「scratches the surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a hollow fiber membrane cartridge capable of suppressing membrane surface scratches due to the flow of fluid, being used stably over a long period of time even when washing operation is performed highly frequently, and being easily manufactured.例文帳に追加

流体の流れに起因して生じる膜面擦過を抑制し、高頻度の洗浄操作を行っても長期間安定して使用することができ、かつ、製造が容易なる中空糸膜カートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning unit capable of suppressing deterioration in cleaning performance, damage and scratches on the circumferential surface of an electrostatic latent image carrier even when a reversal phenomenon of a cleaning blade occurs.例文帳に追加

クリーニングブレードが反転現象を起こした場合でも、クリーニング性能の低下及び静電潜像担持体の周面の損傷を抑制できるクリーニングユニットを提供する。 - 特許庁

To provide an optical body division sorting machine not erroneously determining a normal grain having no crack portion by an embryonic portion and surface scratches as a body division grain when the body division grain mixed into a material rice grain is optically determined.例文帳に追加

原料米粒に混入した胴割粒を光学的に判別する際に、胚芽部分や肌ずれ部分によって亀裂部分を有さない正常粒を胴割粒と誤判別することのない光学式胴割選別機を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing apparatus capable of reducing scratches on the surface of an object to be polished by preventing dropping-off of abrasive grain from a dressing member.例文帳に追加

ドレッシング部材からの砥粒の脱落を防止して研磨対象物の表面のスクラッチを低減することができるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabric for abrasive cloth that reduces the rate of occurrence of defects (scratches) on a surface of an object to be polished and which is made of ultrafine polytrimethyleneterephtalate having excellent polishing efficiency.例文帳に追加

本発明の目的は、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能であり、かつ研磨能率に優れた極細ポリトリメチレンテレフタレートからなる研磨布用布帛を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus using an electrophotographic photoreceptor that prevents scratches (flows) or density spots (unevenness) on the photoreceptor surface even in long-term use in a charging process using a contact charging device, and that has excellent wear resistance and gas resistance.例文帳に追加

接触帯電器を用いた帯電プロセスにおける長期使用においても感光体表面の傷（キズ）、濃度斑（ムラ）がなく、かつ耐磨耗性及び耐ガス性に優れた電子写真感光体を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor, by which scratches or contamination on an outer peripheral surface, which cause image defects, can be reduced, and peeling of a deposited film from an end portion can be suppressed after or during forming the deposited film.例文帳に追加

画像欠陥の原因となる外周面の傷や汚染が少なく、堆積膜形成中や堆積膜形成後に、端部からの堆積膜の剥がれを抑制可能な電子写真感光体用の円筒状基体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a suction opening, an extension tube, a dust collecting hose, a vacuum cleaner body, and a power cord for an electric vacuum cleaner that have fewer number of parts and fewer number of man-hour for assembly even when a layer for preventing scratches is installed the outer surface.例文帳に追加

外表面に傷つき防止のための層を設けても、部品点数が少なく且つ組み付け工数が少なくできる電気掃除機用吸込口体、延長管、集塵ホース、掃除機本体及び電源コードを提供すること。 - 特許庁

To provide a structure of a partition wall for a kitchen which can retain an aesthetic appearance for a long period of time because of a surface which hardly gets stains and scratches and is fireproof in case of a fire in the kitchen.例文帳に追加

表面に汚れや傷が付き難いことから長期的な美的外観が得られ、キッチン内部で火災などが生じた際における防火性を備えたキッチンの隔壁構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preventing scratches on the surface of a wire rod in short tubes and print flaws in a recessed part of a roller in a roller guide, both of which are used in a laying type winder.例文帳に追加

レイング式巻取機に用いる短管における線材表面かき疵及びローラーガイドにおけるローラー凹み部のプリント疵を防止する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fixing device which employs a heat-pressure fixing system and provides an image of high image quality and in a high gloss area by making inconspicuous, rush-scratches formed on the surface of a fixing member caused by a paper which has passed through a nip portion.例文帳に追加

熱圧力定着方式を採用する定着装置において、ニップ部に通紙された用紙により定着部材の表面に生じた突入傷を目立たなくし、高画質、高グロス領域の画像を得る。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad which has a high polishing speed and is superior in flatness of a polished surface and causes less scratches, and to provide a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

研磨速度が高く、被研磨面の平坦性に優れ、かつ、スクラッチの少ない化学機械研磨パッドおよび該研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

This residual material removing device 20 scratches off residual materials after a carrier processing stuck to an internal surface of each flight 10 in the mid-way of a returning path of a flight conveyor 1 and is provided with a plurality of scratching plates 21 for scratching residual materials.例文帳に追加

残留物除去装置２０は、フライトコンベヤ１の復路途上において各フライト１０の内面に付着した搬送処理後の残留物を掻き取るもので、残留物を掻き取るための複数の掻取板２１を備える。 - 特許庁

To provide a production method capable of stably obtaining a sheet-like ceramic body in which warpage after firing hardly occurs and sliding scratches are hardly produced on the surface thereof.例文帳に追加

焼成後の反りが生じ難く、表面に摺動傷が殆ど生じ難い板状のセラミック体を安定に得ることを可能とする製造方法を提供する。 - 特許庁

The protective layer is easy to remove using standard cleaning method, while providing satisfactory surface protection against particle contamination and scratches, at a very low coating thickness.例文帳に追加

保護層は、きわめて薄いコーティング厚で、粒子汚染および引っかき傷に対する十分な表面保護をもたらす一方、標準的なクリーニング法を用いて容易に除去される。 - 特許庁

To provide a glass having a large thermal expansion coefficient at a low temperature, capable of easily obtaining a clean surface without defects such as scratches by cleaning with an acidic cleaning solution and the like, and capable of easily manufacturing on a large scale at a low price.例文帳に追加

低温での熱膨張係数が大きく、酸性洗浄液などによる洗浄によって、傷などの欠点のない清浄な表面を容易に得ることができ、かつ安価で容易に大量に製造できるガラスを提供する。 - 特許庁

To provide an intaglio plate, which is suitable for the formation of a very fine pattern and has an excellent durability due to its surface being hard to take scratches, and its manufacturing method.例文帳に追加

極めて微細なパターンの形成に適しており、しかも表面に傷がつきにくく、優れた耐久性を有する凹版と、その製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a developing roller that will not causes scratches on the surface of a roller, such as a developing roller with a resin layer directly formed on a shaft, even if it is subjected to stress.例文帳に追加

シャフト上に樹脂層を直接配置する現像ローラ等で、応力を受けた時にローラ表面にキズを発生させない現像ローラを提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive for polishing a surface to be polished, such as an SiO_2 insulating film and the like at high speed, without causing scratches, and to provide a polishing method of a substrate, and a manufacturing method for a semiconductor device.例文帳に追加

ＳｉＯ_２絶縁膜等の被研磨面を傷なく高速に研磨するための研磨剤、基板の研磨方法及び半導体装置の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a double-sided optical inspecting system for detecting and classifying particles, pits, or scratches on a thin-film disk or on a wafer, with a single scan on the surface.例文帳に追加

表面の単一走査で薄膜ディスクまたはウェハー上の粒子、ピットまたはスクラッチを検出・分類する両面光学検査システムを提示する。 - 特許庁

To provide a disk reproducing device which can prevent scratches from being generated on the surface of a disk by unnecessary rotation of a roller with simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成により、ローラの不必要な回転によってディスク表面に傷が生じるのを防止することができるディスク再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dicing apparatus with the structure that prevents scratches from being generated on a worked front surface by a disk-shaped pressing portion, reduce variation in a processing position of blade, and control generation of chippings at a wafer's cut edge face.例文帳に追加

円盤状の押圧部によるワーク表面の傷の発生を防ぎ、ブレードの加工位置の変動を低減できるともに、ウエハの切削端面にチッピングが発生することを抑制できる構造のダイシング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a natural stone-grained face material, which can simply obtain the lightweight face material having an appearance of a natural stone and reducing scratches and stains on a surface.例文帳に追加

天然石の外観を有し表面の傷付きおよび汚れを低減した軽量な面材を簡便に得ることができる天然石目調面材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colloidal silica abrasive to be used for polishing and flattening a surface wherein a metal film and an insulation film coexist which can reduce the generation of scratches and has a long shelf life.例文帳に追加

メタル膜及び絶縁膜が共存する表面の平坦化研磨の際に使用されるコロイダルシリカ研磨剤であって、スクラッチの発生が低減され、シェルフライフの長い研磨剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a protective film for a shaped article that reduces occurrences of fading or scratches on a surface during a long use and becomes naturally luminous in the dark.例文帳に追加

長期使用における表面の色褪せやキズ発生を軽減すると共に、暗闇で高輝度に自然発光させることができる造形物用保護膜を提供すること。 - 特許庁

To prevent paper from being wrapped to pressure in fixing and separation of an air injection system and prevent jam occurrence, scratches on an image surface on a pressure side or contamination of a conveyance guide or the like.例文帳に追加

エア噴射方式の定着分離における加圧への用紙巻き付きを抑制し、ジャム発生および加圧側画像面の傷付きや搬送ガイド等の汚染を防止する。 - 特許庁

To provide an applicator capable of effectively preventing a chemical liquid from splashing to a worker, and excellently applying the chemical liquid without causing any trouble that a covering body provided for splashing prevention scratches a coating surface.例文帳に追加

薬液が作業者に飛散するのを効果的に防止でき、しかしながら飛散防止の為に設けたカバー体が塗布面を引っ掻いたりすることが無く、綺麗に塗布が行なえる塗布具を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for economically manufacturing polishing composition in which the surface roughness of an object after polishing is small, and nano-scratches important in high density can be considerably reduced.例文帳に追加

研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、且つ高密度化において重要となるナノスクラッチを顕著に低減することができる研磨液組成物を経済的に製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which scratches on a substrate reverse surface are reduced by eliminating production of particles at contact portions of a port column and the substrate.例文帳に追加

ボート柱部と基板の接触部のパーティクルの発生をなくし、基板裏面の傷を低減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a piercing rolling method for a billet by which scratches on the inner surface at a distal end part of a material to be rolled hardly occurs in piercing rolling a billet (seamless steel tube base stock) by means of a piercer such as a Mannesmann piercer.例文帳に追加

ビレット（継目無鋼管用素材）をマンネスマンピアサーのような穿孔圧延機にて穿孔圧延するときに被圧延材先端部に内面疵を発生し難くしたビレットの穿孔圧延方法を提供する。 - 特許庁

By performing the pre-rotating operation, countless fine scratches are formed on the surface of the new photoreceptor drum due to the contact of the developing roller 33, a transfer roller 20 and the cleaning roller 35 with the photoreceptor drum, and the proper roughness is formed on the surface as compared with the initial state of the mirror-finished surface.例文帳に追加

予備回転動作により、新しい感光体ドラムの表面には、現像ローラ３３、転写ローラ２０及びクリーニングローラ３５が接触することで、無数の微細な擦りキズが形成され、最初の鏡面仕上げの状態から適当な粗さが形成されるようになる。 - 特許庁

As a result, the foreign substances do not accumulate on the inner peripheral surface 8f and the outer peripheral surface 8g, and the generation of the scratches on the polished surface of a wafer caused by the foreign substances and the sticking of the foreign substances (debris) can be suppressed, and the proper polishing results can be achieved.例文帳に追加

内周面８ｆや外周面８ｇに外部物質が堆積することがなく、ウエハの被研磨面に外部物質によるスクラッチや外部物質（異物）の付着などが発生することが抑制され、適正な研磨結果を得ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a polishing slurry that can establish highly accurate surface polishing at high surface flatness, small surface roughness without generating micro scratches or micro pits and processing deteriorated layers on the surface, as well as high polishing speed when precisely polishing a silicon carbide single crystal substrate.例文帳に追加

炭化珪素単結晶基板の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット、加工変質層が生じないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ速い研磨速度を達成することができる研磨スラリーを提供することにある。 - 特許庁

To detect surface flaws which range from relatively small pore size to relative large pore size in a detector for detecting the surface flaw of the inner peripheral surface of a metal part or the like, for the purpose of detecting the presence or the kind of unevenness of irregularities, rolling marks or tool marks, sharp flaws such as scratches and the like.例文帳に追加

打痕や窪みなどの凹凸、圧延痕やツールマーク、引掻き傷のような鋭い傷の有無やその種類を検出する金属部品等の内周面の表面傷を検出する装置において、孔径の比較的小さなものから大きなものまで検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a cleaning tape and a method capable of removing unnecessary protrusions or particles from the surface of the matter to be cleaned and cleaning the surface of the matter to be cleaned without forming scratches on the surface of the matter to be cleaned.例文帳に追加

被クリーニング物の表面にスクラッチを形成させずに、不要な突起やパーティクルを被クリーニング物の表面から除去し、被クリーニング物の表面を清浄化できるクリーニングテープ及び方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which uses a polishing agent more excellent in that the polishing agent makes a main surface of a glass substrate for a magnetic disk flat and generation of scratches on the main surface is suppressed than cerium oxide that is conventionally used as the polishing agent for polishing the main surface.例文帳に追加

磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The position of the projecting part 31 is changed to a position where the fastening torque of the decorative screw 3 becomes minimum in spite of holding scratches on the surface of the reflecting plate 1 in the inconspicuous position, the design on the surface of the reflecting plate 1 is improved so that the fastening torque of the decorative screw 3 becomes minimum, and the fitting workability is improved.例文帳に追加

反射板１表面に付く傷を極力目立たない位置としながらも、化粧ネジ３の締付けトルクが最小となる位置に突起物３１の位置を変え、反射板１表面の意匠性を改善し化粧ネジ３の納付トルクが最小になることから、取付作業性が改善される。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a sapphire substrate capable of removing easily and inexpensively scratches of some to tens of nanometers (nm) existing in the sapphire substrate surface after mirror finished surface, where a foreign substance is not adhered.例文帳に追加

簡易にかつ安価に鏡面研磨後のサファイア基板表面に存在する数〜数十nmの引っ掻き傷を除去でき、かつ処理後のサファイア基板表面に異物が付着することのないサファイア基板の表面処理方法の提供を課題とする。 - 特許庁

The scratches due to the rotation of the sponge buffs are reduced to the utmost limit by extending the polishing time of the fine particle compound while suppressing the friction heat between the sponge buffs and the coating surface, and finishing of high-precision coating surface which does not damage intrinsic brightness and water repellency and persistent effects of coating painting can be obtained.例文帳に追加

これによりスポンジパフと塗装面との摩擦熱を抑えなら微粒子コンパウンドの研磨時間を伸ばすことで、スポンジバフの回転による傷を極限まで減少させ、かつ、塗装本来の光沢と撥水を損なわない精度の高い塗装面の仕上げ及び塗装の持続性効果を得ることができる。 - 特許庁

To provide a process for the heat treatment of a parent material for optical fibers that can remove ununiformity due to scratches, unevenness and contaminants on the surface of the parent material as well as the residual strain inside the parent material and the cloudiness caused by glass fine particles sticking to the surface on the parent material.例文帳に追加

光ファイバ母材表面の傷、凹凸、不純異物による不均一性の除去、光ファイバ母材内部の残留歪みの除去、および母材表面に付着したガラス微粒子による曇りの除去ができる、光ファイバ母材の熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the labor and time for a replacing work and to prevent the outer peripheral surface of a photoreceptor from being repeatedly scratched by integrally replacing a member having high possibility causing the deterioration of image quality when the image quality is deteriorated caused by scratches on the outer peripheral surface of the photoreceptor.例文帳に追加

感光体の外周面の傷付きが原因となって画像品質が低下した場合、画像品質低下の原因となっている可能性の高い部材を一体に交換し、交換作業の手間を軽減するとともに感光体の外周面に同じような傷が付くことの繰り返しを防止する。 - 特許庁

When the platen drum 14 turns and the cleaning part 22 passes through a heating element array 13a, the titanium oxide having fine file surface scratches the heating element array 13a by such an extent as causing no damage to remove dust adhering to the surface of the heating element array 13a.例文帳に追加

プラテンドラム１４か回転してクリーニング部２２が発熱素子アレイ１３ａを通過する際に、表面が細かいヤスリ面を成す酸化チタンが発熱素子アレイ１３ａを傷つけない程度に擦り、発熱素子アレイ１３ａの表面に付着している塵埃を擦り落とす。 - 特許庁

A position 22 in the axial direction for receiving nuclear boiling in the total output operation of a nuclear reactor is polished highly, and hence the maximum size of surface scratches on the highly polished surface is approximately 0.1 microns in the clad control nuclear fuel element sheath pipe 16.例文帳に追加

原子炉の全出力運転の際に核沸騰を受ける軸方向の位置２２が、高研磨され、その結果、高研磨表面上の表面疵の最大サイズが約０．１ミクロンになっている、クラッド抑制核燃料要素被覆管１６。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which can be obtained with high yield by optimizing a center line average roughness on a polishing pad surface for CMP and processing pressure at the time of polishing, reducing the total number of defects on the semiconductor substrate surface after polishing, and also reducing the ratio of scratches in the defects.例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨パッド表面の中心線平均表面粗さおよび研磨時の加工圧力を適正化し、半導体基板表面の研磨後の総欠陥数を減らしかつ欠陥に占めるスクラッチの割合を低減して、高い歩留まりを得ることが可能な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for producing the aerosol can, a hair line 1a composed of many scratches having concavities and convexities, is formed on a surface, and partial coating is conducted to the hair line to partially conceal the hair line, and consequently the surface of a container is divided into a hair line part and a specular face 5a part.例文帳に追加

表面に、多数の凹凸状の引っ掻き傷よりなるヘアライン１ａの加工を施し、その上に部分的に塗装を施して、部分的にヘアラインを隠すことにより、容器表面をヘアライン部と鏡面５ａ部とに分けることを特徴とするエアゾール缶の製造方法。 - 特許庁