「reactive processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve such a failure problem as shift of processing point position, focusing shift, and image quality deterioration accompanying degradation of beam resolution or the like, caused by inflow of reactive gas into an optical lens barrel, in a charged particle beam processing device.例文帳に追加

本発明は、荷電粒子線加工装置において、反応性ガスが光学鏡筒内に流入することによって発生する、加工点位置ずれ，フォーカスずれ、及びビーム分解能低下に伴う像質劣化などの不良問題を解決することに関する。 - 特許庁

The etching processing method includes (a) a step of performing etching processing of the surface of a SiC substrate 2, both surfaces of which have been mirror-polished with reactive plasma, and at the same time, irradiating the surface or the backside of the SiC substrate 2 with a laser light 14.例文帳に追加

本発明に係るエッチング処理方法は、（ａ）表裏両面を鏡面研磨されたＳｉＣ素基板２の表面を反応性プラズマによりエッチング処理するとともに、ＳｉＣ基板２の表面または裏面にレーザ光１４を入射する工程を備える。 - 特許庁

The exhaust gas processing method comprises a step where at least part of saturated hydrocarbon in the exhaust gas is modified into the unsaturated hydrocarbon, a step where at least part of noxious components in the exhaust gas is converted into a highly reactive gas, and a step where the noxious components partly converted into the highly reactive gas are removed by a catalytic substance.例文帳に追加

排気ガス中の飽和炭化水素の少なくとも一部を不飽和炭化水素に改質する段階と、排気ガス中の有害成分の少なくとも一部を反応性の高いガスに転化する段階と、少なくとも一部が反応性の高いガスに転化された有害成分を触媒によって清浄化する段階とを順に実施する排気ガス処理方法。 - 特許庁

A very small amount of a first gas containing fluorine atoms in molecules and having a function to remove a dopant and a second gas restraining the first gas from corroding the surface of a wafer as an object of processing are added to an oxygen gas for obtaining a reactive gas to use, and the above reactive gas is excited into high-density plasma to remove an ashing retardant resist film by ashing.例文帳に追加

酸素ガスに、分子中にフッ素を含有し、前記ドーパントを除去する作用を有する第１のガス微量加えるとともに、前記第１のガスの非処理体であるウェハ表面に対する腐食を抑制する第２のガスを加えたものを反応ガスとして用い、高密度プラズマを励起して難灰化性レジスト膜を灰化・除去する。 - 特許庁

To provide a moisture-curing reactive hot-melt adhesive having a good close adhesion to an aromatic group-containing substrate material e.g. a polyester sheet even in a severe winter period, and useful for the laminate-processing etc. of a decorated polyester sheet.例文帳に追加

芳香族基含有基材、例えばポリエステルシートに対して厳冬期においても良好な密着性を有し、化粧ポリエステルシートのラミネート加工等に有用な湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤を提供する。 - 特許庁

With radiation of high frequency oxygen plasma, the surface of reaction product (4) is physically shocked and such reactive product can be removed easily with a post-processing (ashing and wet process with an organic solvent).例文帳に追加

この高周波を伴う酸素プラズマ照射により、反応生成物（４）の最表面が物理的な衝撃を受け、後処理（アッシング及び有機溶剤によるウエット処理）によって、容易に除去することができる。 - 特許庁

The reactive gas containing a polymeric monomer is blown out from a nozzle 14 of a plasma processing apparatus 10, put into contact with a transparent film 9 to be treated, and plasma generated under a pressure close to an atmospheric one is applied to the transparent film 9.例文帳に追加

プラズマ処理装置１０のノズル１４から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出して、透明な被処理フィルム９に接触させ、かつ被処理フィルム９に大気圧近傍下で生成したプラズマを照射する。 - 特許庁

The step of forming the source wiring 95 includes a step of forming a conductor film on the source contact electrode 92 and a step of processing the conductor film by etching the conductor film in a reactive ion etching.例文帳に追加

ソース配線９５を形成する工程は、ソースコンタクト電極９２上に導電体膜を形成する工程と、導電体膜を反応性イオンエッチングによりエッチングすることにより導電体膜を加工する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a moisture-curing type reactive hot melt adhesive having a good close adhesion with an aromatic group-containing substrate material e.g. a polyester sheet even in a severe winter period, and useful for the laminate processing of a decorated polyester sheet, etc.例文帳に追加

芳香族基含有基材、例えばポリエステルシートに対して厳冬期においても良好な密着性を有し、化粧ポリエステルシートのラミネート加工等に有用な湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤を提供する。 - 特許庁

Two layers of an inert substance layer 28 which is not reactive to the gelatinous substance 21 and the water layer 29 for stabilization as solid-state by-product 30 through reaction with the gelatinous substance 21 are provided within a mixed reaction vessel 33 of the processing apparatus 20.例文帳に追加

処理装置２０の混合反応槽３３には、ゲル状物質２１とは反応しない不活性物質層２８と、ゲル状物質２１と反応して固体生成物３０として安定化させる水層２９との二層が備えられている。 - 特許庁

To provide an etching method capable of forming a capacitor in which the generation of a leakage current is suppressed by reducing the adhesion of reactive products to the sidewall of a pattern in the processing of an FeRAM device capacitor, capable of suppressing the generation of foreign substance and suitable for device mass production.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭデバイスキャパシタ部の加工において、パターン側壁への反応生成物付着を低減して漏れ電流が生じないキャパシタ部を形成し、かつ異物の発生が少なくデバイス量産性に適したエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To restore to a normal-pressure atmosphere in a short time while whirling of particles is suppressed when, for example, a nitrogen gas is guided into a reactive vessel for restoration to a normal pressure after, for example, film forming process is performed in a vacuum atmosphere using a vertical thermal processing device.例文帳に追加

例えば縦型熱処理装置を用いて真空雰囲気下で成膜処理を行った後、例えば窒素ガスを反応容器内に導入して常圧に戻すにあたって、パ−ティクルの巻き上がりを抑えながら短時間で常圧雰囲気に戻すこと。 - 特許庁

The adhesive sheet 11 for processing is an adhesive sheet 11 for processing containing at least a base material 12 constituted by containing soft vinyl chloride and an adhesive layer 13 characterized in that it contains a radiation polymerizable compound having at least 2 or more light reactive functional groups in one molecule.例文帳に追加

本発明に係る加工用粘着シート１１は、少なくとも基材および粘着剤層を有する加工用粘着シート１１であって、前記基材１２は軟質塩化ビニルを含み構成され、前記粘着剤層１３には、一分子中に少なくとも２以上の光反応性官能基を有する放射線重合性化合物が含まれることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a blocked polyurethane prepolymer-based reactive composition capable of reacting without accompanying separation of a blocking agent, having a good storage life at room temperature, capable of being crosslinked at low temperature, having sufficiently long pot life or processing time, and useful as an adhesive composition.例文帳に追加

ブロック剤の分離を伴わずに反応でき、室温で良好な貯蔵寿命を有し、低温でも架橋でき、十分に長いポットライフ又は加工時間を有する、接着剤組成物として有用なブロックトポリウレタンプレポリマー系反応性組成物を提供する。 - 特許庁

The starch-vegetable oil graft copolymer can further be reinforced with biofiber in the presence of an optional modifier such as maleic anhydride by reactive extrusion processing to form composites suitable to be injection-molded into biodegradable articles.例文帳に追加

このデンプン−植物油グラフトコポリマーは、反応性押出加工により、無水マレイン酸などの任意選択の改質剤の存在下、生物繊維でさらに強化されて、生分解性物品に射出成形するのに適した複合材料を形成することができる。 - 特許庁

This liquid crystal mixture for polymer stable orientation processing contains a first liquid crystal compound that does not have at least one set of double bond, a second liquid crystal compound that has at least one set of double bond, and the reactive monomers that has at least one set of methacrylate group.例文帳に追加

ポリマー安定型配向処理のための混合液晶が、少なくとも一組のいかなる二重結合も有さない第１の液晶化合物、少なくとも一組の二重結合を有する第２の液晶化合物、及び、少なくとも一組のメタクリル酸基を有する反応性単量体を含む。 - 特許庁

In the laminate of the protective film formed on the wafer and the die attach film, the protective film is formed by executing plasma processing using a reactive gas to the surface of a resin film formed from a resin composition containing two or more kinds of resins of different etching rates.例文帳に追加

ウエハ上に形成された保護膜とダイアタッチフィルムとの積層体であって、前記保護膜が、エッチングレートの異なる２種以上の樹脂を含む樹脂組成物から形成される樹脂膜の表面に反応性ガスを用いたプラズマ処理を施して成ることを特徴とする積層体。 - 特許庁

To realize an inkjet recording device which forms images by discharging reactive inks and pigment inks to recording materials, which permits an efficient processing of waste inks and can prevent the discharge opening of the waste inks from getting blocked and is reliable.例文帳に追加

本発明の目的は、反応性インクおよび顔料インクを被記録材に吐出して画像を形成するインクジェット記録装置において、効率よく廃インク処理をすることを可能にし、廃インクの排出口が閉塞しない信頼性の高いインクジェット記録装置を実現することにある。 - 特許庁

To manufacture a wiring structure that uses an interlayer film of an insulating organic material with less processes, without using an etching mask or etching stopper layer in an interlayer film work, nor affected by a reactive product generated through plasma processing.例文帳に追加

層間膜加工におけるエッチングマスクやエッチングストッパ層を用いることなく、また、プラズマ処理により生成する反応生成物の悪影響を受けることなく、絶縁性を有する有機材料による層間膜を用いた配線構造をより少ない工程で製造できるようにする。 - 特許庁

To correctly read the relative position between a table and a ram, when the ram moves or halts at a higher accelerated velocity in the device for detecting a drive member position of a press machine and even if a frame is deformed by movement or halt at the higher accelerated velocity and by a reactive force at the time when processing a work.例文帳に追加

プレス機の駆動部位置検出装置において、ラムが大きい加速度で移動もしくは停止し、また、上記大きい加速度での移動もしくは停止とワークを加工するときの反力とによってフレームが変形しても、テーブルと上記ラムとの間の相対的な位置を正確に読み取る。 - 特許庁

A substrate processing system comprising a vacuum deposition process chamber 133 having an exhaust port 152 arrange to discharge one or more particle during a deposition cycle and a cleaning gas reactive species during a cleaning cycle, and an insitu particle monitor 190 coupled with the exhaust port 152 is employed.例文帳に追加

排気口１５２が堆積サイクルの間に１つ以上の粒子と洗浄サイクルの間に洗浄ガス反応種を排出するように構成された真空堆積プロセスチャンバ１３３と、排気口１５２に結合したインサイチュ粒子モニタ１９０とを含む基板処理システムを用いる。 - 特許庁

The method for modifying the hot metal desulfurization slag so that it can be reused as various refining materials includes: loading the hot metal desulfurization slag into a reaction tank where a combustion gas is used as a reactive gas; and roasting the same, thereby processing the hot metal desulfurization slag into the recyclable modified slag.例文帳に追加

溶銑脱硫スラグを再利用可能な改質スラグにするに当たり、その溶銑脱硫スラグを、燃焼ガスを反応ガスとして用いる反応槽内に装入して焙焼し、各種精錬材として再利用できるようにする溶銑脱硫スラグの改質方法。 - 特許庁

This cell activator contains, as a main ingredient, a processed product consisting mainly of an ingredient comprising a protein, a polypeptide, a lower peptide and/or an amino acid taken out by processing feathers, and/or a derivative obtained by reacting the ingredients originated from the feather with a reactive compound.例文帳に追加

細胞活性剤が、羽毛から加工処理をして取り出されたタンパク質、ポリペプチド、低級ペプチドおよび／またはアミノ酸からなる成分を主成分として含む加工処理品および／または羽毛由来のそれら成分に反応性化合物を反応して得られた誘導体を主成分とすることを特徴とする細胞活性剤。 - 特許庁

A polyester cloth is impregnated with a processing liquid containing (A) a water-soluble urethane resin having ≥2 reactive vinyl groups and (B) a hydrophilic polyalkylene-added vinyl monomer, and the cloth is heat-treated with steam to form a highly durable hydrophilic coating film on the surface layer of the polyester cloth and achieve the hydrophilization treatment of the polyester cloth.例文帳に追加

少なくとも２個以上の反応性ビニル基を有する水溶性ウレタン樹脂（Ａ）とポリアルキレン付加型ビニル系親水モノマー（Ｂ）を含む加工液を含浸後、蒸熱処理することでポリエステル系布帛表面層に耐久性に優れた親水性皮膜を形成するポリエステル系布帛の親水加工方法。 - 特許庁

The method comprises the steps of conducting the NH_3 plasma processing to a substrate 20 by generating the NH_3 plasma to the surface of the substrate 20 within a chamber, removing a reactive byproduct including nitrogen remaining within the chamber, and forming an SiC film 34 with the PECVD method on the substrate 20 within the chamber.例文帳に追加

チャンバー内において基板２０表面にＮＨ_３プラズマを発生させ、基板２０に対してＮＨ_３プラズマ処理を行う工程と、チャンバー内に残留する窒素を含む反応生成物を除去する工程と、チャンバー内において、基板２０上に、ＰＥＣＶＤ法によりＳｉＣ膜３４を成膜する工程とを有する。 - 特許庁

An inkjet recording medium is prepared by successively coating a gas-permeable substrate with an undercoat layer coating composition comprising a reactive surfactant-containing nitrile-butadiene copolymer and a water-absorbing inorganic pigment, and with a top layer coating composition comprising a sub-micrometer pigment and a binder, and performing cast processing.例文帳に追加

透気性の支持体上に、反応性界面活性剤を含有するニトリルブタジエン共重合体と吸水性無機顔料を含有する下層塗工組成物と、サブミクロン顔料及びバインダーを含有する上層塗工組成物を順次塗工し、キャスト処理を行うことによってなるインクジェット記録媒体。 - 特許庁

When the processing of the predetermined number of sheets are ended and the highly reactive uppermost surface is removed from the surface of the protective layer 12E, the polishing particles 40 are not supplied to the rubbing auxiliary member 22 and, therefore, there is no such a risk that the protective layer 12E is polished over the necessary amount and the performance is adversely affected.例文帳に追加

所定の枚数を処理し終わり、反応性の高い極表層が保護層１２Ｅ表面に存在しなくなった時点では摺擦補助部材２２に対して研磨粒子４０は供給されないので、保護層１２Ｅが必要量を越えて研磨され、性能に影響を与える虞はない。 - 特許庁

In the deposition method, a thin film is formed by using a deposition apparatus that exhausts atmosphere in a processing container and supplies feed gas and reactive gas into the processing container by an evacuation system 82 that holds a workpiece W in the cylindrical processing container 14 and halfway interposes a valve mechanism 86 capable of arbitrarily setting an opening including full opening and full closing.例文帳に追加

筒体状の処理容器１４内に被処理体Ｗを保持し、全開及び全閉を含んで弁開度を任意に設定することができる弁機構８６が途中に介設された真空排気系８２により処理容器内の雰囲気を排気しつつ処理容器内に原料ガスと反応性ガスとを供給するようにした成膜装置を用いて薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスと反応性ガスとを処理容器内へ交互に供給すると共に、原料ガスの供給時の弁機構の弁開度を、原料ガスの非供給時の弁開度よりも、全閉状態を除いて小さく設定する。 - 特許庁

The thermoplastic elastomer composition comprises: a thermoplastic elastomer composition (E) prepared by dispersing the modifying rubber (D) having an acid anhydride group or an epoxy group in a modified polyamide resin (C) obtained by melting and blending the polyamide resin (A) and a compound (B) reactive with the terminal amino group of the polyamide resin; and a processing aid (F) composed of an alkaline earth metal salt of a higher fatty acid.例文帳に追加

ポリアミド樹脂（A）およびポリアミド樹脂の末端アミノ基と反応し得る化合物（B）を溶融ブレンドして得られる変性ポリアミド樹脂（C）に酸無水物基もしくはエポキシ基を有する変性ゴム（D）が分散してなる熱可塑性エラストマー組成物（E）および、高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩からなる加工助剤（F）を含んでなる熱可塑性エラストマー組成物。 - 特許庁

An independent porous body part 3 is formed in matrix form by a plastic processing method in a plate-like porous body 2 wherein fine vacancies are linked three-dimensionally in a network shape, reactive DNA probe molecules are immobilized and retained by using the porous body part 3 as a carrier, and a foam metal or a metal sintered body is used as the porous body, to thereby improve economy.例文帳に追加

微細な空孔が３次元的に網目状に連なる板状の多孔質体２に、塑性加工の方法で独立した多孔質体部３をマトリックス状に形成し、この多孔質体部３を担体として反応性ＤＮＡプローブ分子を固定化して保持し、多孔質体として発泡金属または金属焼結体を用いることで経済化を図る。 - 特許庁

The method for processing a silicon-based insulating film 2 formed on a silicon substrate 1 and having a hole k comprises a step for deforming the hole k by sputter etching using inert gas to which CxHyFz-based reactive gas (x>0, y≥0, z>0) is added, and suppressing generation of a space (Void) in the silicon-based insulating film 2.例文帳に追加

シリコン基板１上に形成された、孔部ｋを有するシリコン系絶縁膜２の加工方法であって、不活性ガスにＣｘＨｙＦｚ系の反応性ガス（ｘ＞０，ｙ≧０，ｚ＞０）を添加したガスを用いたスパッタエッチングにより孔部ｋを変形させて、シリコン系絶縁膜２内に空間部（Ｖｏｉｄ）が発生するのを抑制する工程を含む。 - 特許庁

By using a method of dry etching which uses a reactive gas with high processing accuracy for etching and by controlling the etching depth d larger than the thickness (t) of the transparent film 11, the height (h) of disk-like protrusions 13 can be made uniform, fluctuation in the volume of the protrusions 13 can be suppressed and the size of the microlenses 14 after the heat treatment is made uniform.例文帳に追加

エッチングに加工精度の高い反応性ガスを用いたドライエッチング法を用い、エッチングの深さｄが透明膜１１の厚さｔより深くなるようにすることにより、円板状の突起１３の高さｈを一定にすることができ、突起１３の体積変動が抑えられ、熱処理後のマイクロレンズ１４のサイズが均一となる。 - 特許庁

In a circular bearing seal in which an expanding portion of an elastic seal layer is formed at a periphery of the outside and inside of the bearing seal by means of punching press working after integrating the rubber-made elastic seal layer with a sheet steel, the elastic seal layer is set to reform its surface layer by using a reactive chemical surface processing agent of a chloride series after applying punching press working.例文帳に追加

ゴム製の弾性シール層を鋼板に一体化させた後の打抜きプレス加工により、その外及び内の周縁部に弾性シール層の膨出部が形成されているリング状の軸受用シールにおいて、弾性シール層は、打抜きプレス加工の後に、その表面層が、クロル系の反応性化学表面処理剤を用いて改質されたものである。 - 特許庁

In the structure, a contact protection layer is inserted on a p-type contact layer, and, by subjecting an insulating film to thermal processing after subjecting it to RIE, an opening for contact can be formed without inclusion of reactive ions in the p-type contact layer that causes the contact resistance to increase and without causing resistance of the p-type contact layer to increase by etching.例文帳に追加

本発明によるとp型コンタクト層上にコンタクト防護層を挿入した構造とし、絶縁膜RIE後に熱処理を行うことでコンタクト抵抗増加の影響を及ぼすp型コンタクト層への反応性イオンの侵入やp型コンタクト層のエッチングによる高抵抗化の影響を与えることなくコンタクト用開口部を形成することができる。 - 特許庁

This polyester-based resin composition-processing aid comprises an acrylic copolymer having a mass-average mol.wt. of 510,000 to 5,000,000 and containing a reactive group-containing monomer component in an amount of 0.1 to 10 mass% based on all monomer components constituting the acrylic copolymer, and, a polyester-based resin composition containing the same.例文帳に追加

質量平均分子量５１万以上５００万以下のアクリル系共重合体であって、反応性基を含有する単量体成分を、該アクリル系共重合体を構成する全単量体成分に対して０．１質量％以上１０質量％以下含有するアクリル系共重合体からなるポリエステル系樹脂組成物用加工助剤、およびこれを含有するポリエステル系樹脂組成物。 - 特許庁

The degradation in oxygen permeability after retort processing and the occurrence of delamination etc. are controlled by forming an inorganic oxide deposition layer 2 at least in one surface of a substrate film 1 and adding a water soluble or water dispersant curing agent having a reactive functional group to an existing gas barrier composition so that heat resistance and adhesion of a barrier coat layer 3 in a gas barrier laminated film A are enhanced.例文帳に追加

基材フィルム１の少なくとも一方の面に無機酸化物蒸着層２を設け、既存のガスバリア性組成物に反応性官能基を有する水溶性または水分散性硬化剤を添加することによって、ガスバリア性積層フィルムＡ中のバリアコート層３の耐熱性、密着性を向上させ、レトルト処理後の酸素透過度の劣化を抑え、デラミ等の発生を抑える。 - 特許庁

In the electrophotographic printing method to perform dyeing by an electrophotographic system using the liquid toner containing a carrier liquid, image formation is performed by transferring an image by the liquid toner using a reactive dye as a colorant to cloth and the formed image is subjected to color developing processing by a pad steam method at an aqueous alkaline solution concentration 0.1 to 10mass%.例文帳に追加

担体液を含有する液体トナーを用いた電子写真方式により捺染を行う電子写真捺染方法において、着色剤として反応染料を用いた液体トナーにより布に転写して画像形成を行い、形成された画像をアルカリ水溶液濃度０．１〜１０質量％でパッド・スチーム法により発色処理することを特徴とする電子写真捺染方法。 - 特許庁

In the cleaning method of semiconductor production equipment performing a predetermined production processing by supplying reactive gas into a chamber 10, matters adhering in the chamber are removed by exhausting the chamber 10 while supplying first inert gas heated at a first temperature and pressurized at a predetermined pressure, and second inert gas cooled to a second temperature lower than the first temperature and pressurized at a predetermined pressure alternately into the chamber.例文帳に追加

反応性ガスをチャンバー内に供給して所定の製造処理を行う半導体製造装置のクリーニング方法において，第１の温度に加熱され所定の圧力に加圧された第１の不活性ガスと，第１の温度より低い第２の温度に冷却され所定の圧力に加圧された第２の不活性ガスとを交互にチャンバー内に供給しながら，チャンバーを排気してチャンバー内に付着した付着物を除去する。 - 特許庁

A plasma processing device has a sealable chamber in which reactive gas is introduced, a discharging unit that has a cathode electrode and an anode electrode disposed so as to face each other in the chamber and generates plasma discharge between the cathode electrode and the anode electrode, a power source for supplying power to the cathode electrode, a conductor for electrically connecting the power source and the cathode electrode, and an air cooling means for cooling the conductor.例文帳に追加

反応性ガスが導入される密封可能なチャンバーと、前記チャンバー内に対向状に配置されたカソード電極およびアノード電極を有し前記カソード電極と前記アノード電極の間でプラズマ放電を発生する放電部と、前記カソード電極に電力を供給する電源と、前記電源と前記カソード電極とを電気的に接続する導電体と、前記導電体を冷却する空冷手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

In a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace where oxidizing gas is produced after thermal decomposition and thermal oxidation is conducted using a reactive gas for forming an oxide film on a semiconductor substrate, a plurality of heating lamps 3 are arranged above the semiconductor substrate 1 placed in a reaction chamber 2 and a plurality of gas introduction holes 22 are made between the heating lamps 3 in order to introduce the reaction gas.例文帳に追加

加熱分解した後に酸化性ガスを生成し、半導体基板に酸化膜を形成する反応性ガスを用いて熱酸化を行うコールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉において、半導体基板１を収容する反応チャンバー２の、半導体基板の上方に複数の加熱用ランプ３を設け、さらに加熱用ランプ３の間において複数のガス導入孔２２を形成し、このガス導入孔を通して反応性ガスを導入するように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing process of the adhesive tape for processing a semiconductor substrate comprises coating an adhesive agent containing a base resin, a radiation-polymerizable resin, a radiation polymerization initiator and a crosslinking agent on the surface of a film substrate which has a functional group reactive with the adhesive agent and are transparent to ultraviolet and/or electron beam and heat-treating the coated film for 1-14 days at 40-70°C.例文帳に追加

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有し、粘着剤と反応する官能基を持つフィルム基材面上にベース樹脂、放射線重合性化合物、放射線重合性重合開始剤、及び架橋剤を含む粘着剤を塗布してなる半導体基板加工用粘着テープの製造方法であって、粘着剤を塗布した後に４０〜７０℃の温度で１〜１４日間熱処理する工程を有することを特徴とする半導体基板加工用粘着テープの製造方法。 - 特許庁