「shift pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

In an interrogator 20, a delimiter code detection section 22 detects the delimiter code in the mixed pulse train transmitted from the wireless tag 10, and stores a mixed pulse pattern extracted on the basis of the interval between the delimiter codes to a shift register 24.例文帳に追加

質問機２０では、区切り符号検出部２２により、無線タグ１０から送信される混合パルス列中の区切り符号を検出し、区切り符号の間隔により抽出した混合パルスパターンをシフトレジスタ２４に記憶する。 - 特許庁

To provide a design pattern capable of evaluating depending on the design conditions at a level requiring phase shift mask and a light proximity effect in manufacture a circuit of a wafer following the advanced microminiaturization of circuit wirings.例文帳に追加

回路配線の微細化が進み、ウエハの回路作製に光近接効果と同補正を必要とし、位相シフトマスクの使用を必要とするレベルにおいて、設計条件に対応し且つ実用レベルで評価できるテスト設計パタンを提供する。 - 特許庁

A pitch controller 262 calculates a pitch shift value for matching the key of the audio block to a master key based upon the difference between the key that the remix pattern data represents and the master key and the time stretch value, and sets it to the audio signal generator 282.例文帳に追加

音高制御部２６２は、リミックスパターンデータに示されるキーとマスタキーとの差およびタイムストレッチ値に基づいて、音声ブロックのキーをマスタキーに合わせるためのピッチシフト値を算出し、音声信号生成部２８２に設定する。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask with a light shielding frame disposed on a halftone material film around an effective region including a main pattern without adding a photomask producing step and to provide a method for producing the phase shifting mask.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程を増やさないで、メインパターンを含む有効領域周辺のハーフトーン材料膜上に遮光性の枠を設けたハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.例文帳に追加

但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁

Therefore, players can raise expectations sufficiently for probable shift to big wins from the state ready for win, and finally, a jackpot pattern is determined, thereby improving the degree of satisfaction felt by the players.例文帳に追加

それ故、もしかしたらリーチ状態から大当たりに発展するのではないか、という期待感を遊技者に十分に抱かせておいてから、最終的に大当たり態様が決定し、遊技者の満足度を向上させることができる。 - 特許庁

In addition, the lottery performance showing whether the conditions for the shift to the special game status are established or not is displayed on a decoration pattern display device based on game balls guided to a lottery area within a special area.例文帳に追加

また、特別領域内の抽選領域へ誘導された遊技球に基づいて特別遊技状態への移行条件が成立するか否かについての抽選演出を飾り図柄表示装置の表示により行なう。 - 特許庁

Based on the prescribed group on the basis of control signals, the pattern corrector 220 corrects test patterns inputted to the shift registers 200 and individually releases the correction of test patterns of which the corrections by the group are not appropriate.例文帳に追加

パターン修正器２２０は、制御信号に基づいて、シフトレジスタ２００へ入力されるテストパターンを所定のグループ単位で修正し、さらに、グループ単位の修正が適正ではないテストパターンへの修正を個別に解除する。 - 特許庁

To provide an image display apparatus capable of suppressing the shift of a position irradiated with laser light on a screen and changing a speckle pattern, then, effectively reducing a speckle noise and displaying an image of high quality.例文帳に追加

スクリーン上におけるレーザ光の照射位置のずれを抑えつつスペックルパターンを変化させることで、スペックルノイズを効果的に低減させるとともに高品質な画像を表示することが可能な画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

In the cross-sectional structure of the phase shift mask 10, the pattern region 1 and dummy region 3 consist only a transparent substrate 5, while other region consists of the transparent substrate and a translucent film 6 which inverts the phase of light by 180°.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は、その断面構造において、パターン領域１とダミー領域３は、透明基板５のみから成り、それ以外の領域は、透明基板５と、光の位相を１８０度反転させる半透明膜６とから成る。 - 特許庁

An analog front end IC of an image reader converts each of pixel signals outputted from first, second and third shift registers into pixel data and outputs the pixel data as a serial data stream with a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明の画像読取装置は、第一及び第二及び第三シフトレジスタから出力される各画素信号を、アナログフロントエンドＩＣにて、画素データに変換すると共に、画素データを所定パターンのシリアルデータ列にして出力する。 - 特許庁

The printer provided with an auto-cutter cuts the cutting position adjusting pattern 300, determines the shift between a resulting reference cutting point and an actually cut line and then corrects the cutting position at the time of actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ポイントと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

A light shielding film 1b is partially removed to dispose openings 1c for hole pattern transfer and frame-like openings 1d which surround the respective openings 1c in a two-dimensional way on a mask substrate 1a constituting a phase shift mask 1.例文帳に追加

位相シフトマスク１を構成するマスク基板１ａ上に、遮光膜１ｂの一部を除去することで孔パターン転写用の開口部１ｃと、その周囲を平面的に取り囲むように枠状の開口部１ｄとを設けた。 - 特許庁

The method includes preparing a transfer and shift mold 15 having a fine irregular pattern 13 and a metallic thin film 17 adhered to only a protruding part 13a and the vicinity thereof, pressing the mold onto a heated plastic substrate 3 to transfer the fine irregular pattern to the plastic substrate, and shifting the metallic thin film 7 to the plastic substrate side.例文帳に追加

微細凹凸パターン１３を備え凸部１３ａ及びその近傍にのみ金属薄膜１７が付着している転写・転移用モールド１５を用意し、モールドを加熱したプラスチック製基板３に押し付けて微細凹凸パターンをプラスチック製基板に転写すると共に、金属薄膜７をプラスチック製基板側に転移させるようにした。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

While a sheet member 1 mounted with a CCD chip 2 and formed with a left right driving electret pattern 5a is adhered to a board 11 with a left right drive electrode 12a arranged in opposition to the left right driving electret pattern 5a, a CCD shift driver 41 applies a drive pulse and a direction signal to the left right drive electrode 12a.例文帳に追加

ＣＣＤチップ２が搭載され、左右駆動用エレクトレットパターン５ａが形成されたシート状部材１と左右駆動用エレクトレットパターン５ａに対向するようにして配置される左右駆動電極１２ａを有する基板１１と貼り合わせした状態で、ＣＣＤシフトドライバ４１から左右駆動電極１２ａに駆動パルスと方向信号とを印加する。 - 特許庁

To provide a resistor and a circuit board in which error of resistance due to local concentration of current can be suppressed by making the current distribution uniform at the joint of the resistor and a pattern thereby eliminating a shift in current distribution due to local concentration of current at the joint of the resistor and the pattern.例文帳に追加

本発明は、抵抗器とパターンとの接合部に於ける電流分布を均一化し、抵抗器とパターンとの接合部に於ける電流の局部的な集中による電流分布の偏りをなくして、電流の局所集中による抵抗値誤差を低く抑えることができる抵抗器および回路基板を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing color shift due to positional deviation in an image forming part and misregistration between an image on an intermediate transfer body and a sheet to which the image is transferred by enhancing detecting accuracy of a pattern for position detection.例文帳に追加

位置検出用パターンの検出精度を高めて画像形成部での位置ずれに起因する色ずれや、中間転写体上の画像と該画像が転写されるシートとのレジストレーションずれを低減することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having high sensitivity and high resolving power, giving a rectangular photoresist, having good wettability with a developing solution, nearly free from development defects and ensuring a slight dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

高感度及び高解像力で、矩形形状を有するフォトレジストを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写時に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を得る。 - 特許庁

Since the resonant signal consists of a single resonant mode with an axially symmetric radiation pattern, output characteristics of the emitted resonant signal can be used, for example, parallel, dispersive, or with the direction changed by using the phase shift.例文帳に追加

共振信号が、軸対称の放射パターンを有する単一共振モードから成るので、位相シフトを用いることにより、放射される共振信号の出力特性を、例えば平行にし、分散し、方向を変更し、形づくることができる。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask which can be manufactured without complicating the manufacturing processes or increasing the factors of defects, which prevents deterioration in the transfer accuracy caused by unnecessary light reflecting from the photomask surface and which improves the resolution of a transfer pattern.例文帳に追加

製造プロセスを複雑にせず、欠陥の要因を増やさず製造でき、また、フォトマスク面で反射する不必要な光に起因する転写精度の劣化を防止し、転写パターンの解像力を向上させるレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

In other words, the shift which may largely affect a deterioration in picture quality is reduced by simple structure and control (the address change of the dot pattern address) although a highly precise correction is not given, thus the present embodiment can be an effective means.例文帳に追加

言い換えれば、高精度な補正にはならないが、簡単な構成、制御（ドットパターンアドレスのアドレス変更）によって、画質の低下に大きく影響を及ぼすずれを軽減することができるため、本実施の形態は有効な手段ということができる。 - 特許庁

For example, when winning a shift lottery in the game and determining to rotationally turn the reflection mirror 46 to the reflection position by a performance pattern, a driving motor 50 is actuated to turn the reflection mirror 46 from the retreat position to the reflection position.例文帳に追加

例えば遊技中の移行抽選で当たりとなり、演出パターンによって反射ミラー４６を反射位置に回動させることが決定された場合に、駆動モータ５０が駆動して反射ミラー４６が退避位置から反射位置へと回動される。 - 特許庁

Thereafter, when the variable display is stopped by a player through a stop button 271 or the like, when the stop symbols displayed on a prescribed valid line present the specified pattern, the shift is made to a special game status such as a big bonus game advantageous for players.例文帳に追加

そして、遊技者がストップボタン２７１等を介して可変表示を停止した際、所定の有効ラインに表示される停止図柄が特定図柄である場合には、例えばビッグボーナスゲームのような遊技者に有利な特別遊技状態に移行する。 - 特許庁

To provide an image forming device forming a full color image by juxtaposition color mixture of developers, which is capable of preventing a shift between an image carrier and a transfer material generated depending on a print image pattern, which causes image defects such as partially enlarged or reduced images, and image streaks.例文帳に追加

現像剤の並置混色によってフルカラー画像を形成する画像形成装置において、プリント画像のパターンによって、像担持体と転写材とのずれが生じ、部分的な画像の伸びや縮み、画像スジなどの画像不良が発生する。 - 特許庁

To perform such works as replacing a part or adjusting the position efficiently in a short time when a product is inspected or repaired at the time of shipment from a factory by grasping the cause of positional shift easily using a simple test pattern.例文帳に追加

工場出荷時等による点検，修理時等において、簡単な構成のテストパターンを用いて位置ずれの原因を容易に把握できるようにして、部品交換や位置調整等の作業を短時間に、かつ、効率的に行なえるようにする。 - 特許庁

A plurality of gray tone sets of the pixel set are linearly interpolated, with restrictions, from the first and second gray tones, the plurality of gray tone sets, corresponding to a pattern that has shifted by a continuous shift level between the first and second grid positions.例文帳に追加

ピクセルセットの複数のグレートーンセットを、制約付きで第一および第二セットのグレートーンから直線補間し、複数のグレートーンセットは、第一グリッド位置と第二グリッド位置の間で連続的なシフト量だけシフトしているパターンに対応する。 - 特許庁

When the feature extraction means 31 determines the time shift features of the time serial data of the G value, the environment judgment means 32 specifies the environment pattern column of the most approximate feature and judges that operating environment as the present operating environment.例文帳に追加

特徴抽出手段３１がＧ値の時系列データの時間的推移の特徴を求めると、環境判定手段３２は、当該特徴が最も近い環境パターン列を特定し、その使用環境を現在の使用環境と判定する。 - 特許庁

When positional relation between the mark electrodes 24m, 25m and 26m and the rectangular hole 43 is checked after the piezoelectric actuator is laid fixedly onto the cavity plate, positional shift can be detected directly and easily without printing a test pattern.例文帳に追加

このため、圧電アクチュエータをキャビティープレートに積層固定した後、マーク電極２４ｍ，２５ｍ，２６ｍと角孔４３との位置関係を調べれば、テストパターンを印刷しなくても、上記位置ずれ量を容易にかつ直接正確に検出することができる。 - 特許庁

On the intermediate transfer belt 10, a pattern 91 for color slurring detection which consists of a combination of different colors of toner images 91B and 91Y is formed over the entire circumference and a relative position shift between the toner images in a vertical scanning direction is detected.例文帳に追加

中間転写ベルト１０上に、トナー像９１Ｂ，９１Ｙの異なる色の組合せからなる色ずれ検出用のパターン９１を全周に亘って形成し、その互いのトナー像の副走査方向の相対的な位置ずれを検出する。 - 特許庁

A PSK modulator 20 applies digital modulation processing to an RF wave supplied from an RF wave oscillator 22 by phase shift keying (PSK) based on a periodical signal sequence supplied from a pattern generator 24 to generate the continuous wave.例文帳に追加

ＰＳＫ変調器２０は、パターン発生器２４から供給される周期的な信号列に基づいた位相シフトキーイング（ＰＳＫ）により、ＲＦ波発振器２２から供給されるＲＦ波に対してデジタル変調処理を施して連続波を発生する。 - 特許庁

An FSK modulator 20 subjects RF waves fed from an RF oscillator 22 to the digital modulation process, and generates continuous waves by the frequency shift keying (FSK) based on a periodic signal string fed from a pattern generator 24.例文帳に追加

ＦＳＫ変調器２０は、パターン発生器２４から供給される周期的な信号列に基づいた周波数シフトキーイング（ＦＳＫ）により、ＲＦ波発振器２２から供給されるＲＦ波に対してデジタル変調処理を施して連続波を発生する。 - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁

To provide a multicolor image forming apparatus capable of forming a high-quality image free from color shift or color change by constantly and accurately detecting and correcting misregistration even to the change with lapse of time of the position of a sensor which detects a line pattern.例文帳に追加

ラインパターンを検出するセンサ位置の径時的変化に対しても、レジストずれを変わらずに精度よく検出し、補正することにより色ずれや色変わりのない高品位の画像形成を行える多色画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The printing apparatus interpolates the amount of the shift inputted, and determines a position where the line of the pattern for correction shifts in the sub-scanning direction by one pixel as a changing point, conversion information making the position and the changing direction as a set is newly formed.例文帳に追加

印字装置は入力されたずれ量を補間して、補正用パターンの線が１画素分副走査方向にずれる位置を乗り換えポイントして決定し、その位置と乗り換えの方向とを組にした変換情報を新たに生成する。 - 特許庁

A variation pattern determining means changes the target frequency by a change portion according to whether or not the present game state is a probability variable state when the acquired lottery value is a value indicating a shift into a small win game during a special variation mode.例文帳に追加

変動パターン決定手段は、特殊変動モード中において、取得された抽選値が小当たり遊技への移行を示す値となったとき、確変状態に現在なっているか否かに応じた変化分により目標回数を変更する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high resolving power when a bracelet illumination lamp is used, having a broad defocus latitude, less liable to produce a side lobe in pattern formation using a halftone phase shift mask and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a resist pattern of a good shape in which dense and isolated patterns are present in a mixed state and improving such a tendency that isolated patterns become an inverted taper shape particularly to a shift of a focal depth on the minus side.例文帳に追加

密集パターンと孤立パターンの混在した形状のよいレジストパターンが形成可能であり、とくに焦点深度のマイナス側のズレに対して孤立パターンが逆テーパ形状になり易い傾向が改善されたポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

China, in particular, should make a shift in the pattern of growth from an expansion driven by debt overhang, overinvestment, overproduction and brisk exports to one that is led by domestic demand such as consumption, as the government already indicates. In making this shift, attention must be paid to the possibility of a bubble emerging from excessively expansionary macroeconomic policies to stimulate domestic demand. 例文帳に追加

特に中国においては、一方で内需振興のために過度に拡張的なマクロ経済政策をとることによるバブル生成の可能性に留意しつつも、政府自身がすでに方向性を打ち出しているように、過剰債務、過剰投資、過剰生産、輸出ドライブという成長パターンから、消費・内需主導型の成長パターンに移行していくことが重要であります。 - 財務省

The electron beam aligner comprises means 11 for making a decision whether a positional shift is generated or not between a target pattern position and an actual writing position on a writing substrate 14 between start and end of multiplex writing, and means 12 for performing a corrective operation of the writing position during remaining multiplex writing such that the positional shift is cancelled.例文帳に追加

多重描画の開始から終了までの間に発生した描画基板１４上での実際の描画位置と目標パターン位置との位置ずれ量の有無を判定する位置ずれ量判定手段１１と、位置ずれ量を打ち消すように、多重描画に含まれる残りの多重描画の間に描画位置の補正操作を行う補正操作手段１２とを設けた。 - 特許庁

The controller 170 regulates the transmission output of the hydraulic continuously variable transmission 50 by so driving the linear traveling electric motor 151 and the rotating electric motor 161 that the speeds of left and right traveling crawlers are equal to the values obtained from the information detected by a steering position sensor 117 and a main shift position sensor 135 and the transmission output pattern selected according to the operating state of the auxiliary shift lever 14.例文帳に追加

コントローラ１７０は、左右の走行クローラの速度が操向位置センサ１１７及び主変速位置センサ１３５の検出情報と副変速レバー１４の操作状態に対応して選択された変速出力パターンとから得られた値になるように、直進電動モータ１５１及び旋回電動モータ１６１を駆動させて油圧無段変速機５０の変速出力を調節する。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

With the winning of the minor winning combination 1 plus the minor winning combination 2, by the reverse depression of the left stop button at a prescribed timing, the RT pattern for the shift of the game state to the RT can be derived winning neither the minor winning combination 1 or the minor winning combination 2.例文帳に追加

小役１＋小役２に当選しているときは、逆押しで左の停止ボタンを所定タイミングで操作すると、小役１にも小役２にも入賞させずに、遊技状態をＲＴに移行させるＲＴ図柄を導出させることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method wherein sufficient resist residual film is ensured on a shoulder part of a large area resist pattern when an interlayer dielectric is etched and dimension shift after etching is restrained, and a semiconductor device manufacturing system.例文帳に追加

本発明は、層間絶縁膜のエッチング時の大面積レジストパターン肩部においても十分なレジスト残膜を確保してエッチング後の寸法シフトを抑制する半導体装置製造方法および半導体装置製造システムを提供することを課題とする。 - 特許庁

A skilled player, with excellent technique to stop a desired winning pattern on the winning effective line while observing rotating reels, can shift the mode to the AT mode more easily than a beginner player, so that the difference in the skill of players can be reflected in the game.例文帳に追加

回転するリールを観察しながら所望の当選絵柄を入賞有効ライン上に停止させる技量が高い熟練者は、初心者よりもＡＴモードへ移行させやすくすることができるので、遊技者に技量の差をゲームに反映することができる。 - 特許庁