「protective insulating～」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive composition which satisfies both of excellent storage stability and high sensitivity and is capable of efficiently forming a permanent pattern such as a protective film or an insulating film with high definition, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a permanent pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた保存安定性と高感度とを両立し、保護膜、絶縁膜などの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a highly reliable semiconductor device capable of realizing a low voltage and a high brightness by obtaining a satisfactory adhesion with an electrode material to prevent an exfoliation or the like of an electrode, even for an interposition of an insulating film or a protective film or the like in the region other than the ohmic contact connection region between a semiconductor layer and an electrode, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

半導体層と電極とがオーミック接続された領域以外の領域において絶縁膜や保護膜等が介在している場合においても、電極材料との良好な密着性を得ることにより、電極の剥がれ等を防止して、信頼性が高く、低電圧化及び高輝度化を実現することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The braid and the electrically insulated protective sleeve, having the excellent electrically insulating properties, heat resistance and melting resistance, can be obtained by using a polyphenylene sulfide oxide fiber having ≥10% crystallinity in the measurement by wide angle X-ray diffraction, ≤15 J/g amount of heat of fusion in the measurement by differential scanning calorimeter (DSC), and 10-50 dtex fineness.例文帳に追加

広角Ｘ線回折の測定における結晶化度が１０％以上であり、かつ示差走査熱量計（ＤＳＣ）の測定における融解熱量が１５Ｊ／ｇ以下であり、繊度が１０〜５０dtexであることを特徴とするポリフェニレンスルフィド酸化物繊維を用いることにより、電気絶縁性に優れ、耐熱、耐溶融性に優れる組紐、電気絶縁保護スリーブを得ることができる。 - 特許庁

To reduce the replacement frequency without causing deterioration in polishing effect even after a long-time use in an insulating sheet layer and a protective sheet formed on the surface of a metal bump forming side of a metal foil in which a metal bump is selectively formed on one surface and an abrasive for polishing the metal bump until the top of the metal bump is exposed.例文帳に追加

一方の表面に選択的に金属バンプが選択的に形成された金属箔の該金属バンプ形成側の面に形成されたところの絶縁シート層及び保護シートと金属バンプを該金属バンプの頂面が露出するまで研磨する研磨剤において、長時間使用しても研磨効果の低下が少なく、交換頻度を少なくする。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film having a preferable color tone and suitable as a material for magnetic tapes, ferromagnetic thin film tapes, photographic films, packaging films, films for electronic parts, electric insulating films, metal laminate films, films to be stuck to glass surfaces such as glass display, protective films for various members, and the like.例文帳に追加

好適な色調を有し、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネートフィルム、ガラスディスプレイ等のガラス表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として好適な積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The protective cover device includes an abutting means for abutting the insulating cap attached to the terminal; a cover means for covering the terminal; a support means for supporting the cover means; and an engagement means actuated in such a manner as to be capable of engaging the abutting means and the support means, while the cover means covers the terminal.例文帳に追加

端子に装着された絶縁キャップに当接される当接手段と、前記端子を被うカバー手段と、当該カバー手段を支持する支持手段と、前記カバー手段が前記端子を被う状態で前記当接手段及び前記支持手段に係合可能に作動される係合手段とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The lamination process is the process of laminating a component 30 for which a metal plate 31 containing copper, aluminum and tin is piled up on an insulating protective member 32 comprising one of a thermoplastic resin, silicone rubber, elastomer and a resin component whose main component is at least one of a polyolefin resin and an ethylene-based copolymer onto a crimp part where the terminal 20 is crimped.例文帳に追加

積層工程は、熱可塑性樹脂、シリコーンゴム、エラストマー、並びに、ポリオレフィン系樹脂及びエチレン系共重合体の少なくとも１つを主成分とする樹脂成分のうち、いずれか１つにより構成された絶縁性の保護部材３２上に、銅、アルミ及びスズを含む金属板３１を重ねた部品３０を、端子２０を圧着した圧着部に積層する工程である。 - 特許庁

For this semiconductor device, a silicon region 4 insulated by an insulating layer 2 and a dielectric isolation region 3 is formed on an SOI substrate 1, a polysilicon resistor 6 is formed via an insulation protective film 5 at the upper part of the silicon region 4, the polysilicon resistor 6 and the silicon region 4 are electrically connected, and the polysilicon resistor 6 is used as a resistor.例文帳に追加

ＳＯＩ基板に絶縁層２や誘電体分離領域３で絶縁されたシリコン領域４を形成し、そのシリコン領域４上部に絶縁保護膜５を介してポリシリコン抵抗６を形成し、そのポリシリコン抵抗６とシリコン領域４を電気的に接続して、ポリシリコン抵抗６を抵抗体として使用する。 - 特許庁

A diamond polycrystal body composed of electrically conductive diamond particles 1 and an insulating protective phase 2 composed of any one kind selected from among silicon carbide, silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, aluminum nitride and resin is joined to at least one face of an electrically conductive substrate 4 with an electrically conductive brazing filler metal 3, so that a diamond electrode can be obtained.例文帳に追加

導電性ダイヤモンド粒子１と炭化珪素、酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、および樹脂のいずれか一種からなる絶縁保護相２とからなるダイヤモンド多結晶体を導電性ロウ材３によって導電性基板４の少なくとも一つの面に接合してダイヤモンド電極とする。 - 特許庁

In the chip resistor where a filmlike resistor 2 is formed on the insulating surface of a substrate 1 and coated with a protective film 5 and an external electrode layer 6 is formed at the opposite ends of the substrate 1, the resistor film 2 is extended below the external electrode layer 6 while sandwiching an insulator film 4 between the resistor film 2 and the external electrode layer 6.例文帳に追加

基板１の絶縁性の表面上に膜状の抵抗体２を形成し、この抵抗体膜２を保護膜５で被覆し、基板１の両端に外部電極層６を形成したチップ抵抗器において、抵抗体膜２を外部電極層６との間に絶縁体膜４を挟んで外部電極層６の下方に延在させた。 - 特許庁

The organic thin-film transistor device, having at least a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, a drain electrode and an organic semiconductor layer on a substrate, is equipped with supporting units which pinch the organic semiconductor layer and the protective layer arranged separately from the organic semiconductor layer with a space by the support of the supporting units.例文帳に追加

基板上に、少なくともゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極、および有機半導体層を有する有機薄膜トランジスタ装置であって、有機半導体層を挟む支持部と、該支持部による支持によって有機半導体層に対して空間を介して離隔配置されている保護層と、を備える。 - 特許庁

This protective device 3 for sealed electric compressor is provided with a protector assembly 2a having a housing 32 fitted with the current fuse 34 which operates by sensing prescribed overcurrent, and the housing 32 has an electrical insulating part 21 formed so as to shield a conductive part on a side facing an external joining terminal.例文帳に追加

本発明の密閉形電動圧縮機用保護装置３は、所定の過電流を感知して動作する電流ヒューズ３４を装着したハウジング３２を有するプロテクタ組立体２ａを備え、このハウジング３２に、外部接続端子に対向する側の導電部を遮蔽するように形成された電気絶縁部２１が設けられている。 - 特許庁

An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.例文帳に追加

この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having superior heat resistance, electrical characteristics, mechanical characteristics or the like, to be used for a surface protective film, interlayer insulating film or the like of a semiconductor device, the composition developable and curable at a low temperature and having superior adhesiveness as the film characteristics, after being cured, and to provide a semiconductor device that uses the composition.例文帳に追加

本発明は、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などにもちいられる耐熱性、電気特性、機械的特性などが優れる感光性樹脂組成物であって、現像、低温硬化が可能であり、かつ硬化後の皮膜特性として優れた接着性を有する感光性樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置を提供するものである。 - 特許庁

In this noncontact data carrier having a resin base material, a metallic antenna coil 13 formed on one surface of the base material and an IC chip 20 connected to the coil 13, an insulating resist material used for an etching process is left on the surface of an antenna layer as a protective film, excluding connection end parts 131, 132 to be connected with the IC chip 20.例文帳に追加

本発明の非接触データキャリアは、樹脂基材と樹脂基材の一方の面に設けられた金属製アンテナコイル１３と、アンテナコイルに接続されたＩＣチップ２０とを有する非接触データキャリアにおいて、アンテナ層表面にはＩＣチップとの接続端部１３１，１３２を除き、エッチング工程で使用した絶縁性のレジスト材料が保護膜として残存していることを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor device includes: two or more electrical element components which mutually adjoin along the surface of a semiconductor material and contain a metal in which silicide formation is performed; and a protective insulating film which covers the two or more electrical element components and contains silicon and in which thin film formation is performed at a temperature in which the metal contained in the electrical element components does not substantially perform the silicide formation.例文帳に追加

半導体材料の表面に沿って互いに隣接する、シリサイド化される金属を含有する複数の電気素子要素と、複数の電気素子要素を覆い、電気素子要素に含まれる金属が実質的にシリサイド化しない温度で薄膜形成したシリコンを含む保護絶縁膜と、を備える半導体装置が提供される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, realizes a pattern with a high film remaining rate when developed and after cured, has excellent resolution and a pattern profile of a micro pattern, and has high heat resistance and mechanical performance required for the usage for a surface protective film and an interlayer insulating film of a semiconductor element.例文帳に追加

高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in adhesion to a substrate in a development step and after moisture treatment and in storage stability, a cured film composed of a cured product of the positive photosensitive resin composition, a protective film and an insulating film composed of the cured film, a semiconductor device and a display device.例文帳に追加

現像工程及び湿度処理後の基板との密着性、及び保存安定性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を、また、前記ポジ型感光性樹脂組成物の硬化物で構成されている硬化膜を、さらに、前記硬化膜で構成されている保護膜、絶縁膜、半導体装置及び表示体装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The thermal head comprises the heating resistor 3 formed of a resistor layer, the electrode wires 4 each formed of a metallic layer and electrically connected to the heating resistor 3, insulating layers 6 which are each formed by oxidizing part of each of the resistor layer and the metallic layers, and a protective layer 5 for covering the heating resistor 3 and the electrode wires 4.例文帳に追加

抵抗体層から成る発熱抵抗体３と、該発熱抵抗体３に電気的に接続され、金属層から成る電極配線４と、前記抵抗体層及び前記金属層の一部が酸化されて形成された絶縁層６と、前記発熱抵抗体３及び前記電極配線４を被覆する保護層５と、を備えたサーマルヘッドを構成する。 - 特許庁

The fillet-less chip resistor is composed of a tantalum nitride thin film resistor 21 arranged on the top surface of an angular insulating board 12, thin film electrodes 22 of copper arranged on each side of the resistor 21, a protective film 23 which covers the major part of the resistor 21 and is formed of an inorganic material, and plating electrodes 24 formed on the thin film electrodes 22.例文帳に追加

角型絶縁基板１２の上面に配置された窒化タンタル薄膜からなる抵抗体２１と、該抵抗体の両端部に配置された銅からなる薄膜電極２２と、抵抗体の主要部を被覆する無機材料からなる保護膜２３と、薄膜電極上に形成されためっき電極２４とからなる。 - 特許庁

The organic thin film transistor is constituted of a first substrate, a gate electrode, a gate insulating film, an organic semiconductor film, a source electrode, a drain electrode, a protective film and a second substrate while the adhering force of the source electrode and the drain electrode to the second substrate is stronger than that to the first substrate.例文帳に追加

第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されている有機薄膜トランジスタであって、前記ソース電極およびドレイン電極の第２基板に対する付着力が第１基板に対する付着力よりも強い有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁

To provide an insulating material A for a printed wiring board B formed by laminating a cured resin layer 2, an adhesive layer 3 and a protective film layer 4 and to enhance the continuity reliability by preventing a viahole 9 from becoming long and large when the printed wiring board B is manufactured while preventing the lowering of reliability caused by the heat history of the printed wiring board B.例文帳に追加

硬化樹脂層２、接着層３、保護フィルム層４を積層して形成したプリント配線板用絶縁材料Ａに関し、プリント配線板Ｂを製造する場合のバイアホール９の長大化を防止による導通信頼性向上と、プリント配線板Ｂの熱履歴による信頼性の低下防止とを図る。 - 特許庁

A gate oxide film 12, a gate electrode 13, and a protective insulating film 14 are sequentially formed on a semiconductor substrate surface 11 and impurity injection is conducted, and after the formation of an extremely shallow impurity diffusion region 18, a semiconductor material film 21 having an impurity diffusion rate higher than that of the semiconductor substrate 11 is deposited on the extremely shallow impurity diffusion region 18.例文帳に追加

半導体基板面１１にゲート酸化膜１２、ゲート電極１３、保護絶縁膜１４を順次形成した後、不純物注入を行い、極浅不純物拡散領域１８を形成後、極浅不純物拡散領域１８上に、半導体基板１１の不純物拡散係数以上の不純物拡散係数を有する半導体材料膜２１を成膜する。 - 特許庁

The semiconductor device is a semiconductor device packaged in a non-air tight package; and comprises a semiconductor substrate, a wiring metal film formed on the semiconductor substrate, a plating power feeder film formed on the wiring metal film, the Au plated part formed on the plating power feeder film, a metal film for covering the Au plated part, and an insulating protective film for covering the metal film.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置は、非気密パッケージに実装される半導体装置であって、半導体基板と、半導体基板上に形成された配線金属膜と、配線金属膜上に形成されたメッキ給電膜と、メッキ給電膜上に形成されたＡｕメッキ部と、Ａｕメッキ部を覆う金属膜と、金属膜を覆う絶縁保護膜とを有する。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which fine permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This metal laminate includes: a core layer 110 made of an insulating material; a metal layer 120 disposed on one surface of the insulation layer 110; a heat dissipation metal layer 130 disposed on the other surface of the insulation layer 110; and a protective metal oxide layer 140 disposed along an outer surface of the heat dissipating metal layer 130 and made of an oxide of the heat dissipating metal layer 130.例文帳に追加

本発明のメタル積層板は、絶縁材質のコア層１１０と、該絶縁層１１０の一面上に配置された金属層１２０と、該絶縁層１１０の他面上に配置された放熱金属層１３０と、該放熱金属層１３０の外面に沿って配置され、該放熱金属層１３０の酸化物からなる保護金属酸化層１４０とを含む。 - 特許庁

An electrode cap and a resistor assembly element are integrated to form a resistor, after a resistance value is adjusted and an insulating protective film is formed, flaws and dirt sticking to the electrode cap surface made of Sn/Sn alloy plating during a manufacturing process and an oxidized layer formed on the surface are removed by hydrochloric acid to cleans them, and an oxidation preventing film is formed on the cleansed surface.例文帳に追加

電極キャップと抵抗体を一体化して抵抗器を形成し、抵抗値調整、絶縁保護膜を形成した後に、Ｓｎ／Ｓｎ合金メッキからなる電極キャップ表面に製造工程で付いた傷や汚れや表面に形成された酸化層を塩酸系溶液で除去して清浄にし、清浄にした表面に酸化防止膜を形成する。 - 特許庁

At the position where the seal material 5 is contact with a transfer electrode 7 provided in a peripheral region of the array substrate 1, a coating film (a protective film 6 or a gate insulating film 13 and interlayer dielectrics 16 and 17) formed covering a display region of the array substrate 1 is expanded to come into contact with the seal material 5.例文帳に追加

シール材５がアレイ基板１の周辺領域に設けられたトランスファ電極７と接する位置において、アレイ基板１の表示領域を覆って形成された被覆膜（保護膜６、あるいはゲート絶縁膜１３及び層間絶縁膜１６，１７）がシール材５と接するように拡張されている。 - 特許庁

The inkjet head 1 includes piezoelectric members 3 and 4 in which an ink chamber 33 to be supplied with the ink 31 is formed, electrodes 7 and 8 formed on surfaces of the piezoelectric members 3 and 4 on the ink chamber 33 side, and the protective film 9 which includes a material with an insulating property and a flexibility and is formed on surfaces of the electrodes 7 and 8 in a region in contact with the ink 31.例文帳に追加

インクジェットヘッド１は、インク３１が供給されるインク室３３が形成された圧電部材３、４と、インク室３３側の圧電部材３、４の表面に形成された電極７、８と、絶縁性及びフレキシブル性を有する材料を含み、インク３１と接する領域の電極７、８の表面に形成された保護膜９とを備えている。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be efficiently formed with high definition, by forming a desired drawn pattern with few jags on a surface of a photosensitive layer to be exposed without reducing exposure speed, in a pattern forming method in which exposure is performed for drawing by inclining a light modulating means.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This heat-resistant protective box 1 comprises an inside vessel 2 that is molded using plaster material and includes a storage section 20 for storing the temperature measuring instrument 5, an outside vessel 3 that is molded using heat insulating material and into which the inside vessel 2 is inserted, and a drawing part 4 of a thermocouple 6 or a resistance thermometer sensor connected to the temperature measuring instrument 5.例文帳に追加

石膏材を用いて成形され、内部に温度計測器５を収納するための収納部２０を備える内側容器２と、断熱材を用いて成形され、内部に前記内側容器２が嵌め込まれる外側容器３と、前記温度計測器５に接続される熱電対６又は測温抵抗体の引き出し部４とより耐熱保護ボックス１を構成した。 - 特許庁

To provide a pre-insulating substrate provided with a protective sheet having sufficient adhesive strength to treatment for rendering the substrate insulated, a method of manufacturing a substrate where only a desired range of a base surface is rendered insulated, a method of manufacturing a surface acoustic wave vibrator, the surface acoustic wave vibrator manufactured by the manufacturing method, a surface acoustic wave device, and electronic apparatus.例文帳に追加

絶縁化処理に対して十分な密着強度を有する保護膜を備えた絶縁化処理前基板、および基体表面のうち所望の範囲のみが絶縁化処理された基板の製造方法、弾性表面波振動子の製造方法、さらに当該製造方法によって製造された弾性表面波振動子、弾性表面波装置、電子機器を提供すること。 - 特許庁

This ignition device for igniting an oil fuel comprises a protective case 10 containing a high-voltage generator, a pair of electrode bars 20A and 20B causing an electric discharge by application of a high voltage from the high voltage generator, an auxiliary member 30 for insulating and holding the electrode bars 20A and 20B, a nozzle for injecting the oil fuel, and the like.例文帳に追加

石油燃料に点火するための点火装置は、高電圧発生器を収容した保護ケース１０、高電圧発生器により高電圧が印加されて放電を起こす一対の電極棒２０Ａ，２０Ｂ、これらの電極棒２０Ａ，２０Ｂを絶縁保持する補助部材３０、および石油燃料を噴射するノズル４１などからなる。 - 特許庁

The level difference in the base when a photoresist pattern is formed during forming the track width for the lead head is eliminated while conrolling the overetching amount and thickness of deposited films so as to allow the uppermost surface of a magnetoresistance film 30, the uppermost surface of a magnetic domain conrolling film 50 and the uppermost surface of a protective insulating film 40 to be on one plane.例文帳に追加

磁気抵抗効果膜３０の最上面と磁区制御膜５０の最上面と保護絶縁膜４０の最上面が同一平面上にあるように、オーバーエッチング量及びデポ膜厚を制御することにより、リードヘッドのトラック幅形成におけるホトレジストパターン形成時の下地の段差をなくすもの。 - 特許庁

The storage medium 3 is configured in such a way that it has a storage layer 17 holding information by a magnetic state of a magnetic body, a magnetized fixed layer 31 is provided via an insulating layer 16 being a tunnel barrier for this storage layer 17, and the storage layer 17 contacts a base layer or an upper protective layer 19 via an oxide layer 18.例文帳に追加

情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層１７を有し、この記憶層１７に対して、トンネルバリアとなる絶縁層１６を介して磁化固定層３１が設けられ、記憶層１７が、酸化物層１８を介して、下地層或いは上層の保護層１９に接している記憶素子３を構成する。 - 特許庁

A protective layer is formed on a wiring part 3 by a procedure, containing a process for electrodepositing electrodeposition resin by covering the wiring part 3, a process for partially forming a resist layer 5 on a substrate 1 which has the wiring part 3 on an insulating layer 2 where an electrodeposition resin layer 4 is formed and a process for etch-processing the substrate, where the resist layer 5 is formed in part.例文帳に追加

配線部３を覆って電着樹脂を電着する工程、電着樹脂層４が形成された絶縁層２上の配線部３を有する基板１に部分的にレジスト層５を形成する工程、部分的にレジスト層５が形成された基板をエッチング処理する工程を含む手順により配線部３の上に保護層を形成する。 - 特許庁

To provide a polyamide resin excellent in balance of cyclization rate upon curing at a low temperature and transmittance, to provide a positive photosensitive resin composition excellent in reflow resistance by applying the polyamide resin, and to provide a cured film, a protective film, an insulating film and a semiconductor device and a display device using the same.例文帳に追加

透過率、低温で硬化した際の環化率のバランス優れたポリアミド樹脂を提供すること、また、前記ポリアミド樹脂を適用することにより、リフロー耐性に優れたポジ型感光性樹脂組成物提供すること、また、硬化膜、保護膜、絶縁膜およびそれを用いた半導体装置、表示体装置を提供する。 - 特許庁

A plate- or pipe-type heater comprises a heating part formed by sequentially depositing an insulating glass layer and a resistance layer of Ag-palladium group over at least one side of a metal plate, and a protective layer formed by sequentially depositing a glass layer, epoxy resin layer and fluorinated resin layer.例文帳に追加

金属基板、該金属基板の少なくとも一方の表面に絶縁ガラス層および銀−パラジウム系の抵抗体層がこの順で積層されてなる発熱部、ならびに該銀−パラジウム抵抗体層上に保護用ガラス層、エポキシ樹脂層およびフッ素樹脂層がこの順で積層されてなる保護部からなる構造を有する板状またはパイプ状ヒータ。 - 特許庁

And, even if a semiconductor thin film forming layer 7b unnecessarily remains continuing to the semiconductor thin film forming layer 7a under a faulty drying flaw 22, the channel protective film 8a for faulty drying prevention acts as an insulating film, and thereby the drain electrode 13 and a pixel electrode 15 are prevented from being shorted.例文帳に追加

そして、乾燥不良痕２２下に半導体薄膜形成用層７ｂが半導体薄膜形成用層７ａに連続して不要に残存しても、乾燥不良防止用チャネル保護膜８ａが絶縁膜として機能することにより、ドレイン電極１３と画素電極１５とがショートしないようにすることができる。 - 特許庁

A fixed electrode 64 and a taking-out electrode 65 are integrally formed on an insulating film comprising an aramid unwoven epoxy film, a semiconductor element 68 is mounted on the electrode 64 through a solder 67, the upper electrode and the electrode 65 of the element 68 are bonded by a gold wire 69, and these are resin sealed by a protective synthetic resin 70.例文帳に追加

アラミド不織布エポキシフィルムからなる絶縁フィルム上に固着電極６４と取出し電極６５を一体に形成し、該固着電極６４上にはんだ６７を介して半導体素子６８を取り付け、半導体素子６８の上面電極と取出し電極６５を金ワイヤ６９でボンディングし、これらを保護用合成樹脂７０で樹脂封止する。 - 特許庁

The film thickness of the pull-out wiring 43 formed along the surface of a protective insulating layer 40 and that of the first metal layer 18 for sealing and the first metal layer 19 for electrical connection are set independently, so that the pad 42 of the IC E2 is electrically connected to the first metal layer 19 for electrical connection.例文帳に追加

ＩＣ部Ｅ２のパッド４２と第１の電気接続用金属層１９とを電気的に接続するように保護絶縁層４０の表面に沿って形成された引き出し配線４３の膜厚と第１の封止用金属層１８および第１の電気接続用金属層１９の膜厚とが独立して設定されている。 - 特許庁

A pair of electrodes 20 and 21 constituted by covering electrode materials 10 and 11 with a protective film 12 are arranged on a substrate (a silicon substrate 1 and an insulating film 2) so as to be exposed to the atmosphere and a change in the capacitance between a pair of the electrodes 20 and 21 accompanied by the adhesion of water is detected.例文帳に追加

基板（シリコン基板１、絶縁膜２）の上において、電極材１０，１１を保護膜１２により被覆して構成した一対の電極２０，２１が、当該電極２０，２１が大気に晒される状態で配置され、被水による水の付着に伴う一対の電極２０，２１間の容量の変化を検出する。 - 特許庁

The semiconductor device 100 includes: a tunnel insulating layer 101; a conductive film 102 for a floating gate; a dielectric layer 103; a conductive film 104 for a control gate; a gate electrode layer 105 formed of a tungsten layer; and a protective layer 107 formed of a dual layer consisting of a nitride layer 107a and an oxide layer 107b, on a sidewall of the gate electrode layer 105.例文帳に追加

半導体素子は、半導体基板１００上に順次積層されたトンネル絶縁膜１０１、フローティングゲート用導電膜１０２、誘電体膜１０３、コントロールゲート用導電膜１０４、およびタングステン膜で形成されたゲート電極膜１０５、並びに、ゲート電極膜１０５の側壁に、窒化膜１０７ａおよび酸化膜１０７ｂからなる二重膜で形成された保護膜１０７を含む。 - 特許庁

The director for an electrotherapeutic tool comprising a director pad 6 with a contact face for therapy and an electrically insulating protective member 7 provided so as to cover at least the back face of the director pad 6 and wherein the director pad 6 is integrally molded with a rubbery elastic body and a good conductive layer 2 containing a conductive fiber, is provided.例文帳に追加

治療当接面５を有する導子パッド６と、該導子パッド６の少なくとも裏面を覆うように設けられた電気絶縁性の保護部材７とからなり、該導子パッド６はゴム状弾性体と導電性繊維を含む良導電性層２とで一体化成形されている電気治療器用導子である。 - 特許庁

The semiconductor is provided with the polysilicon fuse 101 having a blowout section 101a, an interlayer insulating film 106 having a recess 106a on the blowout section 101a, a surface protective film 107 having an opening section 107a on the recess 106a, a buffer film 108 with which the recess 106a and the opening 107a are filled, and a sealing resin layer 109 are sequentially laminated.例文帳に追加

半導体装置は、溶断部１０１ａを有するポリシリコンヒューズ１０１を備え、溶断部１０１ａ上に凹部１０６ａを有する層間絶縁膜１０６と、凹部１０６ａ上に開口部１０７ａを有する表面保護膜１０７と、凹部１０６ａ及び開口部１０７ａを充填する緩衝膜１０８と、封止樹脂層１０９とが順次積層されている。 - 特許庁