「projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing and/or adjusting an optical device of a projection illumination system, in which a position of at least one optical element to be manipulated is set by moving the optical element incrementally by a specific increment size using at least one actuator.例文帳に追加

少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学素子を特定の増分量で増分移動させることにより、操作されるべき少なくとも１つの光学素子の位置の設定を行う、投影照明システムの光学装置の製造及び／又は調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a cleaning device for a solder printing mask, which can sufficiently clean a lower surface of the mask even if a paper member-pressing portion moves onto a projection portion on the lower surface of the mask; a solder printer; and a cleaning method for the solder printing mask.例文帳に追加

ペーパー部材押し付け部がマスクの下面の突出部に乗り上げた場合であっても、マスクの下面の十分なクリーニングを行うことができるようにした半田印刷用マスクのクリーニング装置、半田印刷機及び半田印刷用マスクのクリーニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection material for blast work and a blasting method by which a surface of a workpiece can be mirrored or smoothened in a very short period of time without generating a satin-finished-like unevenness on the surface of the workpiece comparing with conventional techniques such as polishing with a polishing paper or a polishing cloth.例文帳に追加

研磨紙や研磨布による研磨等の従来技術に比べ、非常に短時間で、被加工物表面に梨地状の凹凸を発生させることなく鏡面化、或いは平滑面化することが可能なブラスト加工用投射材およびブラスト加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a screen, along with a method of manufacturing the screen, capable of forming a reflection-preventive film for preventing reflection of unnecessary light that is produced relatively simply by reducing the times of partial deposition on the front surface of the screen, and capable of properly protecting a reflection surface of projection light.例文帳に追加

スクリーン前面における部分的な成膜の回数を低減して比較的簡易に作製が可能であり、不要光の反射を防ぐ反射防止膜が形成され、かつ、投射光の反射面が適切に保護されるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the micromachine part or the like, a photosetting resin liquid is selectively irradiated with light by repeating collective exposure based on a projection region as a unit to form a cured resin layer and this cured resin layer is successively laminated to form the three-dimensional shape.例文帳に追加

本発明に係るマイクロ機械部品等の製造方法は、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元形状を形成するものである。 - 特許庁

To provide a production method, in a product in which a corner part at which the outer circumference and the edge face are crossed is provided with a projection part having a side face jumping up to the outside diameter direction and the axial direction, which requires no removal of taper shape caused by working after sintering and no removal of die divided strips.例文帳に追加

部品外周と部品端面が交差する角部に外径方向および軸方向に飛び出す側面を有する凸部を有する製品において、焼結後の加工によるテーパ形状の除去や、金型分割筋の除去をすることのない製造方法を提供する。 - 特許庁

By using connecting parts having connecting pins which can be internally fitted to a connecting end portion of a ring-shaped gasket, a plurality of ring-shaped gaskets are connected by a recess-projection fitting method through connecting parts, and a sealing compound for adhesion and waterproofing is filled in the connecting region.例文帳に追加

環状ガスケットの接続端部に内嵌し得る接続ピンを有する接続部品を用い、該接続部品を介して複数本の環状ガスケットを凹凸嵌合方式にて接続し、その接続部位に接着および防水用のシーリング材を充填することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electric fusion joint of excellent quality with excellent productivity without detaching one end of a beating resistance wire from a terminal piece or without generating deformation of a terminal piece locking projection or the terminal piece by a molten resin flow in the injection molding.例文帳に追加

射出成形時の溶融樹脂の流れによって、加熱抵抗線の一端が端子金具より外れず、また、端子金具を係止している突起あるいは端子金具の変形などが生じず、品質のすぐれた電気融着継手を生産性よく製造できる方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the micromachine part or the like, a photosetting resin liquid is selectively irradiated with light by repeating collective exposure based on a projection region as a unit to form a cured resin layer and this cured resin layer is successively laminated to form the three-dimensional shape.例文帳に追加

本発明に係るマイクロ電子機器部品等の製造方法は、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元形状を形成するものである。 - 特許庁

To provide: a polyester composition having less clouding degree even if an additive is added and thin-molding is performed, having a recession/projection on a surface and being excellent in slipping property of mutual bottles; its manufacturing method; and a bottle obtained by melting-molding the polyester composition.例文帳に追加

本発明の課題は、添加剤を添加し薄肉成形しても曇り度合いが少なく、表面に凹凸を持ちボトル同士の滑り性に優れたポリエステル組成物及びその製造方法並びにそのポリエステル組成物を溶融成形してなるボトルを提供することにある。 - 特許庁

To provide a blasting method capable of efficiently and uniformly performing surface polish of a member having elasticity and a peeling process of extraneous matter stuck to a base material having elasticity and of dispensing with recovery work of a projection member and to provide a blasting machine used for it.例文帳に追加

弾性を有する部材の表面研磨や、弾性を有する母材に付着した付着物の剥離処理を、効率よくかつ均一に行うとともに、投射材の回収作業を省略することのできるブラスト処理方法と、それに用いられるブラスト装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank which has an absorption film reduced in thickness so as to reduce projection effect causing a phenomenon of deterioration in transfer precision due to EUV light, and is used for EUV photolithography, a reflection type photomask, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ＥＵＶ光による転写精度の劣化現象をもたらす、射影効果の低減を図るために、吸収膜の厚さの低減化を図り、ＥＵＶフォトリソグラフィにて使用される反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a method, in which the image of a photomask pattern provided on a photomask is projected and exposed upon and on a surface to be exposed by irradiating the photomask with light from an exposure light source by means of a projection optical system, the image is projected and exposed upon the surface to be exposed by scanning the photomask, while the photomask is housed in a hermetically sealable enclosure.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して、フォトマスクパターンの像を、投影光学系により被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを、密閉可能な筐体に収装し、前記筐体内部において走査させ、投影露光する。 - 特許庁

To provide a fluorescent lamp wherein hermeticity is maintained, occurrence of cracks, breakages, and leakage are suppressed, and reducing of costs is realized, independently of short length in a tube axial direction of a projection part in a sealing part when the outer diameter is 15 mm or larger, and also to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

ガラス管の外径が１５ｍｍ以上である場合、封止部における突出部の管軸方向の長さが短いにも拘わらず、気密性を保持し得、又クラックや破損、リーク等の発生を抑制し得、更にコストの低減を図り得る蛍光ランプおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a screen onto which projection light can be projected with more improved contrast and stable image quality by reducing influence by the reflection of external light and to provide a manufacturing method of the screen and a manufacturing device of the screen which are capable of easily manufacturing the screen with comparatively saved space.例文帳に追加

外光の反射による影響を低減して投射光をコントラストのより改善された画像品質の安定した投影ができるスクリーンを提供するとともに、当該スクリーンを比較的省スペースで簡易に製造できるスクリーンの製造方法及びスクリーンの製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a dielectric thin film capacitor material of a high capacity having high insulation in which a dielectric has a uniform film thickness by following a projection and the irregularity of the front surface of an electrode and a leakage current is small, and a method of manufacturing the dielectric thin film capacitor material.例文帳に追加

高い絶縁性を有する高容量の誘電体薄膜キャパシタ材料であって、誘電体が電極表面の突起物や凹凸に追従して均一な膜厚を有し、漏れ電流が小さい誘電体薄膜キャパシタ材料、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the exposure method which exposes a substrate P by radiating exposure light on a substrate P via a projection optics system PL and liquid LQ, affinity to the liquid LQ on the surface of the substrate P is set so as to reduce force in which the liquid LQ on the substrate P exerts on the substrate P.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光を照射して基板Ｐを露光する露光方法において、基板Ｐ上の液体ＬＱが基板Ｐに及ぼす力が低減されるように、基板Ｐの表面の液体ＬＱに対する親和性を設定する。 - 特許庁

To provide a reticle, having a mark capable of finding out not fine changes of projection magnification and shot rotation requiring a dedicated reticle or a dedicated measuring device but a large change directly connected to a defective product in an instant, and to provide a manufacturing method of semiconductor device which uses the reticle.例文帳に追加

専用レチクルや専用の測定装置を必要とする投影倍率やショット回転の微小な変化ではなく、製品の不良に直結する大きな変化を即座に発見できるマークを備えるレチクルとそれを用いた半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a pitch can be narrowed, and moreover, a projection electrode with the high connection reliability can be manufactured in a simplified step, and provide a semiconductor device obtained thereby, a circuit substrate, an electro-optical device, and electronic equipment.例文帳に追加

狭ピッチ化を可能にし、しかも接続信頼性の高い突起電極の製造を、その工程を簡略化して行えるようにした半導体装置の製造方法と、これによって得られる半導体装置、及び回路基板、電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling a sheath pipe in an information communication cable pipeline economically, by providing projection structures which are equipped with functions of controlling the expansive and contractive functions of a sleeve pipe in an information communication pipeline connected to a hand hole and are easy of attachment even to a pipeline where wiring is performed already.例文帳に追加

ハンドホールに接続される情報通信管路において、スリーブ管の伸縮機能を制御する機能を備え、既に通線がなされている管路においても取付が容易で安価に情報通信ケーブル管路のさや管スライド制御方法を提供する事にある。 - 特許庁

To provide a wiring substrate that can excellently form a solder layer on a conductive projection connection pad connected in a flip-chip way and can prevent the generation of an electric short circuit between adjoining conductive projections and the connection pad which adjoin with each other by solder, and its manufacturing method.例文帳に追加

フリップチップ接続される導電突起・接続パッド上に半田層を良好に形成することができ、互いに隣接する導電突起・接続パッドの間に半田による電気的な短絡が発生するのを抑制することができる配線基板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polysilicon thin film transistor substrate, which can improve the electrical characteristic of a semiconductor layer, by flattening a rough surface due to the projection of crystal grains of a crystallized polysilicon, and a liquid crystal display including the thin film transistor substrate manufactured by the same.例文帳に追加

結晶化されたポリシリコンの結晶粒が突出して荒れた表面を平坦化して半導体層の電気的特性を向上させることができるポリシリコン薄膜トランジスタ基板の製造方法及びそれによって製造された薄膜トランジスタ基板を含む液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.例文帳に追加

浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク２２を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ３１と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液２１Ａを一時的に貯留する溶液供給部４０とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a probe capable of efficiently inspecting continuity characteristics of a highly integrated electronic component, preventing the damage of wiring or a terminal in inspection, preventing the coming-off of a projection of the probe in manufacturing or inspection, suitably inspecting parallel wiring, and coping with slight displacement of the probe, and to provide the manufacturing method of the probe.例文帳に追加

高集積化電子部品の導通特性を効率的に検査でき、検査時に配線や端子を傷めることなく、プローブの突起が製作時や検査時に脱落せず、平行な配線の検査に適し、若干のプローブの位置ずれにも対応可能なプローブおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a polarization converting device in which a decrease in polarization conversion efficiency due to a projection of an adhesive, interface peeling of a polarized beam splitter, a decrease in adhesion durability are avoided, handling is facilitated, and operability is superior, and to provide the polarization converting device.例文帳に追加

接着剤のはみ出し、偏光分離素子の界面剥離および接着耐久性の低下などによる偏光変換効率の低下を回避するとともに、取り扱い易く、しかも作業性に優れた偏光変換素子の製造方法および偏光変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optic device capable of preventing a hillock from being formed on a surface of a pixel electrode and a cavity from being formed at a part where a recess is filled with a flattening insulating film, a projection type display device, and a method of manufacturing the electro-optic device.例文帳に追加

画素電極表面でのヒロックの発生や、平坦化絶縁膜において凹部を埋める部分での空洞の発生を防止することのできる電気光学装置、該電気光学装置を用いた投射型表示装置、および当該電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes: a base knitting step of knitting a base fabric portion including four sides such that at least three sides of the four sides are held on needle beds; and a projection knitting step of knitting, from at least one side of the base fabric portion, a projecting fabric portion having a knitting width smaller than the one side.例文帳に追加

四辺を備えるベース編地部を、四辺のうちの少なくとも三辺が針床に係止された状態となるように編成するベース編成工程と、ベース編地部の少なくとも一辺からその一辺よりも編幅の小さな突出編地部を編成する突出編成工程と、を備える。 - 特許庁

To provide an aperture rate mask making it possible to form a three-dimensional shape on a photosensitive material by generating an exposure quantity distribution by adjusting the quantity of exposure light transmitted through a mask without resolving an aperture part and a shielding part adjusting an aperture rate by a projection exposure method.例文帳に追加

投影露光法において開口率を調整している開口部・遮光部を解像することなくマスクを透過する露光光の光量を調整することで露光量分布を発生させ、感光性材料に三次元形状を作製することを可能とする開口率分布マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が光学素子の光入射面側の空間側に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrooptical device, capable of preventing specular reflection of returned light in a peripheral circuit region and emission of the returned light from an element substrate side, when the returned light is made incident on the element substrate, to provide a manufacturing method of the electrooptical device, and to provide a projection-type display device.例文帳に追加

素子基板に対して戻り光が入射した場合に、戻り光が周辺回路領域で正反射して再び、素子基板側から出射されることを防止することができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide such a CT imaging system (10) and method as collects projection data by connecting a group of the adjacent detector elements (22) of a detection array (18) in an (x)-direction and scanning a patient (22) by using the connection group (60) of the adjacent detector elements.例文帳に追加

検出器アレイ（１８）の隣接する検出器素子（２０）からなるグループをｘ方向に連結すると共に、隣接する検出器素子の連結グループ（６０）を用いて被検体（２２）をスキャンして投影データを収集しているようなＣＴイメージング・システム（１０）及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection type display device which can change the quantity of light illuminating an optical modulation means without changing light itself emitted from a lamp and has an excellent effect in respects of power of video expression and adaptability to environments for use and to provide its driving method.例文帳に追加

ランプが出射する光自体を変化させることなく光変調手段を照明する光の光量を変化させることができ、映像表現力や使用環境への順応性の面で優れた効果を発揮することのできる投射型表示装置とその駆動方法を提供すること。 - 特許庁

The exposure device inspection method further comprises: forming a first image by the first diffraction light and a second image by the second diffraction light on the wafer; measuring a relative distance between the first image and the second image; and inspecting a state of a projection optical system in the exposure device based on the relative distance.例文帳に追加

ウエハ上に、前記第１の回折光による第１の像と、前記第２の回折光による第２の像とを結像させ、第１の像と前記第２の像との間の相対距離を測定し、前記相対距離に基づいて、前記露光装置の投影光学系の状態を検査する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for laminating a flexible substrate in which the flexible substrate can be accurately laminated to a member to be laminated or a head holder having a projection projecting from a laminating surface, and which can prevent a deviation, damage, folding line, etc. of the flexible substrate.例文帳に追加

貼合せ面から突出する突起部を備えた貼合せ対象部材やヘッド保持体に対しても高精度に可撓性基板を貼合わせるとともに、可撓性基板のズレ、破損、折り目等を防止することが可能になる可撓性基板の貼合せ方法および貼合せ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a diamond or cBN tool capable of maintaining the adequate projection of abrasive grains all the time, and expecting suppression on the accumulation of grinding chips in the tool and improvement in the accuracy of a worked surface, while effectively retaining spontaneous edge sharpening and enabling consecutive high-speed working, and to provide the method for manufacturing the same.例文帳に追加

常に十分な砥粒の突き出しを維持でき、また、研削くずの工具への堆積の抑制や加工面精度の向上が期待でき、さらに自生発刃を効果的に維持して連続的な高速度加工を可能となるダイヤモンドまたはｃＢＮ工具及びその製造法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises an etching process of carrying out an anisotropic etching of a silicon wafer 102 forming an etching mask by using alkali solution; and a breaking process of breaking a projection of the etching mask projecting against the opening 103 of the silicon wafer 102 so as to reside at the corner of the etching mask after the etching process.例文帳に追加

エッチングマスクを形成したシリコンウェハ１０２をアルカリ溶液を用いて異方性エッチングするエッチング工程と、エッチング工程の後に、エッチングマスクのコーナー部に位置するようにシリコンウェハの開口部１０３に対して突出するエッチングマスクの突出部を破断する破断工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a foamed sheet in which a back film is thinned according to the thickness of the maximum thin part of a projection formed in a cap film, thereby assuring the strength of the foamed sheet, and reducing the amount of a material resin used and reducing the weight, and to provide such a foamed sheet.例文帳に追加

キャップフィルムに形成された突起の最薄肉部の肉厚に応じてバックフィルムを薄肉化することにより、気泡シートの強度を確保しながらも、材料樹脂の使用量の削減と軽量化を図ることができる気泡シートの製造方法、及びそのような気泡シートを提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide color photographic sensitive material which improves flesh tone reproducibility in projection on a screen at a theater, and which is particularly suitable for use as a cinematographic color positive photosensitive material, and to provide an image forming method for the same.例文帳に追加

劇場でスクリーンに映写された際の肌階調再現性を良好にするハロゲン化銀カラー写真感光材料であり、特に映画用カラーポジ感光材料として好適に用いられるハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供すること、更にその画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To acquire a measuring method which can measure correctly the height of projection in a direction which is orthogonal to rotation axis of a pair of magnetic head of a tapered drum comprising a taper periphery surface which is un-parallel to a rotation axis and projecting from the taper periphery surface in a 180° opposite position.例文帳に追加

周面が回転軸線と非平行なテーパ周面からなりその１８０゜対向位置に該テーパ周面から突出する一対の磁気ヘッドを有するテーパドラムについて、その一対の磁気ヘッドの回転軸線と直交する方向の突出量を正しく測定できる測定方法を得る。 - 特許庁

To provide a projection type display device that can sufficiently be protected against theft, illegal use, etc., with simple constitution and suitable for practical use by increasing the degree of freedom of handling even for the owner, and a control method thereof.例文帳に追加

この発明は、簡易な構成で盗難や不正使用等から十分に保護することを可能とするとともに、所有者に対しても取り扱いの自由度を高めて実用に好適するようにした投射型表示装置及びその制御方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

To implement the method of rotatively press-fitting the rotary press-in steel pipe pile into the ground, the rotary press-in steel pipe pile equipped with a spiral blade at the distal end of the steel pipe pile and having the spiral projection(s), is employed.例文帳に追加

回転圧入鋼管杭を地盤に回転圧入する回転圧入鋼管杭の施工法において、鋼管杭の先端に螺旋状羽根を備え、かつ前記のような螺旋状突起を有する回転圧入鋼管杭を用いることを特徴とする回転圧入鋼管杭の施工法。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

This method of manufacturing the sampling tool includes: a process of covering the surface including the tip of the sampling needle or a part of the surface with insulating material; a process of separating a part of the insulating material; and a process of growing the projection on the separating part.例文帳に追加

本発明のサンプリング用治具を製造する方法は、前記サンプリングニードルの先端部を含めた表面又は前記表面の一部分を絶縁材料で覆い隠す工程、前記絶縁材料の一部分を剥離する工程、前記剥離部分上に突起を成長させる工程を有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a forged product having a fine diameter part, a sectional area perpendicular to one end of both ends of the axial direction of the fine diameter part being larger than the fine diameter part and a portion including the projection of the section of the fine diameter part in the projected surface of the section in a good material yield.例文帳に追加

細径部とその軸方向の片端もしくは両端に垂直な断面積が細径部より大きくかつその断面の投影面に細径部断面の投影が含まれる部位を有する鍛造製品を、材料歩留り良く製造する方法を提供する。 - 特許庁