「semiconductor processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

A patterning processing using plasma etching is performed on the conduction layer, and the conduction path is formed in a state where the conductive layer is electrically connected to the semiconductor substrate via the through part.例文帳に追加

導電層が貫通部を経て半導体基板に電気的に接続された状態で、導電層にプラズマエッチングを用いたパターニング処理を施して導電路を形成する。 - 特許庁

The structure of a prescribed part corresponding to each device formed by the processing is evaluated as the function of a position inside the surface of the semiconductor substrate (step S2).例文帳に追加

前記プロセス処理により形成された各デバイスに対応する所定部位の構造を該半導体基板の面内における位置の関数として評価する（ステップＳ２）。 - 特許庁

A signal processing device 30 extracts a heat generating state of the semiconductor device 15 accompanying irradiation with the laser beam from a size of an output signal from the detector 20.例文帳に追加

信号処理装置３０は、検出器２０の出力信号の大きさからレーザ光の照射に伴う半導体装置１５の発熱状態を抽出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method wherein the processing of its bit-line contact is easy and its reliability can be improved by augmenting its short-channel margin.例文帳に追加

ビット線コンタクトの加工が容易で、またショートチャネルマージンを拡大して信頼性を向上させることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A trench is formed in the insulation layer 18 with pattern processing, and a via opening part is formed in the trench to reach one of the inner semiconductor device structure through the insulation layer.例文帳に追加

トレンチを絶縁層内にパターン加工で形成し、バイア開口部をトレンチ内に絶縁層を通して下側の半導体装置構造のうちの一つまで形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing apparatus including a substrate transfer device capable of accurately detecting the position of a substrate and accurately arranging the substrate at a prescribed position, and to provide a method thereof.例文帳に追加

基板の位置を正確に検出し、基板を所定位置に精度良く配置することができる基板搬送装置を含む半導体処理装置及びその方法を与える。 - 特許庁

To provide a semiconductor plasma processing device that can enhance etching uniformity, by compensating a radical-side concentration phenomenon which is a weakness of an inductively coupled plasma source.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマ源の短所であるラジカル側面集中現象を補ってエッチング均一度を高めることができる半導体プラズマ処理装置に関する。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects, particularly pattern collapse of semiconductor devices occurring during the manufacturing process without sacrificing a throughput, and to provide a processing solution therefor.例文帳に追加

製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。 - 特許庁

Secure distributed and other operating system environments and architectures, employing, for example, secure semiconductor processing arrangements that may establish secure, protected environments at each node.例文帳に追加

安全な配布されたおよび他の動作システム環境およびアーキテクチャは、例えば、各ノードで安全な保護された環境を確立し得る安全な半導体処理配置を使用する。 - 特許庁

To provide a new, novel structure in a semiconductor device having an SJ structure that can release a limit related to an aspect ratio in trench processing technology.例文帳に追加

ＳＪ構造を有する半導体装置において、トレンチ加工技術におけるアスペクト比に係る制約を緩和することができる新規で斬新な構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a corrosion-resistant material having excellent corrosion resistance to the plasma of a halogen base gas used in manufacturing a semiconductor and a polyimide substrate, and in plasma-processing liquid crystal.例文帳に追加

半導体製造、ポリイミド基板製造、液晶プラズマ処理等で使われるハロゲン系ガスのプラズマに対して優れた耐蝕性を有する耐蝕性部材を提供する。 - 特許庁

Then the titanium nitride film and an unreacted cobalt film are removed by a first wet rinsing processing to leave the CoSi layer on the gate electrode and the semiconductor regions.例文帳に追加

それから、第１のウェット洗浄処理を行って窒化チタン膜および未反応のコバルト膜を除去し、ゲート電極および半導体領域上にＣｏＳｉ層を残存させる。 - 特許庁

The in-line type semiconductor production system comprises a plurality of substrate-processing modules MD, having a vacuum robot VR, and an atmospheric loader LM having one atmospheric robot AR.例文帳に追加

インライン型半導体製造装置は、真空ロボットＶＲを有する複数の基板処理モジュールＭＤと、１台の大気ロボットＡＲを有する大気ローダＬＭとを備える。 - 特許庁

At a waiting time for forming a semiconductor thin film before a wafer (substrate) is introduced into a chamber 104, a fluorine reduction processing is performed in the chamber using hydrogen gas and inert gas.例文帳に追加

ウエハ（基板）のチャンバー１０４内搬入前の半導体薄膜形成待機時において、チャンバー内に水素ガス及び不活性ガスを用いてフッ素還元処理を行なう。 - 特許庁

The system and method allows the measurement and control of the water vapor in the semiconductor processing chamber wherein water vapor is present as the process gases.例文帳に追加

本装置および方法によって、水蒸気がプロセスガスとして存在する半導体処理チャンバー内部の水蒸気レベルを測定および制御することが可能になる。 - 特許庁

To provide a spin processing apparatus which varies the eccentric movement quantity of a chuck pin, when a semiconductor wafer is supplied to a rotating body and is taken out.例文帳に追加

この発明は回転体に半導体ウエハを供給するときと取り出すときとでチャックピンの偏心移動量を変えるスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of characterizing the performance of an electrostatic chuck prior to installing the chuck in the vacuum chamber of a semiconductor processing system in a production line.例文帳に追加

本発明は、静電チャックが製造ラインの半導体処理システムの真空チャンバ内に実装される前に静電チャックの性能を特徴付ける方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To enable a large-scale waver of radius 8 inches or above to undergo a hydrogen sintering processing without deteriorating a MOS semiconductor device in characteristics so as to enhance its throughput.例文帳に追加

８インチ以上の大口径ウエハーの水素シンター処理を、特にＭＯＳ型半導体装置の特性を劣化させることなく行なってスループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a fluorine gas supply system with which fluorine gas generated by a fluorine gas generator is stably supplied in a large amount to a semiconductor processing device in a precise concentration.例文帳に追加

フッ素ガス発生装置で発生させたフッ素ガスを半導体処理装置に、安定、大量かつ精密な濃度で供給可能なフッ素ガスの供給システムを提供する。 - 特許庁

A resolver of an information processing semiconductor device reads a passcode-equipped program from memory 1, transfers the program to memory 2, and stores the passcode in a passcode register of a debug permission device.例文帳に追加

情報処理半導体装置の分解装置は、メモリ１からパスコード付きプログラムを読み出し、プログラムをメモリ２に転送し、パスコードをデバッグ許可装置のパスコードレジスタに保存する。 - 特許庁

To provide a data collecting system with which data processing of a semiconductor manufacturing device can appropriately be performed by shortening retrieval time of data stored in a data base.例文帳に追加

データベースに格納されたデータの検索時間を短くして半導体製造装置のデータ処理を適正に行うことができるデータ収集システムを提供する。 - 特許庁

This semiconductor element provided with a MOS transistor having an SOI structure and this signal processing device contain main MOS transistors and assistant MOS transistors.例文帳に追加

ＳＯＩ構造を有するＭＯＳトランジスタを備えた本発明による半導体素子及び信号処理装置は、メインＭＯＳトランジスタとアシスタンスＭＯＳトランジスタとを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can suppress introduction of nitrogen atom to an interface layer and a high-permittivity insulating film lower layer portion, and a substrate processing apparatus.例文帳に追加

界面層および高誘電率絶縁膜下層部への窒素原子の導入を抑制することができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element which is variable in laser oscillation wavelength and can have an optical processing element integrated on the same substrate while suppressing optical loss.例文帳に追加

レーザ発振波長を変更可能であって、光学的損失を抑えつつ光処理素子を同一基板上に集積可能な半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

In a subsequent heating processing process, the crystalline semiconductor film, where the occurrence of crystal core can be suppressed and crystal particles with large particle sizes are gathered can be obtained.例文帳に追加

その後の加熱処理工程において、結晶核の発生を抑制することができ、粒径の大きな結晶粒が集まった結晶質半導体膜を得ることができる。 - 特許庁

To form a pellet of high quality without any chip or stress by an economical method at the time of dividing a semiconductor wafer by chemical etching processing.例文帳に追加

化学的エッチング処理によって半導体ウェーハを分割する場合において、欠けやストレスのない高品質なペレットを経済的な方法にて形成することを可能にする。 - 特許庁

To reduce a chip area, and to simplify circuit layout in a semiconductor integrated circuit device for operating arithmetic processing by inputting a serial clock and data from the outside.例文帳に追加

外部からシリアルクロックおよびデータを入力して演算処理する半導体集積回路装置において、チップ面積の低減し、回路レイアウトを容易にすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing method whereby a high degree of flatness is achieved for the wafer surfaces and whereby pollution by heavy metals, such as iron, nickel, chromium, and copper is prevented.例文帳に追加

ウェーハ表面の高い平坦度を確保するとともに鉄、ニッケル、クロム、銅、等の重金属による汚染を防止できる半導体ウェーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

A thermal process for cleaning equipment surfaces having deposition of undesired silicon nitride in a semiconductor processing chamber by using a thermally activated source of pre-diluted fluorine is provided.例文帳に追加

半導体処理チャンバーにおいて、望まれていない窒化ケイ素が推積した装置表面を、熱的に活性化した、予備希釈したフッ素源を用いてクリーニングするサーマルプロセス。 - 特許庁

The semiconductor electrode 4 mainly consists of titanium oxide, and visualizing processing, which enables absorption of light of a wavelength of a visible light range, has been performed.例文帳に追加

本発明の半導体電極４は、主として酸化チタンで構成され、可視光領域の波長の光の吸収を可能とする可視化処理が施されている。 - 特許庁

To provide a method for controlling a semiconductor assembling apparatus, which can avoid generation of such a state that a die pad is not present at a processing position and is capable of attaining high productivity.例文帳に追加

加工位置にダイパッドが存在しない状態の発生を回避して、高い生産性を達成可能な半導体組立装置の制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor memory substrate, which minimizes a liquid loss and cuts a processing cost by decreasing contamination of a solder tank caused by foreign materials.例文帳に追加

メッキタンクが、外来物により汚染されるのを低減させ、液の損耗を最低限と、加工コストを大幅に削減する、半導体メモリ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor integrated circuit including a plurality of IPs, the supply and cut-off of power to the IPs is controlled by using an interruption signal which shows the finish of processing of the IPs.例文帳に追加

本発明は、複数のＩＰを含む半導体集積回路において、ＩＰの処理終了を示す割込み信号を用いて、電源供給と遮断の制御を行う。 - 特許庁

To solve the problem that an output sound is hardly heard due to the erroneous determination of a sound kind discrimination signal (CUE signal) in a semiconductor integrated circuit for a sound multiplex signal processing circuit.例文帳に追加

音声多重信号処理回路用の半導体集積回路において、音声種別識別信号（ＣＵＥ信号）の誤判別により、出力音声が聞きにくくなる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of restraining the processing size of the upper part of a hole bored in an insulating film from getting larger than its required size.例文帳に追加

絶縁膜に形成するホールの上部の加工寸法が所望の寸法より大きくなるのを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with high reliability and a method of manufacturing the same such that uniform and sufficient full-silicide processing on respective gates is carried out without increasing processes.例文帳に追加

工程増を招くことなく、各ゲートについて均一で十分なフル・シリサイド化を実現する、信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A gettering agent can be arranged simply and surely and manufacture with high productivity is realized, by carrying out tapering processing of a gettering-agent to the inserting part of a semiconductor.例文帳に追加

ゲッター剤を挿入箇所の半導体にテーパー加工を施すことで、簡単、かつ、確実にゲッター剤を配置する事が可能となり生産性高く作製できるようになった。 - 特許庁

To provide an image processing circuit capable of reducing blinking and flickers of an output image, when an input image is subjected to luminance conversion processing to generate the desired output image, a semiconductor device constituting by integrating the circuit, and an image processing device that uses the circuit.例文帳に追加

本発明は、入力画像に輝度変換処理を施して所望の出力画像を生成するに際し、出力画像のちらつきやフリッカを低減することが可能な画像処理回路、これを集積化して成る半導体装置、並びに、これを用いた画像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that reduces power consumption and processing time when canceling a low-power consumption state set by a central processing unit, and easily controls relation between forced cancel and restoration of the low-power consumption state set already by the central processing unit.例文帳に追加

中央処理装置が設定した低消費電力状態の解除に伴う電力消費と処理時間を短縮することができ、且つ、中央処理装置が既に設定した低消費電力状態の強制解除と復帰との関係の制御を容易に行うことができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor device includes the steps of carrying-in a wafer 200 into a processing chamber 201, forming an HfO_2 film on the wafer 200 by alternately supplying TEMAH and O_3, under heating, into the processing chamber 201, and carrying-out the wafer 200 from the inside of the processing chamber 201.例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法は、ウエハ２００を処理室２０１内に搬入する工程と、ＴＥＭＡＨとＯ_３とを加熱しながら処理室２０１内に交互に供給してウエハ２００にＨｆＯ_２膜を形成する工程と、ウエハ２００を処理室２０１内から搬出する工程と、を備える。 - 特許庁

The method may be used in a processing level, for example, the presence of the defect in the coating layer formed on the semiconductor substrate is determined in manufacture of the electronic device to decide the capability of further processing for the device, or the necessity of removal from the processing.例文帳に追加

本方法は、処理レベルにおいて使用してもよく、例えば、電子装置の製造において半導体基板上に形成された被覆層が欠陥を有するか否かを判断することができ、従って、その装置をさらに処理可能であるのか、処理から除外しなければならないのかを決定することができる。 - 特許庁

A switch unit 10 including an STP function is formed on the same semiconductor chip 100 together with a function processing unit 20 including an existent information collection function or control function and connected with the function processing unit 20 and according to the STP, data communication between the function processing unit 20 and another apparatus is controlled via a field bus 5.例文帳に追加

ＳＴＰ機能を有するスイッチ部１０を、既存の情報収集機能や制御機能を有する機能処理部２０と同一半導体チップ１００上に形成して機能処理部２０と接続し、ＳＴＰに基づき、フィールドバス５を介して機能処理部２０と他の装置との間のデータ通信を制御する。 - 特許庁

To achieve an automatic design method which allows an arithmetic processing unit to easily perform processing for designing the location of a via to be disposed on a substrate surface of a semiconductor package on a virtual plane corresponding to the substrate surface, and to achieve a computer program for allowing a computer to execute processing for designing.例文帳に追加

半導体パッケージの基板面上においてビアを配置すべき位置を基板面上に相当する仮想平面上で設計する設計処理を、演算処理装置により容易に実行することができる自動設計方法およびこの設計処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To prevent the steam of a processing liquid evaporating from a wafer from being attached to the wafer again and being particles in a semiconductor manufacturing equipment, which is used as an etching device of a semiconductor wafer, by quickly discharging a large amount of steam generated when a wafer is picked up from a processing tank or by preventing the generation of the steam itself.例文帳に追加

半導体ウェハーのエッチング処理装置等として使用される半導体製造装置において、処理槽よりウェハーを引き上げる際に発生する大量の蒸気を素早く排気したり、その蒸気自体の発生を防止したりすることにより、ウェハーから蒸発した処理液の蒸気がウェハーに再付着してパーティクルとして現れることを防止する。 - 特許庁

This adhesive sheet for processing semiconductor has antistatic effects and ≤1 s of half-life of a voltage when electrified in the adhesive sheet for processing semiconductor obtained by applying an adhesive layer composed of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerizable polymerization initiator on a base material having transparency to ultraviolet ray and/or an electron beam.例文帳に追加

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有する基材面上にベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤からなる粘着剤層を塗布してなる半導体加工用粘着シートにおいて、帯電防止効果を有し、帯電時の電圧の半減期が１秒以下である半導体加工用粘着シートである。 - 特許庁