| 意味 | 例文 |
s&wの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 912件
The patterning method of a wafer W includes a step for forming an L&S pattern 54A including multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W, and a step for forming an L&S 56A including multiple linear resist patterns 42NA arranged between the multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W so that the line widths of the line patterns 40A and the resist patterns 42NA have a negative correlation.例文帳に追加
ウエハWにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハWの表面に複数のラインパターン40Aを含むL&Sパターン54Aを形成することと、ウエハWの表面の複数のラインパターン40Aの間に配置される複数のライン状のレジストパターン42NAを含むL&Sパターン56Aを、ラインパターン40Aの線幅とレジストパターン42NAの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 - 特許庁
The controlling means 17 performs the control so that the adhesive sheet S is applied to the adherend W by pressing the first suction head 31 and the second suction head 41 against two adherends W detected by the line sensor 15 and continuously conveyed.例文帳に追加
制御手段17は、ラインセンサ15により検出された連続して搬送される二つの被着体Wに対して、第1の吸着ヘッド31と第2の吸着ヘッド41とを押圧動作させて被着体Wに接着シートSを貼付するよう制御する。 - 特許庁
As the sheet S, a sheet sized to be protruded from the semiconductor wafer W is used and after being pasted, the sheet is cut in accordance with a shape of the semiconductor wafer W by a cutter blade 43 mounted at a free end side of a multi-joint robot 14 which is numerically controlled.例文帳に追加
シートSは半導体ウエハWからはみ出す大きさのものが用いられ、貼付した後に、数値制御される多関節型のロボット14の自由端側に装着されるカッター刃43によって半導体ウエハWの形状に合わせて切断される。 - 特許庁
The film-coated tablet is provided by containing fursultiamine hydrochloride, sodium chondroitin sulfate and vitamin B_12's in a base tablet, and coated with a film layer blended with ≥8% (w/w) hydroxypropylmethylcellulose and talc based on the weight of the base tablet.例文帳に追加
素錠中に塩酸フルスルチアミン、コンドロイチン硫酸ナトリウムおよびビタミンB_12類を含有し、素錠重量に対して8%(w/w)以上の、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよびタルクを配合したフィルム層でコーティングされたことを特徴としたフィルムコーティング錠。 - 特許庁
The main liquid which is a carbonic acid-containing beverage with a carbon dioxide gas volume of above 3 GV and not larger than 4 GV and a sugar concentration of 0-20 w/w% and the sub-liquid having a viscosity of 20-41 mPa s and a kinetic energy in a range of 0.10-0.19 J may be used.例文帳に追加
また主液は炭酸ガスボリュームが3GVを超えて4GV以下で糖濃度が0〜20w/w%の炭酸を含有する飲料であり、副液は粘度が20〜41mPa・sであり、副液の運動エネルギーが0.10〜0.19Jの範囲でもよい。 - 特許庁
The recessed corner 78 is an approximate L-shaped recessed corner constituted between the pressing protrusion 84 arranged along the transfer path W and the abutting face 70A arranged in a direction crossing with the transfer path W, and a sheet member S to be transferred is smoothly introduced into the recessed corner.例文帳に追加
凹角部78は、搬送路Wに沿って配置された押圧突部84と、搬送路Wと交差する方向に配置された突当面70Aとの間に構成される略L字状の凹角部であり、搬送されるシート部材Sが、スムーズに誘い込まれる。 - 特許庁
The appearance model 120 includes: a stable model component (S), learned over a long time course, and a transient component (W/L), learned over a relatively short time course (e.g., a 2-frame motion component (W) and/or an outlier processing component (L)).例文帳に追加
アピアランス・モデル120は、長い時間経過にわたって学習される安定モデル・コンポーネント(S)、および比較的短い時間経過(たとえば2−フレームの動きコンポーネント(W)および/またはアウトライア処理コンポーネント(L))にわたって学習される推移コンポーネント(W/L)を含む。 - 特許庁
The work W carried by a transfer line 101 is transferred to a belt conveyer 14, 14 and stopped with a stopper mechanism 24 and then the shaft S of the work W is inserted into a guide hole of a positioning fixture by extension of a cylinder unit 16 of a first positioning means.例文帳に追加
搬送ライン101を搬送されてきたワークWはそのままベルトコンベア14,14上に移載され、ストッパ機構24により停止し、第1の位置決め手段のシリンダユニット16を伸ばして位置決め冶具のガイド穴をワークWの軸Sに嵌合せしめる。 - 特許庁
The banana puree is obtained by cutting banana fruit flesh into round slices of a thickness of 5-15 mm, heating the center of the product to 85-100°C by heating vapor at a heating rate of ≥0.22°C/s, and adding 0.1-0.2 (w/w)% of L-ascorbic acid to the product followed by crushing.例文帳に追加
バナナ果肉を厚さ5〜15mmで輪切りし、これを加熱気体により0.22℃/秒以上の昇温速度で中心を85〜100℃まで加熱し、これにL−アスコルビン酸を0.1〜0.2(w/w)%添加した後に、破砕して、課題のバナナピューレを得る。 - 特許庁
This appearance model 120 includes a stable model component (S) learned over a long time passage and a transitive component (W/L) learned over a comparatively short time passage (for example, 2-frame motion component (W) and/or an outlier processing component (L)).例文帳に追加
アピアランス・モデル120は、長い時間経過にわたって学習される安定モデル・コンポーネント(S)、および比較的短い時間経過(たとえば2−フレームの動きコンポーネント(W)および/またはアウトライア処理コンポーネント(L))にわたって学習される推移コンポーネント(W/L)を含む。 - 特許庁
If the liquid matter W is delivered with a pump 7 and then sprayed by a worker with a hose 8 on a weeded bank 10 or a flood plane 11, the component of the crushed cut grass P is decomposed by the decomposing bacillus S mixed in the liquid matter W, becomes nourishment together with water in the liquid matter W, and is returned as fertilizer to soil and weeds.例文帳に追加
得られた液状物Wをポンプ7で送り出して作業者がホース8で除草した土手10や河川敷11に吹き付けると、液状物Wは混入した分解菌Sで破砕された刈草Pの成分が分解され、液状物W中の水分とともに養分となって土壌及び雑草に肥料として還元される。 - 特許庁
When a circuit board unit W is manufactured by bringing the ceramic plate board and a metal plate into contact through a solder material or without the solder material while the circuit board is manufactured by press-joining a plurality of the units W at a high temperature, sheets S having cushioning properties and heat resistance properties are pressed among a plurality of the mutual units W under the held state.例文帳に追加
セラミックス基板と金属板とを、ろう材を介してまたは介さずに接触させて回路基板ユニットWとするとともに、複数の回路基板ユニットWを高温下で加圧接合して回路基板を製造する際に、複数の回路基板ユニットWどうしの間にクッション性および耐熱性を有するシートSを挟み込んだ状態で加圧する。 - 特許庁
When the adhesive sheet S is peeled away, controlling means 17 controls the operation of the moving means 15 so that a folded sheet part is formed between the peeling attitude formation means 14 and the semiconductor wafer W from which the adhesive sheet S is peeled away in a planar view.例文帳に追加
接着シートSを剥離するときに、平面視で剥離姿勢形成手段14と接着シートSが剥離された半導体ウエハWとの間に折返しシート部を形成するよう移動手段15の動作を制御手段17により制御する。 - 特許庁
The sheet bonding device includes a delivery means 12 of delivering a master roll R, the release plate 22 for folding back the release sheet RL during delivery of the master roll R for releasing the adhesive sheet S, and a pressing roller 45 for pressing the released adhesive sheet S to a semiconductor wafer W for bonding.例文帳に追加
原反Rを繰り出す繰出手段12と、原反Rの繰出途中で剥離シートRLを折り返して接着シートSを剥離する剥離板22と、剥離された接着シートSを半導体ウエハWに押圧して貼付する押圧ローラ45とを備えている。 - 特許庁
This winch is provided with a pressure roller 21 for pressing the wire or rope w wound on a winding outer peripheral surface s of the winding drum 3, to the winding outer peripheral surface s and regulating the free rotation of the winding drum 3 by this pressing.例文帳に追加
前記巻取りドラム3の巻取り外周面sに巻き取られるワイヤー又はロープwを該巻取り外周面sに押圧すると共にこのように押圧することにより前記巻取りドラム3の自由な回転を規制するものとした押圧ローラ21を設ける。 - 特許庁
Paper improved in air impermeability and smoothness is produced by using a papermaking additive which comprises cellulose nanofibers whose aqueous dispersion of 2% (w/v) concentration has a Brookfield viscosity (60 rpm, 20°C) of 500-7,000 mPa s, preferably 500-2,000 mPa s.例文帳に追加
濃度2%(w/v)の水分散液のB型粘度(60rpm、20℃)が500〜7000mPa・s、好ましくは2000mPa・sであるセルロースナノファイバーからなる製紙用添加剤を用いて透気抵抗度及び平滑度が向上した紙を製造する。 - 特許庁
The paper improved in air impermeability and smoothness is produced using a papermaking additive which includes cellulose nanofibers whose aqueous dispersion having a concentration of 2% (w/v) has a Brookfield viscosity (60 rpm, 20°C) of 500-7,000 mPa s, preferably 500-2,000 mPa s.例文帳に追加
濃度2%(w/v)の水分散液のB型粘度(60rpm、20℃)が500〜7000mPa・s、好ましくは2000mPa・sであるセルロースナノファイバーからなる製紙用添加剤を用いて透気抵抗度及び平滑度が向上した紙を製造する。 - 特許庁
The amount of the sealed refrigerant is determined by multiplying a predetermined specified factor C by a value obtained by multiplying the rated motor input W of a compressor 10 by a rated rotational speed S.例文帳に追加
コンプレッサ10の定格モータ入力Wと定格回転数Sを乗じた値に予め決定した所定の係数Cを乗じることにより、封入冷媒量を決定する。 - 特許庁
This penetration sleeve S for inserting the long body mounted in the through hole 1 formed in the segment W includes a plurality of sleeves S1 and S2 which can be bendably connected to each other.例文帳に追加
区画体Wに形成された貫通孔1に装着される長尺体挿通用の貫通スリーブSが、屈曲自在に連結可能な複数のスリーブ体S1,S2から構成されている。 - 特許庁
An adherent matter such as rust sticking to the inner surface of a pipe P is scraped off by passing a mixed fluid obtained by mixing the polishing agent S and water W through the pipe P for a specified time.例文帳に追加
水Wに研磨剤Sを混ぜた混合流体をパイプP内に所定時間通過させることにより、パイプP内面に付着した錆等の付着物を削り落とすようにしている。 - 特許庁
Therefore, the cut length L of the adhesive sheet S neither undergoes restrictions on the size of an apparatus nor causes enlargement and complication of the apparatus, the apparatus can respond adherends W with various sizes.例文帳に追加
従って、切断する接着シートSの長さLが装置サイズで制約を受けず、装置の大型化や複雑化を招くことなく、様々なサイズの被着体Wに対応することができる。 - 特許庁
The heat dissipation member is composed of a solidified article of the composition consisting of a silicone rubber composition having viscosity at 30°C of ≤150,000 mP s and has a thermal conductivity of ≥3.0 W/mK.例文帳に追加
この組成物が温度30℃の粘度が150000mP・s以下を示すシリコーンゴム組成物であって、その固化物からなる熱伝導率が3.0W/mK以上の放熱部材。 - 特許庁
The vibration insulating wall has a three-layer structure which consists of the wall W, a continuous wall C formed by having a soilized section S hardened, and the member 5 embedded inside the continuous wall C.例文帳に追加
振動遮断壁は、土留め壁W、ソイル化部Sが硬化した連続壁C、及び連続壁Cの内部に埋設された振動遮断部材5からなる3層構造を有する。 - 特許庁
An adhering device 10 is constituted of an adhering table 11 and an adhering unit 12 for adhering an adhesive sheet S to a semiconductor wafer W supported to the adhering table 11.例文帳に追加
貼付テーブル11と、当該貼付テーブル11に支持された半導体ウエハWに接着シートSを貼付する貼付ユニット12とにより貼付装置10が構成されている。 - 特許庁
The number of used revolutions is estimated from the load distribution and the result of previously finding relations between the number N of times of loading, repeated stress S, and a half-power band width w(°) found by X-ray analysis (S4).例文帳に追加
負荷分布と、負荷回数N、繰り返し応力S、X線分析で求まる半価幅w(°)の関係を求めておいた結果とから、使用された回転回数を推定する(S4)。 - 特許庁
The pressing means 18 includes a direct operated motor 43, capable of controlling press for pressing the semiconductor wafer W by elastic restoring force of the adhesive sheet S according to a peeled part.例文帳に追加
押え手段18は、接着シートSの弾性復元力によって半導体ウエハWが押圧される押圧力を剥離部位に応じて制御可能な直動モータ43を備えている。 - 特許庁
Consequently, the electrostatic latent image S of the same shape as the liquid layer W corresponding to the image signal is formed on the latent image carrier 11.例文帳に追加
そして、潜像担持体11上の液層Wの位置へ帯電ローラ19bにより注入帯電して該潜像担持体11上に画像信号に対応した静電潜像Sを形成している。 - 特許庁
Preferably, the oscillator 211 has its width w substantially smaller than the width of a weight support part 215a and includes a beam part 215b formed in an S or zigzag shape.例文帳に追加
振動子211は、錘支持部215aよりも幅寸法wが大幅に小さく、S字状、あるいはジグザグ状に形成されたビーム部215bを備えてものとするのが好ましい。 - 特許庁
Since tips 29b of the bulkheads 28 proximately facing the target 10 gets narrower, additionally, less cooling water W can go into interstices S from the target 10 and can remain there.例文帳に追加
さらに、ターゲット10に近接して対面する隔壁部28の先端29bは狭くなるため、冷却水Wがターゲット10との隙間Sに進入して滞留する虞が少なくなる。 - 特許庁
Since the nozzle 2 is closed by the coating surface Wa of the object W to be coated, the viscous coating material S in the cylinder 1a is pressurized to be raised in its pressure.例文帳に追加
塗布対象Wの塗布面Waによってノズル2が閉塞されているため、シリンダ1a内の粘性塗布材Sが加圧されると、その圧力は上昇することとなる。 - 特許庁
Above a table 11 which supports a wafer W to which an optical reaction adhesive sheet S is stuck, a plurality of light emitting diodes 16 are fixed on a straight line with a substrate 13 interposed therebetween.例文帳に追加
光反応型の接着シートSが貼付されたウエハWを支持するテーブル11の上方に、基板13を介して直線上に発光ダイオード16が複数固定されている。 - 特許庁
Then, the raw water W and the gas S are allowed to flow simultaneously through the activated carbon layer 6, thereby oxidizing the dissolved sulfide by utilizing catalysis of the activated carbon, and converting it to sulfur for removal.例文帳に追加
そして、活性炭層6に原水Wと気体Sを同時に流通し、活性炭の触媒作用を利用して溶存硫化物を酸化させ、硫黄に転換して除去する。 - 特許庁
Adjacently to an XY table 21 for holding the workpiece W, an XY table 31 for holding a position detecting sample S which is irradiated with a laser beam with a prescribed timing is arranged.例文帳に追加
被加工物Wを保持するXYテーブル21に隣接して、所定のタイミングでレーザ光を照射される位置検出試料Sを保持するXYテーブル31が配置されている。 - 特許庁
When the optical pickup 4 starts to record the data, the adjusting means 7 decides reference recording power S on the basis of the power range W and jitter detected by the jitter detecting part 6.例文帳に追加
光ピックアップ4がデータの記録を開始すると、調整手段7は、パワー範囲Wとジッター検出部6によって検出されたジッターに基づいて基準記録パワーSを決定する。 - 特許庁
To obtain a thermally conductive composition having a thermal conductivity of 2.0 W/(m×K) and a viscosity of 10,000-80,000 mPa s, which enables screen printing and need not be kept by cold storage.例文帳に追加
熱伝導率が2.0W/m・K以上であり、粘度が10000〜80000mPa・sのスクリーン印刷可能で冷蔵保管が不必要である熱伝導性組成物を提供する。 - 特許庁
The separation and parallel movement of the nozzle 2 with respect to the coating surface Wa of the object W to be coated are controlled on the basis of the pressure of the viscous coating material S in the cylinder 1a.例文帳に追加
ノズル2の塗布対象Wの塗布面Waに対する離隔および平行移動は、粘性塗布材Sのシリンダ1a内における圧力に基づいて制御される。 - 特許庁
Wherein, Io denotes the reference acoustic intensity being 0.96×10^-12(W/m^2), ρo is the density of the air being 1.2(kg/m^3) and (c) denotes the sound speed in the air being around 340(m/S).例文帳に追加
ここで、Io:基準音響インテンシティーで0.96×10^−12(W/m^2)、ρo:空気の密度で1.2(kg/m^3)、c:空気中の音速で約340(m/S)である。 - 特許庁
By this, vibration in a paper width direction W is generated in a loading bundle of sheets S loaded on the paper feeding tray 14 and a loading portion 22 of the paper feeding tray 14.例文帳に追加
この動作により、給紙トレイ14及び給紙トレイ14の積載部22内部に積載されているシートSの積載束にシートの紙幅方向Wの振動を発生させることになる。 - 特許庁
A worker S cleans the wall surface W with a cleaning tool 5 in the state supported by the worker support member 3 while lowering the worker support member 3 along the rope 1.例文帳に追加
作業者支持部材3をロープ1に沿って降ろしながら、作業者支持部材3により作業者Sが支持された状態で洗浄器具5により壁面Wを清掃する。 - 特許庁
This liquid treatment apparatus is provided with a sealing container 54 for sealing a wafer W housed in a cup 55, and a bubbling bath 62 packed with solvent S whose temperate is adjusted by a temperature adjusting mechanism 69.例文帳に追加
カップ55内に収容されたウェハWを密閉可能な密閉容器54と,温度調整機構69で温度調整される溶剤Sを充填したバブリング槽62とを備える。 - 特許庁
When W/T is in the range of 0.7-1.0, and D/L is smaller than 0.1, and S is smaller than L×20 mm^2, high strength (30 kN or more) is achieved while reducing the weight.例文帳に追加
W/Tが0.7〜1.0の範囲で、D/Lが0.1より小さく、SがL×20mm^2より小さい場合に、軽量化を実現しながら、高い強度(30kN以上)が得られる - 特許庁
A machined portion of the roll W is ground by the grinding wheel G and the machined portion already ground is super-finished by a super-finishing stick grinding wheel S or a lap grinding wheel 93.例文帳に追加
砥石車GによりロールWの加工個所を研削加工すると共に研削加工済みの加工個所を超仕上用スティック砥石S又はラップ砥石93により超仕上する。 - 特許庁
In the beam synthesis 24, a mirror 26 reflects a light beam (S polarized light) LB_S of a basic wavelength reflected by the polarizing element 18 to a welding point P of a workpiece W.例文帳に追加
ビーム合成部24において、ミラー26は、偏光素子18で反射された基本波長の光ビーム(S偏光)LB_Sを被溶接物Wの溶接ポイントPに向けて反射する。 - 特許庁
The curtain hanger 10 is formed as a rail-like hook insert groove 11 formed by extending the interior side of the sash S to open upward like a U-shape with a width W.例文帳に追加
カーテン懸吊体10は、サッシSの室内側の辺を延長させて断面がほぼU形で上向きに開口した幅Wのレール状のフック挿入溝11として形成されている。 - 特許庁
A PC 1 applies independent component analysis to image data X which is recorded in an image database DB 4 and acquires a feature matrix S, a mixing matrix A and a unimixing matrix W.例文帳に追加
PC1が画像データベースDB4に記録された画像データXに独立成分分析を施し、特徴行列S、混合行列Aおよび分離行列Wを求める。 - 特許庁
The laser beam transmits through the laser pervious window of the infrared condensing lens 1 to be positioned at the center of the measuring region A of the object W to be measured to form a light spot S.例文帳に追加
そして、レーザ光は、赤外線集光レンズ1のレーザ透過窓5を透過して、測定対象物Wの測定領域Aの中心に位置し、光スポットSが形成される。 - 特許庁
The Ni-W-S alloy film 2 preferably has a finely uneven surface, and has an amorphous or microcrystalline X-ray diffraction pattern.例文帳に追加
このとき、Ni−W−S合金膜2の表面が微細凹凸面になっていることが好ましく、そのX線回折パターンがアモルファス状又は微結晶状であることが好ましい。 - 特許庁
When a card R/W control part receiving an account closing signal determines the remaining of a card balance, a unit control part notifies the remaining of the balance (S 522).例文帳に追加
締め処理信号を受信したカードR/W制御部でカード残額が残存していると判定されたときに、ユニット制御部が残額が残存している旨を報知する(S522)。 - 特許庁
In this event, since the multitude of probe pins 20 can be disposed with small pitches without cutting off light for inspection, the CCD sensors S adjoining each other on the substrate W can be inspected at the same time.例文帳に追加
この場合、検査用の光を妨げることなく、多数のプローブピン20を狭ピッチで配置できるので、基板W上の隣り合うCCDセンサSの検査を同時に行うことができる。 - 特許庁
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