「shift pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A symbol determination means selects a stop symbol pattern of the preparation symbol when the result of lottery winning/failure is failure during a time-shortening game and a prescribed condition for shortening variation shift is met.例文帳に追加

図柄決定手段は、時短中に当否抽選の結果が外れとなり、且つ所定の短縮変動移行条件を満たす場合、準備目の停止図柄パターンを選択する。 - 特許庁

A method for transferring the automobile part is a method for transferring a pattern on a surface of a steering wheel 20 or a shift knob 21 being the automobile part curved in a cubic curved state.例文帳に追加

自動車部品の転写方法は、立体曲面状に湾曲している自動車部品であるハンドル２０あるいはシフトノブ２１の表面に模様を転写する方法である。 - 特許庁

The focus monitor method uses modified illumination to transfer the pattern of a photo mask 5 for phase shift focus monitor to a photo resist 21b on a semiconductor substrate 21a.例文帳に追加

本発明のフォーカスモニタ方法は、位相シフトフォーカスモニタ用フォトマスク５のパターンを、変形照明を用いて半導体基板２１ａ上のフォトレジスト２１ｂに転写することを特徴とする。 - 特許庁

The screen transition class is subclassed according to a screen transition pattern into a pop-up transition class, a pop-down transition class, a shift transition class, a single transition class, and a selection transition class.例文帳に追加

また、画面遷移のパターンに応じて画面遷移クラスをサブクラス化し、ポップアップ遷移クラス、ポップダウン遷移クラス、シフト遷移クラス、単一遷移クラスおよび選択遷移クラスを有する構成とする。 - 特許庁

To shift to the normal position, (S345:NO), a pattern of the demonstration figures to be displayed is selected from among the ordinary figure patterns stored in an ordinary probability figure memory area 52q (S349).例文帳に追加

通常状態とする場合には（Ｓ３４５：ＮＯ）、通常確率図柄記憶エリア５２ｑに記憶された通常図柄パターンの中から表示するデモ図柄のパターンを選択する（Ｓ３４９）。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity, wide defocus latitude when zone illumination is used and hardly generating side lobe when a pattern is formed by using a half-tone phase shift mask.例文帳に追加

高感度で、輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Then block run length data is corrected with drawing data corresponding to a correction amount for correcting a position shift of each block pattern, and drawing processing is executed based upon the block run length data.例文帳に追加

そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。 - 特許庁

To improve the dimensional accuracy of a halftone material film pattern of a halftone type phase shift mask manufactured by using a blank having a laminated structure of the halftone material film and a light shielding film.例文帳に追加

ハーフトーン材料膜と遮光膜との積層構造を有するブランクを用いて製造されるハーフトーン型位相シフトマスクにおけるハーフトーン材料膜パターンの寸法精度を向上する。 - 特許庁

To form a pattern of arbitrary size including a size less than resolution in an arbitrary shape through exposure using one mask realizing phase shift effect.例文帳に追加

位相シフト効果を実現する１枚のマスクを用いた露光によって、解像度程度以下の寸法を含む任意の寸法のパターンを任意の形状について形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a test pattern image for correcting a color shift when applied to an image forming method using toner so controlled as to maintain a color developing or non-color-developing state upon provision with color development information by light; a color shift correction method; and an image forming apparatus.例文帳に追加

光による発色情報の付与により発色または非発色の状態を維持するように制御されるトナーを用いた画像形成方法に適用した場合に、色ずれを補正することができる、テストパターン画像、色ずれ補正方法、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask.例文帳に追加

基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。 - 特許庁

The pattern detection process circuit 3 sends to an LUT circuit, a code corresponding to density information of three pixels in total, namely, a pixel at a main scanning direction position to be recorded in the 600 dpi binary image data, and its upper and lower two pixels, and a vertical scanning shift amount inputted from a vertical scanning registration shift detecting part.例文帳に追加

パターン検出処理回路３は、６００ｄｐｉの２値画像データ内の記録しようとする主走査位置の画素とその上下２画素、あわせて３画素の濃度情報と副走査レジストずれ検出部から入力される副走査シフト量に応じたコードをＬＵＴ回路へ送る。 - 特許庁

To provide an exposure device that detects an amount of a relative position shift between a position where a projection optical system projects an exposure pattern and a detection position of a position detection optical system without moving the position detection optical system on a reverse surface side, and performs exposure with high precision using the amount of the position shift.例文帳に追加

裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影する位置と、位置検出光学系の検出位置との相対的な位置ズレ量を検出し、この位置ズレ量を用いて露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask has a structure where a pattern recognized by a difference in the reflectance depending on the presence or absence of a light shielding layer on a phase shift layer is used as an identification mark of the mask, and the mask is manufactured by the manufacturing method for simultaneously forming the identification mark with other patterns of the light shielding layers.例文帳に追加

位相シフト層上の遮光層の有無による反射率の差に起因して認識されるパターンを当該マスクの識別マークとする構造のハーフトーン型位相シフトマスクであって、識別マークを遮光層のパターンと同時に形成する製造方法により作製する。 - 特許庁

When the change in the polarity pattern of each pixel between frames relating to vertical columns is noticed, the patterns shift to a lower side in the vertical direction in the first column and the third column which are odd numbered column and the patterns shift to the upper side in the vertical direction, conversely from the odd numbered columns in the second column and the fourth column which are even numbered columns.例文帳に追加

フレーム間の各画素の極性パターンの変化は、縦の列について着目すると、奇数列である１列目と３列目は、縦方向下側にシフトし、偶数列である２列目と４列目は、奇数列と逆に、縦方向上側にシフトしたパターンとする。 - 特許庁

A real stuff code generating section 152 shifts the coded data left in a data storage section 102 to the right by a shift number to the right to generate a real stuff code, and a reference stuff code generating section 153 causes the stuff code pattern to be shifted by a shift number to the right, to generate a reference stuff code.例文帳に追加

実スタッフ符号生成部１５２がデータ保持部１０２に残っている符号化データをシフト数だけ右にシフトさせて実スタッフ符号を生成し、参照スタッフ符号生成部１５３がスタッフ符号パターンをシフト数だけ右にシフトさせて参照スタッフ符号を生成する。 - 特許庁

As one example, in the performance mode of a mode A, after the notice performance by the notice pattern of a notice Z is executed, the presence/absence of mode shift and the performance mode to shift to are determined by the determination ratio according to whether a game state is a second probability variable state and the notice storage of the previous time.例文帳に追加

一例として、モードＡの演出モードであるときに、予告Ｚの予告パターンによる予告演出が実行された後には、遊技状態が第２確変状態であるか否かや、前回予告記憶に応じた決定割合で、モード移行の有無や移行される演出モードの決定が行われる。 - 特許庁

To provide a method of producing a phase shift mask by which an etched state of the surface of a quartz substrate as the base is decreased and a rough surface or production of a rough pattern are suppressed when etching of a coating film consisting of a phase shift mask material such as oxide nitride of molybdenum silicon is completed.例文帳に追加

モリブデン−シリコンの酸窒化物のような位相シフトマスク材料からなる被膜のエッチング終了後における下地である石英基板表面のエッチングを低減して表面荒れや凹凸の発生を抑制した位相シフトマスクの製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The detection output of a position shift detection mark is compared with a reference voltage Xm [V] stored in a nonvolatile memory (step S4) and when a difference larger than a specified value is not detected, it can not be known which of the real position shift detection pattern and noise is detected.例文帳に追加

不揮発メモリに記憶されている基準電圧Ｘｍ［Ｖ］と位置ずれ検出マークの検出出力を比較し（ステップＳ４）、所定値以上の差が検出できない場合には、本当に位置ずれ検出パターンを検出したのかノイズを検出したのか分からない。 - 特許庁

To provide a blank for a halftone type phase shift mask, capable of providing a blank improving the size precision of a pattern of a halftone film much higher than before, using a halftone blank structure provided with no light shielding film, and to provide a method for manufacturing the halftone type phase shift mask.例文帳に追加

遮光膜を設けていないハーフトーンブランク構造を用いることにより、従来に比べて格段にハーフトーン膜のパターンの寸法精度を向上させるブランクを提供することができるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

Besides the shift to the mode A triggered by the 2R jackpot and the minor win, the game machine executes a shift to the mode A triggered by a determination of a specific variation pattern (S166 and S167) when the number of winning determinations is ≥101 times (S162:Yes, S164).例文帳に追加

そして、当たり判定の回数が１０１回以上となると（Ｓ１６２：ＹＥＳ、Ｓ１６４）、２Ｒ大当たり及び小当たりを契機としたモードＡへの移行に加えて、特定変動パターンが決定されることを契機としたモードＡへの移行が行われる（Ｓ１６６，１６７）。 - 特許庁

When a region R where the aiming position PT of a laser beam is shifted (an aim shift region) is between the stripe patterns L1 and L2, and when the aim shift region R overlaps the stripe pattern L1, the travelling speed of a head that exits the laser beam is set to be relatively low.例文帳に追加

この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（照準移動領域）ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、レーザ光を出射するヘッド部の移動速度が相対的に低く設定される。 - 特許庁

A circular insulation layer exposing part 5 concentric to the through hole 1 is provided in the inner layer solid pattern 6 and the diameter of the insulation layer exposing part 5 is set equal to the sum of the diameter of the inspection through hole 1 and the shift allowance A of the inner layer solid pattern 6.例文帳に追加

しかも、内層ベタパターン６にスルーホール１と同心の円からなる絶縁層露出部５を設け、絶縁層露出部５の直径は、検査用スルーホール１の直径に内層ベタパターン６のずれ許容量Ａを加えた大きさとなるようにする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed.例文帳に追加

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。 - 特許庁

In the game machine, each of the main controller and the display controller stores the shift amount (change amount) of the variation time made to correspond to a special pattern beforehand and changes the variation time on the basis of the special pattern for the time of the stop display.例文帳に追加

かかる遊技機において、主制御装置及び表示制御装置の各々が、特別絵柄と対応付けられた変動時間のズレ量（変更量）を予め記憶し、停止表示時の特別絵柄に基づいて変動時間を変更する構成とした。 - 特許庁

To surely prevent extension and contraction of a printed pattern and a shift thereof consequent upon a change in a feed speed of a metal web of long lengths, in a continuous printing line wherein a pattern is printed on the surface of the metal web by a gravure printing method, while the metal web is fed in one direction.例文帳に追加

長尺の金属ウエブを一方向へ送りながら、その表面に模様をグラビア印刷法によって印刷する連続印刷ラインにおいて、金属ウエブの送り速度の変動に伴う、印刷模様の柄伸縮や柄ずれを確実に防止する。 - 特許庁

If a shift to the short winning is performed by a shift part 503 based on winning to a first start port while the time shortening game state is set by a setting part 504, a selection part 506 selects the short winning pattern of shorter execution time compared to the short winning pattern used when a normal game state is set among the short winning patterns stored in the storage part 505.例文帳に追加

選択部５０６は、設定部５０４によって時短遊技状態が設定されている際に、移行部５０３によって第１始動口への入賞に基づく短当たりに移行された場合、記憶部５０５に記憶されている短当たりパターンのうち、通常遊技状態が設定されている際に用いられる短当たりパターンに比べて実行時間の短い短当たりパターンを選択する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask 100 having a transparent region 23 and a semitransparent region 24 comprising a phase shift pattern 21a is obtained by pattering a halftone phase shift mask blank 10 prepared by forming a semitransparent layer 21 comprising a metal silicide compound thin film containing zirconium, metal except for zirconium, and silicon, on a transparent substrate 11 consisting of a quartz glass substrate or the like.例文帳に追加

石英ガラス基板等からなる透明基板１１上にジルコニウムと、ジルコニウム以外の金属と、シリコンとを含んだ金属シリサイド化合物薄膜からなる半透明膜層２１を形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス１０をパターニング処理して、透明領域２３と位相シフトパターン２１ａとからなる半透明領域２４とを有するハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

A phase shifter 21 is extended in such a manner that a shifter pattern image 121 produced by illuminating the Levenson phase shift mask having the phase shifter 21 formed thereon and a trim pattern image 131 produced by illuminating a trim mask having a trim pattern 31 formed thereon do not overlap with each other at a position extended in a direction distancing from a gate electrode 11a.例文帳に追加

位相シフタ２１が形成されたレベンソン位相シフトマスクが照明されることで生ずるシフタパターン像１２１と、トリムパターン３１が形成されたトリムマスクが照明されることで生ずるトリムパターン像１３１とが、ゲート電極１１ａから離れる方向へ延長する位置にて互いに重ならないように、その位相シフタ２１を延長する。 - 特許庁

In an address generating section of an arithmetic logic operation section, an address of a semiconductor memory storing a test pattern is generated based on the prescribed calculating equation, this address is sent to a shift register 32 for inputting an address, and a test pattern is written in a semiconductor memory by specifying this address.例文帳に追加

算術論理演算部のアドレス発生部にて、テストパターンを格納すべき半導体メモリのアドレスを所定の演算式に基づいて発生させ、かかるアドレスをアドレス入力用シフトレジスタ３２に送り、このアドレスの指定により半導体メモリにテストパターンが書き込まれる。 - 特許庁

The axis center 4a of a tool 4 is made access to a reference member 30, a reference pattern L is cast on the tool 4 by turning on a laser diode 15 and the shift quantity of the reference member 30 and the tool 4 in X-direction is measured based on the image of the reference pattern L projected on the tool 4.例文帳に追加

ツール４の軸心４ａをリファレンス部材３０に近接させ、レーザダイオード１５を点灯して基準パターンＬをツール４に照射し、リファレンス部材３０およびツール４のＸ方向のずれ量を、ツール４に投影された基準パターンＬの画像に基づいて測定する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting foreign matter, capable of easily and stably separating the fine foreign matter of a micron order bonded to a transparent or translucent substrate having a circuit pattern, especially, a reticle having a phase shift film from the circuit pattern by optically simple constitution to detect the same.例文帳に追加

回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に位相シフト膜を有するレチクル等上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、光学的に簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出できる異物検査装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

With respect to the driving pattern, a type A of a fundamental pattern comprising a bit array indicating drive to turn on or off a liquid crystal element per subfield and types B, C, and D of shift patterns resulting from shifting the phase of the bit array of the type A with four subfields as a unit are prepared for one gradation level.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対し、サブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対し、サブフィールド数の「４」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃ、Ｄとがある。 - 特許庁

To provide a waveform generator which generates an optional waveform pattern whose frequency shift is modulated and which can connect the phases of the beginning and the end of the generated waveform pattern, a signal generator comprising it, a waveform generation method, and a signal generation method.例文帳に追加

周波数偏移変調された任意の波形パターンを発生し、発生した波形パターンの先頭と最後尾の位相を連続させることができる波形発生器及びそれを備えた信号発生装置並びに波形発生方法及び信号発生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

Thus, the deterioration of the correcting accuracy of shift in the superposition caused by the backlash is avoided by avoiding non-coincidence caused by the backlash between a velocity fluctuation pattern detected based on an image for detecting velocity fluctuation and a velocity fluctuation pattern made when forming an image.例文帳に追加

これにより、速度変動検知用画像に基づいて検出された速度変動パターンと、画像形成時に発生する速度変動パターンとの、ガタツキに起因する不一致を回避することで、ガタツキに起因する重ね合わせズレ補正精度の悪化を回避することができる。 - 特許庁

The general control CPU controls the shift of the presentation mode to another presentation mode at a high probability relative to the determination of a variation pattern having a low degree of expectation of a jackpot, when a variation pattern having a high degree of expectation of a jackpot is determined while the presentation mode having a low degree of expectation of the winning probability oscillation exists.例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、確変期待度の低い演出モード滞在中に、大当り期待度の高い変動パターンが決定されたときには、大当り期待度の低い変動パターンが決定されたときよりも高い確率で、別の演出モードに移行させる制御を行う。 - 特許庁

Phase shifting is performed while a plurality of emitting parts emit a pattern having sine wave-shaped contrast distribution by using a sine wave grid phase shift method, and a phase value of emitted light is calculated on the basis of a pattern image photographed by a plurality of photographing parts while synchronizing with the phase shifting.例文帳に追加

正弦波格子位相シフト法を用いて、複数の照射部より正弦波状の明暗分布を持つパターンを照射しながら位相シフトさせ、その位相シフトに同期させて、複数の撮影部で撮影したパターン画像をもとに照射光の位相値を計算する。 - 特許庁

A method of manufacturing a photomask comprises: a step S12 of preparing a half-tone-type phase shift mask on which a mask pattern is formed; and a step S15 of forming a light-shielding frame by selectively applying a light-shielding material onto a region around the region in which the mask pattern is formed.例文帳に追加

実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、マスクパターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクを用意する工程Ｓ１２と、マスクパターンが形成された領域の周囲の領域に選択的に遮光材を塗布して遮光枠を形成する工程Ｓ１５とを備える。 - 特許庁

At the time of a test, a program data set circuit 15 can write a test pattern to the memory cell array 14 without passing through the shift register 12 by outputting set signals SA0, SA1 making forcedly the data latch circuit 13 a set state to the data latch circuit 13, and a transfer time of a test pattern can be omitted.例文帳に追加

テスト時に、プログラムデータセット回路１５は、データラッチ回路１３を強制的にセット状態にするセット信号ＳＡ０,ＳＡ１をデータラッチ回路１３に出力することによって、シフトレジスタ１２を介さずにテストパターンをメモリセルアレイ１４に書き込みでき、テストパターンの転送時間を省ける。 - 特許庁

An area to which shift matching is performed is decided by using an original image storage means, pattern string arrangement information storage means and a dictionary storage means, a matching processing is performed in the area as shifting it by using stored dictionaries, a maximum value extraction processing and a pattern string generation processing using all dictionaries are performed.例文帳に追加

原画像蓄積手段とパターン列配置情報蓄積手段と辞書蓄積手段とを用い、ずらしマッチングを行う領域を決定し、蓄積辞書を用いて、上記領域内をずらしながらマッチング処理し、全辞書を用いた極大値抽出処理とパターン列生成処理とを行う。 - 特許庁

To provide a flaw inspecting device capable of detecting the pattern shift of an inspection substrate only on the basis of a part of excellent article pattern data, dispensing with even the estimate position data of the whole surface of an inspection region and capable of suppressing data to a necessary minimum amount, and a flaw inspecting method.例文帳に追加

一部の良品パターン情報のみで、検査基板のパターンずれの検出を可能とし、検査領域全面の予測位置情報も必要なく、必要最小限の情報量に抑えることが可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

The slot machine includes a stop control means for controlling the stop of a rotary reel, an operation order storage means for storing an operation order actually operated for a stop switch, and a display combination determination means for determining whether or not a shift pattern combination is displayed in a pattern display window.例文帳に追加

スロットマシンは、回転リールの停止制御を行う停止制御手段と、ストップスイッチについて現実に操作された操作順序を記憶する操作順序記憶手段と、図柄表示窓に移行図柄組み合わせを表示しているか否かを判定する表示組み合わせ判定手段と、を備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolving power in the production of a semiconductor device, having a rectangular shape, ensuring low edge roughness of a line pattern and causing a small size shift, in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度であって高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁