「repeated exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

(3-2-8&9) Specific Target Organ/Systemic Toxicity (Single/Repeated Exposure)例文帳に追加

（３－２－８＆９））特定標的臓器／全身毒性（単回暴露／反復暴露） - 経済産業省

Main scanning and subscanning are repeated and the exposure object 10 is exposed like an image.例文帳に追加

以上の主走査及び副走査を繰り返し、露光対象物１０が画像様に露光される。 - 特許庁

The resulting hard mask attains a good exposed state without causing defects even after repeated hard contact exposure.例文帳に追加

ハードコンタクト露光を繰り返しても欠陥を生じることなく良好な露光状態にできる。 - 特許庁

Chapter-9 : SPECIFIC TARGET ORGAN/SYSTEMIC TOXICITY (REPEATED EXPOSURE)例文帳に追加

ＧＨＳによる健康有害性分類にかかる技術上の指針 ～ 特定標的臓器／全身毒性（反復暴露） 編 ～ - 経済産業省

・If information concerning specific, non-lethal, specific organ/systemic toxicity arising from a single or repeated exposure is obtained, whether the toxicity is significant to human health should be determined through expert judgment.例文帳に追加

・分類した物質が損傷を起こした暴露経路を明示すべきである。 - 経済産業省

When exposure is not completed, the operation to capture the angular velocity detection output of the gyro sensor is periodically repeated until the exposure is completed.例文帳に追加

そして、露光が終了していなければ、露光が終了するまでジャイロセンサの角速度検出出力を取り込む動作を周期的に繰り返す。 - 特許庁

Repeated exposure on the periphery of the pattern may be performed using a part of the electron beam exposure mask.例文帳に追加

前記パターンの周辺部に重ねてする露光は、前記電子ビーム露光用マスクの一部を用いて行っても良い。 - 特許庁

The exposure and the sweeping-out of the electric charge are repeated until the image blurring during one exposure becomes within an allowable range (no in S9).例文帳に追加

一回の露光中の像振れが許容範囲内に収まるようになるまで（Ｓ９のＮＯ）、露光と電荷掃き捨てを繰り返す。 - 特許庁

The exposure shot position information indicates positions of exposure shots repeated across the semiconductor wafer.例文帳に追加

また、露光ショット位置情報とは半導体ウエハ上に渡って繰り返された露光ショットの位置を表している。 - 特許庁

In the same way, the movement and exposure of the exposure unit 18 are repeated to expose the whole surface of the powder body 12.例文帳に追加

同様にして、露光ユニット１８の移動と露光とを繰り返すことにより、粉末体１２の表面全体を露光する。 - 特許庁

However, in the case of repeated exposure data for more than 90 days, only the exposure time per day is corrected, and correction by the number of days is not performed.例文帳に追加

ただし、90 日を超える反復曝露データでは１日当りの曝露時間についてのみ補正を行い、日数による補正は実施しない。 - 経済産業省

As for the classification of specific target organ/systemic toxicity (single exposure and repeated exposure), the “guidance values” which are used for categorization based on animal data are shown in Table 3.8.1, Table 3.9.1 and Table 3.9.2, and all of them are in units of mg/l for vapor inhalation.例文帳に追加

しかし、急性毒性用の表 3.1.1.のような蒸気吸入に関する注記はなされておらず、GHS 文書本文にも記載はない。 - 経済産業省

Therefore, in this project, regarding specific target organ/systemic toxicity (single exposure and repeated exposure), the toxicity manifestation concentration at the time of vapor inhalation is investigated in mg/l, and is evaluated by comparing it with the value shown in the Table. If the original data is given in ppm, the unit is converted into mg/l and a comparison is made.例文帳に追加

原資料の記載が ppm であれば単位を mg/l に変換し比較する。 - 経済産業省

The extraction of a part of the vector data in the exposure coordinate system, transformation of the data into raster data of the exposure coordinate system, and multiple exposure are repeated so as to perform multiple exposure on the basis of the all vector data of the exposure coordinate system for the whole figure to be drawn and to draw an image with high resolution.例文帳に追加

そして、露光座標系ベクタデータの一部の抽出、露光座標系ラスタデータへの変換、及び多重露光を反復することにより、描画されるべき図形全ての露光座標系ベクタデータに基づいて多重露光を行い、解像度の高い描画を行う。 - 特許庁

To provide an exposure method through which a light exposure operation can be quickly repeated as many times as required before a trouble such as a characteristic change of resist takes place when a substrate is subjected to a multi-exposure process.例文帳に追加

基板の多重露光等をする場合、レジストの性質が変化する等の不具合が発生する前に速やかに複数回の露光を完了し得るような露光方法を提供する。 - 特許庁

A repeated pattern by the light-shielding film of a non-resolution pitch to the exposure condition of the exposure device is formed across the area corresponding to the first area in the exposure mask.例文帳に追加

前記露光用マスクにおける前記第１の領域に対応する領域に亘って、前記露光装置の露光条件に対して非解像のピッチの前記遮光膜による繰り返しパターンが形成されている。 - 特許庁

After printing, drying, and exposure are repeated several times by using a light sensitive paste material, development is performed collectively.例文帳に追加

感光性ペースト材料を用いて、印刷、乾燥、露光を複数回繰り返した後、一括して現像する。 - 特許庁

The step exposure is carried out by shifting a lens so as to avoid overlapping of the alternately repeated patterns.例文帳に追加

この際、交互繰り返しの有り無しパターンが重ならないようにレンズをずらした位置でステップ露光をする。 - 特許庁

To heighten the continuity of photographing in split photographing with radiation rays, and to reduce operator's repeated trouble and wasteful exposure to a subject.例文帳に追加

放射線の分割撮影時における撮影の継続性を高め、操作者の二度手間や被写体への無駄な被曝を軽減する。 - 特許庁

Bracket photographing in which photographing is performed a plurality of times while changing an exposure condition step by step, is repeated in a plurality of cycles.例文帳に追加

露出条件を段階的に変えながら複数回の撮影を行うブラケット撮影を複数サイクル繰り返す。 - 特許庁

After the step exposure is repeated for a required number of times, the resist is developed and rinsed to obtain a large-area close-packed figure comprising the resist material.例文帳に追加

このステップ露光を必要な範囲まで繰り返した後、現像とリンスを行なうと、レジスト材による大面積の稠密形状が形成される。 - 特許庁

After a photosensitive paste material is used and printing, drying and exposure are repeated with plural times, it is developed in one batch.例文帳に追加

感光性ペースト材料を用いて、印刷、乾燥、露光を複数回繰り返した後、一括して現像する。 - 特許庁

When a stroboscopic mode of the third party is selected, the exposure is repeated by a CCD image sensor in a constant period T.例文帳に追加

他者ストロボモードを選択すると、一定の周期ＴでＣＣＤイメージセンサによる露光が繰り返し行われる。 - 特許庁

Category 2: Substances that, on the basis of evidence from studies in experimental animals, can be presumed to harm human health following repeated exposure.例文帳に追加

区分２：動物実験の証拠に基づき反復暴露によって人の健康に有害である可能性があると推定できる物質 - 経済産業省

To prevent distortion of a development pattern due to overexposure at the adjacent part of adjoining exposure regions caused by repeated exposure of a resist film, when an etching mask for forming a repeated pattern of protrusions and recesses is formed by exposing and developing the resist film on the surface of the substrate of a semiconductor base material.例文帳に追加

半導体基材の基板の表面に繰り返し凹凸パターンを形成するためのエッチングマスクをレジスト膜の露光現像により形成する際、レジスト膜に対する繰り返し露光による隣接する露光領域の隣接する部分での過剰露光による現像パターンの歪みを防止する。 - 特許庁

a type of learning in which repeated exposure to something may affect a person’s behavior when they encounter an unrelated object, sound, or smell that occurred at the same time as the initial exposure. 例文帳に追加

学習の一種で、ある物事を何度も体験した人において、それを最初に体験したときに同時に発生した無関係な状況、音、匂いなどに再度直面したときに、そのことがその人の行動に影響を及ぼすというもの。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

To provide an electrophotographic photoreceptor which hardly causes the deterioration of sensitivity for exposure light of short wavelength such as oscillation wavelength of 350 to 500 nm and, even upon repeated exposure, hardly causes potential fluctuations of dark part and bright part on the photoreceptor.例文帳に追加

発振波長が３５０〜５００ｎｍという短波長の露光光に対し、感度低下を起こさず、また、繰り返し露光しても感光体上の暗部及び明部の電位変動がほとんどない電子写真感光体を提供をする。 - 特許庁

This operation is repeated at least within the exposure region of a printing plate, by which the spacing between the exposure head and the rotary drum is maintained constant and the out of focus of a light beam is prevented.例文帳に追加

これを少なくとも印刷版の露光領域内で繰り返すことにより、露光ヘッドを回転ドラムとの間の間隔を一定に保ち、光ビームのピントズレを防止する。 - 特許庁

To solve the problem in which in long exposure imaging, such as bulb exposure, processing of repeated retrieval of image data out of an imaging element would invite a temperature rise of imaging elements and an increase in dark current noise, resulting in deteriorated picture quality of the recorded image.例文帳に追加

バルブ撮影等の長時間撮影において、撮像素子から画像データを繰り返し読み出して表示する処理を行うと、撮像素子の温度が上昇し、暗電流ノイズが増加するため、記録画像の画質が低下する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a hard mask for exposure capable of easily modifying a blank defective part without requiring a large- sized modifying equipment and capable of attaining a good exposed state without causing defects even after repeated hard contact exposure.例文帳に追加

大型の修正設備を要することなく容易に白欠陥を修正でき、ハードコンタクト露光を繰り返しても欠陥を生じることなく良好な露光状態にできる露光用ハードマスクの製造装置を提供する。 - 特許庁

Then, an exposure dose CTDIn is added (step S35), the steps S31-S35 are repeated for all the images (step S36), and the total exposure dose is calculated (step S37).例文帳に追加

次に、被曝線量ＣＴＤＩｎを加算し（ステップＳ３５）、全ての画像に対してステップＳ３１〜ステップＳ３５を繰り返し（ステップＳ３６）、総被曝線量を算出する（ステップＳ３７）。 - 特許庁

To provide a mask for exposure having a resist film allowed to function as a light shielding film and capable of retaining satisfactory light shielding properties even after exposure repeated many times and to provide a method for producing the mask.例文帳に追加

レジスト膜を遮光膜として機能させる露光用マスクにおいて、多数回の露光によっても十分な遮光性を維持できるマスクとその製造方法を提供する。 - 特許庁

An exposure pattern 1 consisting of a single set of twin patterns 2L, 2R having the same shape mutually is arranged on an exposure mask at a fixed repeated pitch in the repeating direction into the checkers-pattern form.例文帳に追加

互いに同一形状のツインパターン２Ｌ、２Ｒを１セットとした露光パターン１を、露光マスク上に、繰り返し方向に一定の繰り返しピッチで市松格子状に配置する。 - 特許庁

Dealing with Vapor Inhalation Guidance Value in the Classification of Specific Target Organ/Systemic Toxicity (Single Exposure and Repeated Exposure)例文帳に追加

特定標的臓器/全身毒性（単回曝露及び反復曝露）の分類については、動物データをもとに区分する際に利用する「ガイダンス値」が、表 3.8.1.、表 3.9.1.、表 3.9.2.に示されており、いずれも蒸気吸入については mg/l を単位としたものとなっている。 - 経済産業省

When exposing each area on a wafer substrate 50 using the photomask 10 and the blind function of an exposure device, exposure is repeated so that the end part of the guard ring patterns 24a is connected with the end part of the guard ring pattern 24b, and exposure is repeated so that the end parts of the guard ring patterns 24a are connected.例文帳に追加

当該フォトマスク１０を用いてウエハ基板５０上に露光装置のブラインド機能を用いて各領域を露光する際は、ガードリングパターン２４ａの端部及びガードリングパターン２４ｂの端部が接続されるように繰り返し露光すると共に、ガードリングパターン２４ａの端部同士が接続されるように繰り返し露光する。 - 特許庁

In the method for the electron beam exposure, exposure is repeated on the periphery of an adjoining pattern drawn by using a partial collective exposure mask by using an electron beam exposure mask having proximity effect correction openings arranged such that the size of the openings varies periodically at a predetermined ratio in the order of arrangement.例文帳に追加

開口部の大きさが配列順に所定の割合で周期的に変化するように配列された近接効果補正用の開口部を有する電子ビーム露光用マスクを用いて、部分一括露光用マスクを用いて描画した隣接するパターンの周辺部に重ねて露光することを特徴とする電子ビーム露光方法による。 - 特許庁

The second transmitting pattern includes a phase shifter portion as recesses formed in the mask substrate, the recesses alternately laid as periodically repeated with the first transmitting pattern, and transmits the exposure light while imparting a phase difference to the exposure light transmitting the first transmitting pattern.例文帳に追加

また、第２の透過パターンは、第１の透過パターンと交互に、周期的に繰り返して配置され、マスク基板に形成された凹部である位相シフタ部を含み、かつ、位相シフタ部により、第１の透過パターンを透過する露光光に対して位相差を導入して露光光を透過する。 - 特許庁

When a self portrait mode is designated, focus is set at a prescribed distance by an autofocus device, and exposure calculation is repeated by an exposure control part until a photographic operator is half-depressed.例文帳に追加

セルフポートレートモードが指定されたときには、セルフポートレートモードが指定されたときに、オートフォーカス装置によりピントが所定の距離に設定され、撮影操作子が半押し操作されるまで露出制御部により露出演算が繰り返し行われる。 - 特許庁

To provide a monolayer type electrophotographic photoreceptor which is suitable for blue color exposure (in particular, exposure with blue color semiconductor laser), is excellent in mechanical and electrical endurance for repeated use for a long time in high resolution, does not cause an image degradation and has high endurance, and to provide an electrophotographic apparatus with the monolayer type electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

青色露光(特に、青色半導体レーザによる露光)に適し、高解像度で、長期間の繰り返し使用に対しても、機械的/電気的耐久性に優れ、異常画像の発生がない高耐久性の単層型感光体及びそれを用いた電子写真装置を実現する。 - 特許庁

・Substances classified with R39 (danger of very serious irreversible effects), R48 (danger of serious damage to health by prolonged exposure), or combination R-Phrases relevant to R39 or R48 carry a risk of causing specific organ/systemic toxicity (single/repeated exposure).例文帳に追加

・EU－AnnexⅠでR39（非常に重大な不可逆的影響の懸念がある）、R48（長期暴露により重度の健康障害を生じる危険がある）、あるいはこれらを組み合わせたR-Phrase が附されているものには、特定臓器／全身毒性（単回暴露／反復暴露）の懸念がある。 - 経済産業省

With respect to the entire split region, the alignment and exposure for curving the photomask 4 and substrate 1 are repeated allowing the photomask 4 and substrate 1 to be in contact with each other.例文帳に追加

フォトマスク４と基板１とを接触させたまま、すべての分割領域について、フォトマスク４および基板１を湾曲させることによる位置合わせと露光とを繰り返す。 - 特許庁

A controller (13) controls both the energy of the radiation pulse and the scanning speed depending on the necessary amount of exposure light with respect to the substrate and a repeated rate of the radiation pulse.例文帳に追加

コントローラ（１３）は放射パルスのエネルギー及び走査速度の両方を基板に対する必要な露光量及び放射パルスの繰り返しレートに応じて制御する。 - 特許庁

Transfer of first and second focus monitor patterns to a first photoresist film and calculation of a defocus value from a dimensional difference between the transferred patterns are repeated under a plurality of pressure states in an exposure chamber (S101 to S107).例文帳に追加

露光室内の複数の圧力状態で、第１及び第２のフォーカスモニタパターンの第１のフォトレジスト膜への転写、転写されたパターンの寸法差からデフォーカス値の算出を繰り返す（Ｓ１０１〜Ｓ１０７）。 - 特許庁

To provide a diffraction grating reducing the occurrence of abnormal peaks of diffraction light occurring by repeated exposure to allow sharp spectroscopy with few abnormal peaks, and to provide a highly precise spectral analysis device by using the diffraction grating.例文帳に追加

繰り返し露光で生じる回折光の異常ピークの発生を抑制し、急峻で異常ピークの少ない分光が可能な回折格子を実現し、この回折格子を用いることで高精度な分光分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide an Al alloy reflective film excellent in hot water resistance, wherein the film which has high reflectance and hardly decreases the reflectance even when dew condensation occurs during exposure to an environment subjected to repeated heating and cooling, such as an automobile lighting tool.例文帳に追加

高い反射率を有すると共に、自動車用灯具などのように加熱と冷却を繰返し受ける環境下に曝して結露が生じても反射率が低下し難い、耐温水性に優れたＡｌ合金反射膜を提供する。 - 特許庁