| 例文 |
processing temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can improve a pickup success rate of a semiconductor chip by decreasing peeling force between an adhesive film of a tape for wafer processing and an adherend by carrying out a pickup process at low temperature, and the tape for wafer processing used for the method.例文帳に追加
ピックアップ工程を低温下で行うことにより、ウエハ加工用テープの粘着フィルムと被着体との間の剥離力を低下させて、半導体チップのピックアップ成功率を向上させることが可能な半導体装置の製造方法及びそれに用いるウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁
To solve a problem that fixing ability is lowered because fixing temperature becomes lower than a set value in an early stage at the beginning of paper passing and toner is peeled to soil a folding knife, a folding roller and an image in a folding processing means in the case of performing folding processing to recording material whose basis weight is equal to or above the predetermined one.例文帳に追加
所定以上の紙斤量の記録材に折り処理を行う場合において、通紙初期に定着温度が初期的に設定値より低下することにより定着性が低下し、トナーの剥がれが生じ、折り処理手段において折りナイフ、折りローラ、画像に汚れを付着させる。 - 特許庁
To provide a single-part color developing concentrated composition improved in generation of a tarry deposition in a kit even when stored at high temperature and improved also in uneven development even when used in processing of a photosensitive material, and to provide a processing method using the same.例文帳に追加
高温で保存された場合でもキット内でのタール状析出の発生が改良され、かつ感光材料の処理に使用した場合にも現像ムラの発生が改良される、シングルパートの発色現像濃縮組成物及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁
In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.例文帳に追加
第6処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット33を作用させ、それにて犠牲層領域25を覆うコーティング29の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁
Accordingly, the preparation processing for temperature control in the auxiliary unit has been completed by the time when a phosphoric acid is used in the chemical processor 19b, and thus, schedule delay due to standby of preparation processing of the chemical processor 23b can be prevented as an auxiliary unit, and the operation rate of the apparatus can be improved.例文帳に追加
したがって、薬液処理部19bにおいて燐酸を使用する際には、予備ユニットにおける温調の準備処理が終わっており、予備ユニットである薬液処理部23bの準備処理待ちによるスケジュールの遅れを防止することができ、装置の稼働率を向上できる。 - 特許庁
To provide a method for controlling a circulation fan of a banana aging and processing chamber, capable of uniformising a banana's flesh temperature in a case during an aging processing, uniformising the aging degree of the whole bananas, and obtaining the bananas with a higher commercial value.例文帳に追加
本発明はバナナ熟成加工中に、箱中のバナナ位置における果肉温度差を修正し、バナナ全体の熟成度を均一化させて商品価値のより高いバナナの熟成加工が可能となるバナナ熟成加工室の循環ファン制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The processing vessel and the vaporization vessel are respectively heated by the heating means, and the metallic vaporization material is vaporized while raising the temperature of the workpiece to the predetermined value, so that the vaporized metal atoms are fed to the surface of the workpiece in the processing vessel.例文帳に追加
そして、加熱手段によって処理容器及び蒸発容器をそれぞれ加熱して被処理物を所定温度まで昇温させつつ金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子が処理容器内の被処理物表面に供給されるように構成する。 - 特許庁
By performing the subsequent secondary air-based activation processing at a low temperature of 350-430 °C, air permeates deeply the inside of the carbide raw material by using as inlets the meso-holes produced in the primary air-based activation processing to produce fine micro-holes even in the inside of the carbide raw material.例文帳に追加
続く第2次空気賦活処理を350〜430℃の低温度で行うことにより、第1次空気賦活処理にて生成されたメソ孔を入口にして、空気が炭素化物原料の内部に深く浸透してゆくようになって炭素化物原料の内部にまで細かいミクロ孔を生成する。 - 特許庁
The impurity reducing method includes a step of supplying two kinds of gas selected out of hydrogen, oxygen, chlorine, and fluorine into a processing chamber 201, and a step of exposing a quartz member 278 in the processing chamber 201 to gas activated with plasma in a low-temperature atmosphere.例文帳に追加
本発明の不純物低減方法は、水素、酸素、塩素及びフッ素から選択される少なくとも2種類の気体を処理室201内に供給する工程と、プラズマにより活性化した気体を低温雰囲気にて処理室201内の石英部材278に曝す工程とを有する。 - 特許庁
The exhaust gas temperature adjusting means 33 stops the performance of the post-injection by the injector 7 in a stage where a fuel amount of the PM burnt by the filter regenerating processing is less by the predetermined amount than a deposit amount X of the PM when starting the filter regenerating processing.例文帳に追加
上記排ガス温度調整手段(33)は、上記フィルタ再生処理によって燃やされたPMの燃料量が、フィルタ再生処理を開始した時点でのPMの堆積量Xよりも所定量少ない段階で、上記インジェクタ7によるポスト噴射の実行を停止させる。 - 特許庁
At this point, the number of the semiconductor substrates 1 introduced into the processing chamber 3 and processed is three or less, the processing chamber can be lessened in size, so that a time required for raising the semiconductor substrate 1 in temperature by a heating lamp can be much shortened, and a semiconductor device can be enhanced in productivity.例文帳に追加
この際、処理室3に設置して処理する半導体基板1は3枚以下と少なく、処理室3を小さくすることができるため、ランプ加熱などを用いて基板1の昇降温に要する時間を非常に短くすることができ、生産性が改善される。 - 特許庁
To provide machine parts which unnecessitates scale removing processing after induction hardening and is capable of performing correspondence according to in-line processing, reducing the cost, moreover reducing a deformation after the induction hardening and prolonging the endurance life in a high-temperature environment, and to provide a manufacturing method of the machine parts.例文帳に追加
高周波焼入れ後のスケール除去加工が不要でインライン化対応が可能となり、コストの低減を達成でき、しかも、高周波焼入れ後の変形を減少させることができ、高温雰囲気中での耐久寿命を延ばすことができる機械部品およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the resistor film includes a process of coating an insulating substrate with the resistor paste, a process of carrying out oxidation processing by heating the resistor paste applied over the insulating substrate at 200 to 240°C in an oxidizing atmosphere, and a process of baking the resistor paste having been subjected to the oxidation processing at a temperature of ≥750°C.例文帳に追加
抵抗体ペーストを絶縁基板に塗布する工程と、絶縁基板に塗布された抵抗体ペーストを酸化性雰囲気下200〜240℃で加熱して酸化処理する工程と、酸化処理された抵抗体ペーストを750℃以上の温度で焼成する工程とを有する。 - 特許庁
The heat processing is preferably executed in conditions of a temperature range of 90°C-200°C and 10 minutes or more, and the vacuum processing is preferably executed in conditions of a range of 1×10^-3 Pa to 1×10^-5 Pa and 60 minutes or more.例文帳に追加
熱処理としては、90℃以上200℃以下の範囲内で10分以上の条件で行われることが好ましく、真空処理としては、1×10^−3Pa以上1×10^−5Pa以下の範囲内で60分以上の条件で行われることが好ましい。 - 特許庁
The fixing temperature and the processing speed whose setting is changed are restored to the setting before it is changed stepwise through printing processing for a predetermined number of prints, whereby the lowering of the durability of a fixing device and the lowering of the productivity of the image forming apparatus are restrained to the minimum.例文帳に追加
前記設定変更された定着温度及び処理速度は所定枚数のプリント処理を経て段階的に設定変更前の設定の戻すことにより、定着装置の耐久性の低下及び画像形成装置の生産性の低下は最小限に押さえられる。 - 特許庁
The substrate processing equipment 20 supports the substrate W as a processing object at a position so as to make it confront a heater unit 24 and keeps the temperature distribution uniform throughout the substrate W by rotating a holding member 120 that holds the substrate W, whereby the substrate W can be restrained from warping.例文帳に追加
基板処理装置20は、ヒータ部24に対向する位置に被処理基板Wを支持すると共に、被処理基板Wを保持する保持部材120を回転させることにより、被処理基板Wの温度分布を均一に保ち、被処理基板Wの反りを抑制する。 - 特許庁
At this time, the central processing unit (CPU) extracts a recognition value relating to temperature information of a switching element 120, and controls output of a PWM signal depending on a result of the recognition value.例文帳に追加
このとき、中央演算処理回路CPUで、スイッチング素子120の温度情報に関係する認識値を抽出し、かかる認識値の結果に応じてPWM信号の出力制御を行う。 - 特許庁
While an excessive output state continues for a first predetermined period, e.g. ≥10 sec, the monitoring control section 62 uses a second temperature compensating ATT 44 to execute attenuation processing of signals.例文帳に追加
監視制御部62は、過出力状態が第1の所定期間、例えば10秒以上継続しているときに、第2の温度補償用ATT44を用いて信号の減衰処理を行う。 - 特許庁
If a low-dielectric-constant (low-k) film is damaged during plasma processing, one of the reaction products is water, which is left adsorbed on the low-dielectric-constant film (into pores), if the temperature is lower than 100-150°C.例文帳に追加
プラズマ処理の際、低誘電率(low-k)膜が損傷した場合、反応生成物の1つは水であり、温度が100〜150℃より低ければ、低誘電率膜(孔内)に吸収されたままである。 - 特許庁
To provide a fixing device which is capable of generating heat, so as not to make the surface temperature of a fixing roller uneven, even when a paper sheet whose width is small is carried out fix-processing.例文帳に追加
本発明は、幅の小さい用紙を定着処理する場合でも定着ローラの表面温度が不均一とならないように発熱することができる定着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The classification facility 11 for water quality is composed of a temperature controlled tank having one or more parts selected from a sampling part, solution producing part and reaction part, and of a measuring means, information processing part and cleaning means.例文帳に追加
前記水質分類設備11が、サンプリング部、溶液生成部および反応部から選ばれる1つまたは2つ以上を備えた恒温槽と、計測手段と、情報処理部と、洗浄手段とからなる。 - 特許庁
To improve the distortion of a pulse width or a duty cycle that will not be affected by processing parameters, voltage parameters and temperature parameters in a signal conversion circuit, including a conversion input circuit and a conversion output circuit.例文帳に追加
変換入力回路および変換出力回路を含む信号変換回路で、プロセスパラメータ、電圧パラメータおよび温度パラメータの影響を受けないパルス幅およびデューティサイクルの歪を改善すること。 - 特許庁
This computer 10 having a temperature abnormality processing function is provided with a primary side power supply system 11 and a computer body 14 to which power is fed through a converter switch 12 and a secondary side power supply system 13.例文帳に追加
本発明の温度異常処理機能付計算機10は、一次側電源系11、コンバータスイッチ12及び二次側電源系13を介して電力が供給される計算機本体14を備える。 - 特許庁
To provide an exhaust emission control device, performing favorable regeneration processing while preventing an excessive temperature rise of a filter without remarkable alteration of the conventional general constitution, and having high reliability.例文帳に追加
従来の一般的な構成を大幅に変更することなく、フィルタの過昇温を防止しつつ良好な再生処理を行うことのできる、より信頼性の高い排気浄化装置を提供すること。 - 特許庁
To prepare a white polyester film for molding a container excellent in environmental properties, concealing capacity, low temperature impact resistance, printability, molding processing characteristics and heat resistance during heating in a microwave oven, and to provide a white polyester container.例文帳に追加
環境性、隠蔽性、耐寒衝撃性、印刷性、成形加工性および電子レンジ耐熱性などに優れた容器成形用白色ポリエステルフィルムと、白色ポリエステル容器を提供すること。 - 特許庁
To provide a shape measurement method and a shape measuring apparatus that can correct the large part of an error by temperature drift by data processing, and settles the error without accompanying an increase in costs, such as the remodeling of the apparatus and the extension of measurement time.例文帳に追加
温度ドリフトによる誤差の大部分をデータ処理によって補正することができ、装置の改造や測定時間が延びる等大きなコストアップを伴わず、かかる誤差を解消する。 - 特許庁
Then, the matching processing of the bumper fish crop patterns whose time and fishing divisions are compatible is executed with respect to the latest sea surface temperature distribution map so that much more speedy and accurate fishing grounds can be forecast according to the fishing site information.例文帳に追加
次に、最新の海面温度分布図に対して時期、漁業区画の合った豊漁パターンをマッチング処理することにより、漁業現場情報と合せ、よりスピーディで正確な漁場を予想する。 - 特許庁
To provide a low-temperature baked laminated ceramics substrate capable of providing a high-density and low-resistance-loss wiring pattern with a simple manufacturing process, and small in time required for processing; and its manufacturing method.例文帳に追加
簡単な製造工程で、処理に要する時間が短く、高密度且つ低抵抗損失の配線パターンが実現できる低温焼成積層セラミックス基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A microcomputer 65 estimates a hydraulic oil temperature Te and judges an off-road traveling by a program processing, and controls the damping force of the shock absorber 10 according to the judged and estimated results.例文帳に追加
マイクロコンピュータ65は、プログラム処理により、作動油の温度Teの推定及びオフロード走行の判定を行い、前記判定及び推定結果に応じてショックアブソーバ10の減衰力を制御する。 - 特許庁
The excellent water and oil repellent property is obtained by low temperature processing of a water dispersed type fluorine water and oil repellent agent by addition of an organic polyvalent metal compound as a cross-linking agent or a cross-linking accelerator.例文帳に追加
水分散型フッ素系撥水撥油剤に、架橋剤又は架橋促進剤として、有機多価金属化合物を添加することにより、低温加工処理で優れた撥水撥油性を得ることができた。 - 特許庁
In a CDMA transmitter of a base station, a transmission baseband signal is a signal obtained by synthesizing spread signals of each channel and by digital processing and have no relation to temperature change, change over aging or the dispersion of an element characteristic.例文帳に追加
基地局のCDMA送信機において、送信ベースバンド信号は各チャンネルの拡散信号を合成したものでディジタル処理により得られ、温度変化、経年変化、素子の特性のバラツキに関係しない。 - 特許庁
To provide a silver halide color photographic sensitive material having processing stability and stability to temperature and humidity changes in exposure, and suitable for use as a color positive photosensitive material for a motion picture giving stable latent images.例文帳に追加
処理安定であり、かつ露光時の温湿度変化に対して安定であり、かつ潜像が安定な映画用カラーポジ感光材料として好適なハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供する。 - 特許庁
Efficient degassing processing of the electron gun 20 is realized in a method of raising the temperature of the Wehnelt part 5 by causing the thermal electrons discharged from the electron discharge part 12 to collide against the Wehnelt part 5.例文帳に追加
電子放出部12から放出される熱電子をウェネルト5に衝突させて、ウェネルト5の温度を上昇させる方法に従い、効率の良い電子銃20の脱ガス処理を実現する。 - 特許庁
In the step (c), the atmosphere of mixture gas has a volumetric ratio of water vapor to ozone gas (water vapor/ozone gas) in the range of 1-4 and the temperature in the processing chamber 10 is in the range of 95°C-140°C.例文帳に追加
工程(c)において、混合気体の雰囲気は、オゾンガスに対する水蒸気の体積比(水蒸気/オゾンガス)が1ないし4であり、処理室10内の温度は95℃ないし140℃である。 - 特許庁
To provide the support for the photographic printing paper capable of obtaining sufficient adhesion at low cost even in the case of processing at high speed and low resin temperature and superior in whiteness and planeness.例文帳に追加
樹脂温度が低温で、高速加工をする場合であっても、安価に十分な接着強度を得ることができ、かつ、白色度・平面性に優れた印画紙用支持体を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an electric resistance heating furnace capable of providing an in-furnace temperature above 1,400°C based on a structure movable in the horizontal direction with an electrode kept vertical in processing a waste material at high temperatures.例文帳に追加
廃棄物を高温処理する際に、電極を垂直に保ったまま水平方向に移動可能な構成のもとに、1400℃以上の炉内温度を得ることかできる電気抵抗発熱炉を提供する。 - 特許庁
The control device calculates the intake manifold critical temperature (IMT_critical) as the function of a detected or assumed value by processing an equation in which variables are replaced with these values.例文帳に追加
制御装置は、吸気マニホルド臨界温度(IMT_臨界)を所定の、検出された又は仮定された値の関数として、変数がこれら値で置き換えられる方程式を処理することにより計算する。 - 特許庁
To provide an alkaline storage battery having excellent temperature characteristics at low temperatures by heightening the concentration of alkaline electrolyte injected into a battery without causing leakage even if a decompression processing device is not used.例文帳に追加
減圧処理装置を用いなくても漏液を生じることなく、電池内に注液されたアルカリ電解液の濃度を高濃度にして低温温度特性に優れたアルカリ蓄電池を提供する。 - 特許庁
To enhance processing efficiency by lessening the useless gap between each of a plurality of streamer discharge regions (S), in a plasma reactor which performs gas treatment by the streamer discharge to produce low temperature plasma.例文帳に追加
ストリーマ放電により低温プラズマを生成してガス処理などを行うプラズマ反応器において、複数のストリーマ放電領域(S) 同士の間の無駄な隙間を小さくして処理効率を高める。 - 特許庁
An AWB 5 applies white balance adjustment processing to image data S0 utilizing the estimated color temperature to obtain processed image data S1, which is outputted by an output means 6.例文帳に追加
推定された色温度に基づいてAWB5において、画像データS0に対してホワイトバランス調整処理を行い処理済み画像データS1を得、これを出力手段6において出力する。 - 特許庁
To provide a heat developable photosensitive material excellent in sensitivity, fogging and maximum density, excellent in image preservability when irradiated with light and suppressed in desensitization due to storage at a high temperature before processing.例文帳に追加
感度、カブリ、最大濃度がいずれも優れており、光照射したときの画像保存性に優れ、かつ、処理前の高温保存による減感が抑えられている熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a sterilization detection indicator and its manufacturing method which reliably prevent a surface film from pealing off when performing sterilization processing by high temperature or by high heat and high pressure steam and sufficiently reduces occurrence of warpage.例文帳に追加
高熱や高温高圧蒸気による滅菌処理の際に、表面のフィルム剥がれを確実に防止し、反りの発生を充分低減しうる滅菌検知インジケータおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
This composition has an initiation temperature of phase difference increase (Ts) measured using a scanning viscoelasticity microscope of not lower than 25°C, and this sheet having an easily formable surface is prepared by processing the resin composition into a sheet form.例文帳に追加
走査粘弾性顕微鏡を用いて、測定される位相差増大開始温度Tsが25℃以上である組成物、及び該樹脂組成物をシート状に加工してなる易表面賦形性シート。 - 特許庁
To prevent, in a signal processing circuit connected to a coil as a sensor head of a displacement sensor, the temperature difference between a pair of coils in mutually opposing distant positions from affecting the detection of any displacement.例文帳に追加
変位センサのセンサヘッドとしてのコイルに接続される信号処理回路において、互いに対向して離れた位置にある一対のコイルの温度差が、変位検出に与える影響を排除する。 - 特許庁
To provide a paper cup with excellent water resistance and sealing properties, particularly, the paper cup with such a water resistance that is capable of performing a retort sterilization processing under a high temperature and high pressure, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
耐水性と密封性が優れた紙カップ、特に高温高圧下でもレトルト殺菌処理可能な耐水性を有する紙カップとその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor and a processing apparatus for a substrate that uniformly film a plurality of substrates in silicon carbide epitaxial film growth carried out under a high-temperature condition.例文帳に追加
高温条件下で行われる炭化珪素エピタキシャル膜成長において複数枚の基板を均一に成膜することができる半導体製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a heating device and a heating method in which uneven temperature is not caused in a subject surface of a subject article to restrict unnecessary thermal deformation of the subject article and improve heat processing precision.例文帳に追加
被加熱物の被加熱面に温度むらを生じさせずに加熱することで、被加熱物の不要な熱変形を抑えることができ、熱加工精度を向上させる加熱装置と加熱方法の提供。 - 特許庁
In the exhaust emission control processing, for example, a control valve 222 is opened for a period when a cooling water temperature Tw of the engine 200 becomes below a threshold Tw0, and the oxygen-enriched gas is supplied to the exhaust pipe 210.例文帳に追加
排気浄化処理では、例えば、エンジン200の冷却水温Twが閾値Tw0未満となる期間において制御バルブ222が開かれ、排気管210に酸素富化ガスが供給される。 - 特許庁
When a fore-and-aft differential pressure ΔPg of the DPF4 exceeds a predetermined differential pressure ΔPh, regeneration processing of the DPF4 is performed by raising the exhaust temperature by increasing the output of an engine 1.例文帳に追加
DPF4の前後差圧△Pgが所定差圧△Phを超えた際に、エンジン1の出力を増加させて排気温度を上昇させることでDPF4の再生処理を行うように構成した。 - 特許庁
To provide a compact and inexpensive surface drying device of a simple structure having high heat utilizing efficiency, obtaining a high temperature even if a heating means is small, having high processing speed in drying, and having beautiful finish.例文帳に追加
簡単な構造で小型コンパクトで安価な、熱の利用効率が高く、加熱手段が小さくても高温が得られ、乾燥の処理スピードが速く、仕上がりがきれいである表面乾燥装置の提供。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|