー成分にブロモチモールブルー等のpH変化によって変色する色素化合物を分散させた記録処理液受容層を形成してなる吐出検査フィルムを用い、該フィルム上に記録処理液を吐出させて変色させることにより、記録処理液の着弾位置を目視により確認し、吐出状況の良否を判断する。 - 特許庁

A pneumatic powder transport system 400 connected to a process chamber in the apparatus for supplying the powder into the process chamber, a supply line to the apparatus for transporting a virgin powder to a powder processing unit and a powder non-processing unit, and the powder processing unit in which build process for each layer to manufacture the three-dimensional article is carrier out.例文帳に追加

三次元物品を製造するための層毎の構築プロセスがその中で行われる、装置内のプロセス・チャンバ;プロセス・チャンバ中に粉末を供給するための、装置への供給ライン;供給ラインに連結された粉末処理ユニットレおよび粉末処理ユニットにバージン粉末を搬送するための、粉末処理ユニットに連結された空気圧粉末搬送システム400を備える。 - 特許庁

In one embodiment, a method for forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer comprises: dynamically ramping up a silane gas supplied in a gas mixture to a surface of a substrate disposed in a processing chamber; dynamically ramping down an RF power applied in the gas mixture supplied to the processing chamber to form a plasma in the gas mixture; and forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer on the substrate.例文帳に追加

一実施形態では、真性微結晶シリコン層を形成する方法は、加工チャンバ内に配置された基板の表面へガス混合物中で供給されるシランガスを動的に増加させるステップと、加工チャンバへ供給されるガス混合物中で印加されるRF電力を動的に減少させて、ガス混合物中でプラズマを形成するステップと、基板上に真性微結晶シリコン層を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The photographic element comprises a support bearing one or more hydrophilic colloidal layers including at least one photographic silver halide emulsion layer, wherein sequestered silver ions are contained in at least one hydrophilic colloidal layer in the form of a silver ion-containing material that sequesters silver ions before photographic processing and releases silver ions when exposed to a photographic processing solution.例文帳に追加

少なくとも一層の写真ハロゲン化銀乳剤層を含む一層以上の親水性コロイド層を支承する支持体を含む写真要素であって、当該写真要素には、隔離された銀イオンが、写真処理前では銀イオンを隔離して、写真処理溶液に曝されると銀イオンを放出する銀イオン含有材料の形態で、少なくとも一層の親水性コロイド層に含まれている写真要素。 - 特許庁

The method includes a step of bonding the adhesive agent layer for the laser processing protection sheet to the laser beam incident surface side of the article to be processed, a step of processing the laser processing protection sheet and the article to be processed by irradiating the same with a laser beam, and a step of separating the laser processing protection sheet from the article to be processed after the processing.例文帳に追加

基材上に少なくとも粘着剤層を有しており、かつ使用する被加工物の密度に対する前記基材の密度(密度比=レーザー加工用保護シートの基材の密度/使用する被加工物の密度)が1以上であるレーザー加工用保護シートを使用し、前記被加工物のレーザー光入射面側に該レーザー加工用保護シートの粘着剤層を貼付する工程、レーザー光を照射してレーザー加工用保護シート及び被加工物を加工する工程、レーザー加工用保護シートを加工後の被加工物から剥離する工程を含むレーザー加工品の製造方法。 - 特許庁

The photographic film unit for a color diffusion transfer process comprises a photosensitive element with a dye forming compound and a silver halide emulsion on a base, a neutralizing element comprising a neutralizing layer and a timing layer adjacent to the neutralizing layer and an alkaline processing composition which is spread between the photosensitive element and the neutralizing element and has an image receiving layer which fixes a dye on at least one of the elements.例文帳に追加

支持体上に色素形成化合物とハロゲン化銀乳剤を有する感光要素と中和層と、該中和層と隣接したタイミング層から成る中和要素と、該感光要素と該中和要素の少なくとも1つの要素に色素を固定する受像層を有し、該感光要素と該中和要素の間に展開されるアルカリ性処理組成物からなるカラー拡散転写法用写真フィルムユニットで、該中和層のガラス転移点(X°K)と塗設量(Yg/m^2)が一般式(I)で表されることを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a multi-layer circuit wiring board laminating the film having a conductor layer with an adhesive comprises a process for heat-processing the surface of the film in a non-oxidation gas phase atmosphere in preferably residual oxygen concentration of 0.5 % or less, a process for performing plasma treatment, and a process for laminating by the adhesive.例文帳に追加

導体層を有するフィルムを接着剤により積層する多層回路配線板の製造方法において、少なくとも、フィルム表面を好ましくは残留酸素濃度0.5%以下の非酸化性気相雰囲気中で熱処理する工程、プラズマ処理を行う工程、接着剤により積層する工程、を具備する。 - 特許庁

An organic resist material has not heat resistance, so that the metal sacrificial layer is previously formed, resist removal is performed before spatter of the shape memory alloy film, the metal sacrificial layer is removed after spatter and heat processing of the shape memory alloy performed at high temperature, and surplus shape memory alloy film is lifted off.例文帳に追加

有機系レジスト材は耐熱性がないことから、予め金属犠牲膜を形成し、形状記憶合金膜のスパッタ前にレジスト除去を行ない、高温下で行なわれる形状記憶合金のスパッタおよび熱処理後に金属犠牲膜を除去して、余剰の形状記憶合金膜をリフトオフする。 - 特許庁

The photomask blank is for dry-etching processing and has, in order from the light-transmissive substrate side, a layer comprising a material having metal, silicon, oxygen, and/or nitrogen as main components and a layer comprising a material mainly containing chromium and nitrogen and substantially having a diffraction peak of CrN(200) in X-ray diffraction.例文帳に追加

該フォトマスクブランクは、ドライエッチング処理用のフォトマスクブランクであって、透光性基板側から、金属、シリコン、酸素及び/又は窒素を主たる構成要素とする材料からなる層と、主にクロムと窒素とを含む材料からなり、かつ、X線回折による回折ピークが実質的にCrN(200)からなる層とを有する。 - 特許庁

In the processing method having at least a step for applying a developing solution to a photosensitive material having at least one photosensitive layer on the base and a step for removing at least the photosensitive layer with a release sheet, a surplus of the applied developing solution is absorbed in the release sheet.例文帳に追加

支持体上に少なくとも1層の感光層を有する感光材料に現像液を塗布する工程と少なくとも該感光層を剥離シートで除去する工程を少なくとも有する処理方法において、前記塗布に供された現像液の余剰液を前記剥離シートに吸収させることを特徴とする処理方法。 - 特許庁

This resist pattern formation method includes a process for forming a lower-layer film (103) having polymer containing fluorine on a wafer substrate (101), a process for forming a resist film (104) on the lower-layer film, and a process for allowing the resist film to be subjected to pattern exposure and processing for obtaining the resist pattern (105).例文帳に追加

ウェハー基板(101)上に、フッ素含有ポリマーを含む下層膜(103)を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜(104)を形成する工程と、前記レジスト膜に対しパターン露光および現像処理を施して、レジストパターン(105)を得る工程とを具備するレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

Next, the electrolyte membrane 13 and a lining film 26 are prepared, the electrolyte membrane 13 is laminated on the lining film 26, and furthermore, the cathode electrode layer 14 formed on the lining film 26 is laminated so that the electrolyte membrane 13 and the cathode electrode layer 14 become contacted, and a hot press processing is carried out in the lamination direction.例文帳に追加

次に、電解質膜13と裏付フィルム26を用意し、裏付フィルム26上に、電解質膜13を積層し、さらに、台紙フィルム24上に形成されたカソード電極層14を、電解質膜13とカソード電極層14が接するように積層して、積層方向にホットプレス処理を行う。 - 特許庁

To provide an optical fiber, wherein a clad layer is removed while suppressing damage to a core layer and the exposed position is processed with precision, to provide a cloth including the optical fiber, and also to provide a method and an apparatus for processing the cloth.例文帳に追加

本発明は、アクリル系樹脂を主成分とするコア層を有する光ファイバ及びそれを備えた布帛において、コア層に与える損傷を抑えてクラッド層が除去されているとともにその露出位置が精密に加工された光ファイバ及びそれを備えた布帛並びにその加工方法及び装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a semiconductor display device with an inter-layer insulating film which can obtain surface flatness while suppressing a filming time, suppress the time of heat treatment processing for water removal, and prevent water in the inter-layer insulating film from being discharged to an adjacent film or electrode.例文帳に追加

成膜時間を抑えつつ表面の平坦性を得ることができ、水分除去を目的とした加熱処理の処理時間を抑えることができ、なおかつ層間絶縁膜中の水分が隣接する膜または電極に放出されるのを防ぐことができる、層間絶縁膜を有する半導体表示装置の提供を課題とする。 - 特許庁

The optical element is manufactured using a process for coating the surface of a light pervious base material with an uncured optical material resin and curing the optical material resin to form the optical element having the resin layer and a cutting process for cutting the outer peripheral part of the optical element by laser processing after the resin layer is formed.例文帳に追加

透光性基材の表面に未硬化の光学材料樹脂を塗布し、該光学材料樹脂を硬化させて樹脂層を有する光学素子を形成する工程と、前記樹脂層の形成後に前記光学素子の外周部をレーザー加工で切断する切断工程と、によって光学素子が製造される。 - 特許庁

When a planographic printing plate obtained by disposing at least a silver halide emulsion layer and a physical developing nucleus layer in this or on a base is processed after exposure, at least one processing solution used contains a phosphoric acid compound having a polyoxualkylene unit.例文帳に追加

支持体体上に少なくともハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層をこの順に設けた平版印刷版を露光後、製版処理方法において、前記少なくとも1つの処理液がポリオキシアルキレン単位を有するリン酸化合物を有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

A semantic significance management part 14 calculates the semantic significance of an element before movement on the basis of the operation information on the user obtained via a user operation processing part 11, especially the number of movements to a high-order layer or a low-order layer of a selective element in the structural information, and updates the semantic significance every element stored in a semantic significance storage part 19.例文帳に追加

意味重要度管理部14は,ユーザ操作処理部11を介して得たユーザの操作情報,特に構造情報における選択要素の上位層向きまたは下位層向きの移動回数をもとに,移動前の要素の意味重要度を計算し,意味重要度記憶部19に格納された要素ごとの意味重要度を更新する。 - 特許庁

A molded decorative sheet S is formed by successively laminating a decorative layer 2 and a thermoplastic resin sheet 3 on the rear surface of a transparent acrylic resin sheet 1 being the uppermost surface layer and, after the surface of the transparent acrylic sheet is subjected to mirror surface processing, a temporary adhesive protective sheet 4 comprising a polyethylenic resin is thermally bonded to the transparent acrylic resin sheet 1 under pressure.例文帳に追加

成形加飾用シートSは、最表面層とする透明アクリル樹脂シート1の裏面に、装飾層2、熱可塑性樹脂シート3が順次積層され、透明アクリル樹脂シートの表面は鏡面ローラで鏡面加工後、ポリエチレン系樹脂からなる仮接着保護シート4を熱圧着しておく。 - 特許庁

To achieve higher level of stability compared with a conventional peroxide-based etchant and improve the capacity of processing using an etchant composition capable of collectively etching a multi-layered film comprising a copper layer and other metal layer using a low content of hydrogen peroxide and having an etching speed suitable for a process, an appropriate etching amount, and an appropriate taper tilt angle.例文帳に追加

低い過酸化水素含有量で銅膜と他の金属膜とからなる多重膜の一括エッチングが可能で、工程に適したエッチング速度、適当なエッチング量、及び適切なテーパ傾斜角を有するエッチング液組成物により、既存の過水系エッチング液よりも高い安定性を有し、処理枚数能力を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for processing electronic parts suitable for use as a surface protective sheet or a dicing sheet, which adhesive sheet prevents chip scattering and chipping by enhancing both elastic modulus and adhesive force of an adhesive layer before energy ray irradiation so that a chip can be well picked up from the adhesive layer after the energy ray irradiation.例文帳に追加

エネルギー線照射前の粘着剤層の弾性率及び粘着力の両方を高め、チップ飛散及びチッピングを防止し、エネルギー線照射後の粘着剤層からチップを良好にピックアップすることが出来る、表面保護用シートやダイシングシートとして用いるのに好適な電子部品加工用粘着シートを提供する。 - 特許庁

Further, disclosed is a tape for wafer processing having an intermediate resin layer and an adhesive layer laminated in this order on a base film, which is made of a resin composition containing at least one kind of polymer selected from a group of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyetherimide, and polyimide.例文帳に追加

また、基材フィルム上に中間樹脂層、粘着剤層がこの順に積層されているウエハ加工用テープであって、基材フィルムがポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルイミド、及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリマーを含有する樹脂組成物からなるウエハ加工用テープ - 特許庁

To provide an adhesive sheet which achieves both surface smoothness and adhesive layer thin film formation, is therefore little deformed, when the adhesive layer is processed, can be processed in high precision, largely improves product characteristics and productivity, and is useful as a support sheet for processing electronic parts such as small ceramic capacitors, and the like.例文帳に追加

表面平滑性及び粘着層薄膜化を両立したために、粘着層の加工時の変形が小さいため、高精度な加工が可能であり、製品特性、生産性が大幅に向上する、小型のセラミックコンデンサなどの電子部品の加工用支持体シートなどとして有用な粘着シートを提供することにある。 - 特許庁

The rewritable recorder comprises a thermal head 15 for recording on the recording medium 1 by applying heat to the reversible thermal recording layer 3 thereof and developing a color, a record eraser 14 for discoloring the reversible thermal recording layer 3 by thermally processing the recording medium 1, and a carrier 13 for carrying the recording medium 1.例文帳に追加

記録媒体1の可逆性感熱記録層3を熱印加することにより発色させて記録を行なう記録用加熱ヘッド15と、記録媒体1を加熱処理することにより可逆性感熱記録層3の発色を消色する記録消去装置14と、記録媒体1を搬送する搬送装置13を設けてなる。 - 特許庁

To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.例文帳に追加

被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer containing at an organic pigment on a conductive support, wherein the photosensitive layer is subjected to processing to allow the photoreceptor to stand for10 minutes under an environment of 10 g/m^3 in absolute humidity in a dark place after a final drying process in manufacture of the photoreceptor.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも有機顔料を含有する感光層を有する電子写真感光体の作製方法において、感光体作製における最終乾燥工程の後、該感光体を暗所でかつ絶対湿度が10g/m^3以上の環境下に10分以上放置する処理を施す。 - 特許庁

The adhesive tape for semiconductor wafer processing having an adhesive layer formed on a base film is characterized in that the base film has a nonhydrogenated resin layer containing a nonhydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer or nonhydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer.例文帳に追加

基材フィルム上に粘着剤層を有してなる半導体ウェハ加工用粘着テープにおいて、前記基材フィルムが、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体未水添物またはスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体未水添物を含有する未水添樹脂層を有することを特徴とする半導体ウェハ加工用粘着テープである。 - 特許庁

This method comprises a step of processing a first wafer with two faces and providing at least one semiconductor layer patterned and made plane, on at least one face of these two faces, and a step of connecting a second wafer of monocrystal silicon to the semiconductor layer on the first wafer.例文帳に追加

本方法は、2つの面を有する第1のウェーハを処理し、これらの2つの面の少なくとも一方の上に少なくとも1つのパターン化されて且つ平面化された半導体層を設けるステップと、単結晶シリコンの第2のウェーハを、第1のウェーハ上の半導体層に結合させるステップとを含む。 - 特許庁

To provide a resist undercoat-forming material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process or for a three-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly to short-wavelength exposure light, that is, has high transparency, optimum n value and k value, and excels in etching resistance in substrate processing.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には2層レジストプロセス用又は3層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

When one of the objects in one lower layer of the above-mentioned object is selected by the operation section 101, the main thread 103 does not access the server 152 at that timing, but reads the list of the object names in one lower layer of the corresponding object and the attribute information from the processing result buffer 122, and displays them on a display 102.例文帳に追加

操作部101により、上述したオブジェクトの一下位層のいずれかのオブジェクトが選択されると、メインスレッド103は、そのタイミングでサーバ152にはアクセスせず、対応するオブジェクトの一下位層のオブジェクト名の一覧と属性情報を処理結果バッファ122より読み出してディスプレイ102表示する。 - 特許庁

In a touch panel 1 of an automatic processing apparatus, an antibacterial layer 1b having antibacterial properties is formed on the operation surface for displaying an operation image which indicates predetermined process contents and being contacted with by the operation image, and a transparent insulating substrate 1a comprising conductive members 1c on the surface of the antibacterial layer 1b is provided.例文帳に追加

自動処理装置のタッチパネル1において、所定の処理内容を示す操作画像を表示して当該操作画像に接触される操作面に抗菌性を備える抗菌層1bが形成され、抗菌層1bの表面に導電部材1cが設けられた透明絶縁基板1aが具備されている。 - 特許庁

To provide a plate making method which can form a clear image with high sensitivity without exerting a defect to an image area in spite of preservation for a long period of time, can exhibit specified performance in spite of dissolution of photosensitive layer components into a development processing solution and can suppress the occurrence of development dregs due to the photosensitive layer components.例文帳に追加

長期保存しても画像部に欠陥を与えることなく、高感度で鮮明な画像を形成し得、且つ感光層成分が現像処理液に溶け込んでも、一定の性能を発揮することができ、前記感光層成分に起因する現像カスの発生を抑えることができる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

例文

The method forms structures arranged on a substrate in a two-dimensional manner by forming a single layer by arranging spherical particles on the surface of the substrate so as to fill the surface with the spherical particles most densely using self-organization of the spherical bodies, and performing etching processing using the single layer formed of the spherical particles as an etching mask.例文帳に追加

球体の自己組織化を利用して、基板表面に球状粒子を最密に充填するように配置して単層を形成し、前記球状粒子からなる単層をエッチングマスクとしてエッチング処理を行うことにより、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法。 - 特許庁




  
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