「scratches the surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a copper or copper alloy material having excellent adhesion and having surface characteristics of being low in surface roughness and free from roll scratches, to provide a method for manufacturing the copper or copper alloy material, and to provide a semiconductor package equipped with the copper or copper alloy material as a lead frame.例文帳に追加

表面粗さの値が高くかつロールスクラッチのない表面特性を有する、密着性に優れた銅または銅合金材およびその製造方法、並びにこれをリードフレーム材として備える半導体パッケージを提供する。 - 特許庁

To provide a decorative material which can easily be handled without receiving any scratches on the surface upon loading or unloading, allows no possibility of load collapse when stacked, and has a durable surface staining resistance in the decorative material having a pattern layer.例文帳に追加

絵柄層を有する化粧材において、荷の積み降ろし際には、表面に傷を付けてしまうこと無く容易に取り扱うことが可能であるとともに積み重ねた際の荷崩れのおそれがなく、また、持続した耐表面汚染性を有する化粧材を提供する。 - 特許庁

To provide a film which, when used as a liquid crystal component part such as a liquid crystal polarizing plate and a retardation plate or as a PDP component part, is less in scratches on the film surface and surface defects of oligomers and the like and shows good transparency, good optical performances and superior adhesion.例文帳に追加

液晶偏光板、位相差板等の液晶構成部材、ＰＤＰ部材として用いた際に、フィルム表面キズやオリゴマー等の表面欠陥が少なく、透明性良好であり、光学的性能の良好で接着性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a dresser for polishing cloth, creating a uniformly polished surface on a surface of the polishing cloth, eliminating scratches on a wafer by the polishing cloth, in particular, caused by dissociation of grains, and decreasing a sintering temperature of a holding material, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

研磨布用ドレッサーが研磨布表面に均一な研磨面を創出し、特に脱粒に起因する研磨布によるウェハのスクラッチがなくなり、しかも、保持材の焼結温度を低くできるようにした研磨布用ドレッサー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition capable of polishing an amorphous glass substrate at high polishing speed, reducing surface roughness and defects such as pits and scratches on the surface of the polished substrate, and preferably manufacturing a glass hard disk substrate at low cost.例文帳に追加

非晶質ガラス基板の研磨において、高い研磨速度で研磨でき、研磨後の基板表面の表面粗さ、ピット、及びキズの欠陥を低減でき、好ましくは、加えて低コストでガラスハードディスク基板を製造できる研磨液組成物の提供。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁

A dividing apparatus comprises a cutting device 20, which makes scratches on nearly entire perimeter surface where a cathode ray tube is to be divided, and rolling devices 30, which bring one heating wire 15 into a close contact with nearly entire perimeter surface of each of the cathode ray tubes.例文帳に追加

陰極線管の分割しようとする位置の外周面上に、ほぼ全周にわたってキズを付ける切削装置２０と、１本の電熱線１５を陰極線管の外周面のほぼ全周にわたって密着させる巻き付け装置３０，３０とを有する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth capable of suppressing the occurrence of a defect (e.g., flaws or scratches or the like caused after mirror polishing) on the surface of a silicon wafer due to grooves of the polishing cloth which may be caused at the mirror polishing by contriving the shape of the grooves.例文帳に追加

溝形状を工夫することにより、鏡面研磨時に発生する恐れのある、溝に起因するシリコンウェーハ表面の欠陥（たとえば、鏡面研磨後に発生するキズやスクラッチ等）の発生を抑制することができるシリコンウェーハ研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method for a copper layer of a substrate by which a polishing speed can be increased, the thickness of the copper layer of the substrate is made uniform, the occurrence of scratches on the surface of the copper layer can be suppressed, and heights of copper bumps can be made uniform in polishing the copper bumps.例文帳に追加

研磨速度を上げられ、また基板における銅層の厚さの均一性が得られ、かつ銅層表面のスクラッチの発生を抑制することができ、また銅バンプの研磨においては高さの均一性が得られる基板における銅層の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating device that suppresses the generation of foams when delivering a high viscosity-resin solution, suppresses the generation of a thick inclination, and neither wastes the resin solution when performing coating nor scratches the surface of a core body or the like and a method for manufacturing a tube using the same.例文帳に追加

高粘度の樹脂溶液を吐出する際の泡の発生を抑え、膜厚勾配の発生を抑え、塗布の際の樹脂溶液の無駄や芯体表面の傷等を生じさせることがない塗布装置及びそれを用いた管状物の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To inexpensively provide a developing roller whose durability in use is improved by preventing the occurrence of toner adhesion on the surface layer of the developing roller, the occurrence of cracks and the occurrence of scratches due to shaving, and to inexpensively provide a developing apparatus equipped with the developing roller.例文帳に追加

現像ローラの表面層に、トナーの固着が発生すること、亀裂が発生すること、及び、削れによるスジ等の傷が発生することを防止して、使用上の耐久性を向上させた現像ローラ及びそれを有する現像装置を低コストで提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device equipped with a means for readily complying with countermeasures against deterioration to the aging of an attractive layer of the electrostatic attraction device, easily removing substances polluting the surface of the device, and easily repairing the stains and scratches on the attraction layer caused due to use over time.例文帳に追加

静電吸着装置の吸着層の経時に対する劣化への対処が取りやすく、静電吸着装置の表面を汚染する物質を容易に除去し、経年使用による吸着層のよごれや、傷を容易に修復する手段備えた静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, base material-supporting force by the backup roll 16 is increased, and the slippage between the aluminum web and the backup roll 16 is prevented to cause no qualitative defect due to scratches on the surface of the aluminum web, and a photosensitive printing plate is excellently coated.例文帳に追加

このため、バックアップロール１６による支持体の保持力を増大させることができ、アルミウェブとバックアップロール１６との間のスリップを防止することができ、アルミウェブの表面のキズによる品質故障がなく、感光性印刷版を良好に塗布することができる。 - 特許庁

To provide a surface cleaning method of a casting support, capable of preventing the occurrence of scratches caused when wiping of dirt on the casting support, and also capable of enhancing the efficiency of removal of the dirt on the casting support, and to provide a method for manufacturing of a solution-deposited film.例文帳に追加

流延支持体上の汚れの拭き取り時のキズの発生を抑制することができるとともに、流延支持体上の汚れの除去効率を上げることができる流延支持体の表面清掃方法及び溶液製膜フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical recording device which is capable of holding the distance between the end face of an SIL and an optical recording medium constant and is capable of preventing the focus from being deviated and also is capable of performing a high-density recording even when scratches and recesses exist on the surface of the optical recording medium and whose manufacturing is also easy.例文帳に追加

光記録媒体表面に傷や凹みが存在する場合でも、ＳＩＬ端面と光記録媒体間の距離を一定に保持し、フォーカスがはずれるのを防ぎ、また高密度の記録を可能とし、製造も容易で優れた光記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a magnetic disk substrate, by which the number of scratches occurring on a surface of a glass substrate is reduced, the yield of an inspection machine of the glass substrate is improved, and further the yield of an inspection machine of a magnetic disk produced form the glass substrate is improved.例文帳に追加

ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bladder for vulcanization which does not generate scratches on the inner surface of a tire to be caused by rubbing when the bladder is released by shrinking after vulcanization of a pneumatic tire is finished and does not generate disorder of arrangement of carcass cords for the tire caused by channels of the bladder when the tire is vulcanized.例文帳に追加

空気入りタイヤの加硫終了後、ブラダーを収縮離脱させる時に擦れによりタイヤの内表面に引っ掻き傷を生じないようにし、またタイヤ加硫時にブラダーの溝によりタイヤのカーカスコードの配列乱れを起こさないようにした加硫用ブラダーの提供。 - 特許庁

The optical disk 11, when inserted or discharged, passes while being held between the dustpoof doors 2 due to an elastically energizing force, but scratches are not generated because the outer peripheral part 11a of the optical disk 11 is abutted on the dustproof doors 2 and are not in contact with flat surface parts.例文帳に追加

挿入時や排出時に光ディスク１１は、弾性付勢力により防塵扉２に挟まれた状態で通過するが、光ディスク１１の外周部１１ａが防塵扉２に当接し、平面部には接触しないため、擦過傷は発生しない。 - 特許庁

To prevent or reduce scratches made on a surface of a first housing 1 when the housing state is shifted from a fully closed state to a tilt state in a portable electronic apparatus where the first housing and a second housing are connected to each other and the housing state may be selectively set between the fully closed state and the tilt state.例文帳に追加

第１筐体１と第２筐体２が互いに連結され、全閉状態とチルト状態を選択的に設定することが可能な携帯型電子機器において、全閉状態からチルト状態への移行時に第１筐体１の表面が受け得る傷を防止若しくは軽減する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus constituted so that paper powder or the like sticking to an intermediate transfer body can be efficiently removed by a cleaning means, then, the early deterioration (occurrence of scratches) of the surface of an image carrier such as a photoreceptor can be prevented, and then, the life time of the image carrier can be secured.例文帳に追加

中間転写体に付着した紙粉等を効率良くクリーニング手段で除去することができ、感光体等の像担持体表面の早期劣化（傷の発生等）を防止することができ、像担持体の寿命を確保することができる構成の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which improves the polishing speed, decreases the surface defects such as scratches or pits, and improves the surface smoothness such as surface roughness (Ra) and waviness (Wa); a polishing method using the composition; and a magnetic disk substrate improved in surface smoothness such as surface roughness (Ra) and waviness (Wa) and a method for producing the same.例文帳に追加

研磨速度を向上させると共に、スクラッチ、ピット等の表面欠陥が少なく、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性を向上させることが可能な研磨液組成物、該研磨液組成物を用いる研磨方法、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性が向上した磁気ディスク基板、並びにその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide polishing tools such as polishing belts, polishing tapes, and polishing disks, which can suppress the occurrence of scratches and can effectively remove deposits having mutually different properties in polishing or cleaning work for removing deposits having mutually different properties deposited on the surface of a glass substrate or the like, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ガラス基板等の表面に付着した性質の異なる付着物を除去する研磨又はクリーニングにおいて、スクラッチの発生を抑え、性質の異なる付着物を効率的に除去できる研磨ベルト、研磨テープ及び研磨ディスク等の研磨用具及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an insert material for a double-sided polishing device in which the development ratio of scratches generated on a surface of a semiconductor wafer after double-sided polishing can be smaller than that of the conventional method, the double-sided polishing device using the insert material, and a double-sided polishing method.例文帳に追加

両面研磨後の半導体ウェーハの表面に発生するスクラッチの発生率を従来より低減することができる両面研磨装置用のインサート材と、それを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法を提供する。 - 特許庁

To decrease scratches on a photoreceptor drum and to obtain satisfactory image over a long period of time, in an image forming device using a contact type charging device, as a charging means for the photoreceptor, which charges the surface of the photoreceptor by bringing a charging member with a voltage applied thereto into contact with the photoreceptor drum.例文帳に追加

感光ドラムの帯電処理手段として、電圧を印加した帯電部材を感光ドラムに当接させて感光体表面を帯電する接触式帯電装置を用いた画像形成装置であって、感光ドラムの傷を減らし、良好な画像が長期にわたって得られる装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent a failure in the gripping of a resin molded article, scratches caused by a suction part and the like, and also make compatible a variety of resin molded articles with three-dimensionally complicated surface shapes, in a device for gripping a resin molded article, and to reduce the size and cost of the device.例文帳に追加

樹脂成形品の把持装置において、樹脂製形品の把持不良を抑止し、かつ吸着部品による擦り傷等の発生を抑止すると共に、三次元的に複雑な表面形状の多種類の樹脂成形品にも対応可能とし、かつ当該装置の小型化及びコストダウンを図る。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of preventing the occurrence of scratches on a substrate surface, and also, capable of optically excellently probing a polishing state during the polishing in the polishing pad used for forming a flat face in glass, a semiconductor, a dielectric/metal complex, and an integrated circuit or the like, and a polishing device.例文帳に追加

ガラス、半導体、誘電／金属複合体及び集積回路等に平坦面を形成するのに使用される研磨用パッドにおいて、基板表面にスクラッチが生じにくく、研磨中に研磨状態を光学的に良好に測定できる研磨パッドおよび研磨装置を提供する。 - 特許庁

The present coatings curtail the growth of microcracks that can otherwise result from surface cracks or scratches on coated substrates, which provides improved wear characteristics, scratch resistance, and prevent the penetration of corrosive fluids to the substrate material.例文帳に追加

本発明のコーティングは、別の方法で表面の亀裂又はコーティングされた表面上のスクラッチから生じる恐れのあるマイクロ亀裂の成長を抑え、これにより向上した摩耗特徴、耐スクラッチ性、基材材料への腐食性流体の浸透の防止をもたらす。 - 特許庁

To provide an optical sheet, such as a light condensing sheet, having a lens shape shaped on the surface thereof, the optical sheet preventing scratches thereon without the need for a protective sheet, even when only the optical sheets are laid to overlap each other.例文帳に追加

集光シート等の表面にレンズ形状が賦型された光学シートにおいて、光学シートを単独で重ね合わせた場合であっても、保護シートを必要とせずに光学シートへの傷つきを防止できる光学シートを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method where thin films are deposited on the surface of metal such as noble metal and soft metal, so that composite hardness is increased, the generation of scratches is prevented, the gloss of base material metal is maintained, its chemical discoloration is prevented, and the commercial value thereof is improved, and to provide a product film-deposited thereby.例文帳に追加

貴金属、軟質金属などの金属表面に薄膜を成膜し、複合硬度を高め擦過傷発生を防止し、基材金属の光沢を維持し、化学的変色を防止し、商品価値を向上させる成膜方法及びそれによって成膜された製品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing pad for mechanically flattening the surface of an insulating layer or metal wiring formed on a silicon substrate by which the polishing rate is high, the global level difference is small, dishing at the metal wiring is hard to occur, few scratches are caused and little dust is adhered.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、研磨レートが高く、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、スクラッチが生じにくく、ダスト付着が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

The first set of apertures (12a) surrounding and close to a normal direction to the surface to be inspected (20) is connected to fibers (42) used to collect scattered radiation useful for the detection of micro-scratches and for anomaly detection on patterned surfaces.例文帳に追加

検査される表面（２０）に対して垂直な方向を取り囲んだ第１の組の開口（１２ａ）が、マイクロスクラッチの検出に有用な散乱照射線を集めるために使用されるファイバ（４２）に接続され、パターン化された表面上の異常を検出する。 - 特許庁

To provide a wooden plate having anti-allergen property which hardly takes scratches on the surface thereof, can exhibit anti-allergen property continuously for a long period and can be applied for floor material or the like, and to provide a method for manufacturing the wooden plate.例文帳に追加

表面に傷が付きにくく、長期間にわたって抗アレルゲン性を持続して発揮することのできる、床材などに適用可能な、抗アレルゲン性を有する木質板と、この木質板を製造するための製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aqueous repairing coating for topcoat in repairing scratches and the like on the surface of a decorative material of furniture, fittings and the like which is free from a solvent odor and permits an amateur to coat neatly to attain a finished state of high qualities with neither uneven coating nor uneven luster.例文帳に追加

家具、建具等の化粧材表面の傷等の補修時の仕上げ用塗料について、溶剤臭が無く、素人でも綺麗に塗れて塗装ムラや艶ムラ等も無い高品位の仕上り状態が得られる、補修用の水性塗料を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of an unspecified number of linear scratches on a non-adhesive heat-resistant film caused by a nearly doughnut-like flat surface part of a rotating table hitting against the bottom part of a rotative mounting base in mounting the rotative mounting base on the rotating table.例文帳に追加

回転載置台を回転テーブルに載せる時に、回転テーブルの略ドーナツ状の平面部が回転載置台の底部に当たることになり、非粘着性の耐熱被膜に線状の不特定多数の擦り傷の発生を防止することを課題とするものである。 - 特許庁

To provide a polishing method which is capable of polishing a substrate equipped with an insulating film, a conductor film, and a barrier metal film continuously by the use of the same metal polishing liquid; obtaining a polished surface of good planarity; and reducing the occurrence of scratches; and to provide a metal polishing liquid used for it.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる研磨方法、及びそれに用いる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

To provide a cutter device for a dividedly packaging material in which a seal part between subdivisions of the dividedly packaging material is perforated or cut at a high speed without any scratches in the surface of the dividedly packaging material.例文帳に追加

分包包装材の表面にこすり傷などを生じることなく、しかも高速で分包包装材の分包間シール部にミシン目を入れたりこのシール部を切断したりすることができる分包包装材カッター装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process liquid for a waterless planographic printing plate having a silicone rubber layer as an ink repelling layer, the liquid having excellent reproducibility of a high-definition image (minute dots) and hardly causing scratches on the surface of the silicone rubber layer.例文帳に追加

シリコーンゴム層をインキ反発層とする水なし平版印刷版の処理液として、高精細画像（微小網点）の再現性に優れ、シリコーンゴム層表面傷の発生しにくい水なし平版印刷版用処理液を提供すること。 - 特許庁

When a wafer W is suction held by forming a negative pressure region X at a position on the surface of a protrusion WB by air blown outward from an outlet 7, the wafer W can be supported by non-contact and scratches on the wafer W can be prevented.例文帳に追加

吹出口７から外方に吹き出した空気によって凸部ＷＢ表面位置に負圧領域Ｘを形成してウェハＷを吸引保持することで、ウェハＷを非接触で支持することができ、ウェハＷへの傷付きを防止することができる。 - 特許庁

To provide a resin sheet for an automobile good in embossing processability and wear resistance, and when used as a floor sheet of an automobile, hard to have scratches on the surface and hard to slip because the coefficient of dynamic friction is large, and good in the interlayer adhesion even at high temperatures.例文帳に追加

エンボス加工性と耐摩耗性が良好であり、自動車のフロアシートとして使用したとき、表面に傷が付きにくく、動摩擦係数が大きいために滑りにくく、高温においてもシートの層間密着性が良好である自動車用樹脂シートを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad for mechanically flattening the surface of an insulation layer or metal wiring formed on a silicon substrate which has a small global step difference, hardly causes dishing in the metal wiring, and generates less dust or scratches.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、ダストやスクラッチの発生が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for forming a good image for an extended time by preventing scratches on the photoreceptor surface that may cause a defective image without depending on a method of increasing mechanical strength, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus each having the photoreceptor.例文帳に追加

機械的強度を高める方法によらず電子写真感光体表面に生じる画像不良の原因となる大きさの傷の発生を抑制し、長期にわたり良好な画像の形成が可能な電子写真感光体、該感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To reduce dust adhered to the surface of an object to be polished, to reduce scratches while ensuring a high flattening property and further to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before finishing, that is, to correct defects expressed as waviness, nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide a method which enables a continuous laminated sheet (A) to be manufactured by laminating a continuous film (F) on a continuous sheet (S) by heat seal, without making scratches on surfaces of laminating rolls (21 and 22) transferred onto the continuous film (F), and without causing damage to a surface treatment layer (Fh) of the continuous film (F).例文帳に追加

貼合ロール(21、22)の表面の傷が連続フィルム(F)に転写されることがなく、また連続フィルム(F)の表面処理層(Fh)を損なうことなく、連続シート(S)に連続フィルム(F)を熱融着により貼合して連続貼合シート(A)を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preventing smudges in a sheet-fed rotary press machine and a smudge-preventing liquid which prevent the ink on a printed surface from transferring to each machine component, and also prevent printing quality deteriorations such as smudges or scratches from occurring on the printed body.例文帳に追加

印刷面のインキが印刷機の各機械構成要素へ転移することを防止するとともに、被印刷体に汚れや傷入りなどの印刷品質低下が発生することを防止する、枚葉輪転印刷機汚れ防止方法および印刷機汚れ防止液を提供すること。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor wafer, capable of grinding a metal film at a high speed on a semiconductor substrate under a low grinding pressure, controlling etchability which causes dishing at a low level, and also suppressing the occurrence of defects on a ground surface, such as scratches or erosion.例文帳に追加

低研磨圧力下においても半導体基板上の金属膜を高速に研磨でき、かつディッシングの原因となるエッチング性も低いレベルに制御され、同時にスクラッチやエロージョン等の被研磨面の欠陥発生も抑制することのできる半導体ウェハの製造方法を提供する。 - 特許庁