「shift pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μｍ以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

The specified position for performing clock correction is varied arbitrarily in the subscanning direction, and the variation pattern is controlled to be insensitive to the visual characteristics of human being in order to realize good positional correction generating no low frequency noise, thus preventing failure of image due to shift in the irradiating position of laser.例文帳に追加

クロック補正をおこなう所定箇所を、副走査方向に対して任意に変化させ、その変化のパターンが人間の視覚特性に感度の低い様に制御をおこなうことで，低周波ノイズの発生しない良好な位置補正を実現し、レーザーの照射位置のズレによる画像不良を防止する。 - 特許庁

To provide a photomask blank which can reduce the film thickness of a resist to effectively enhance the resolution of a mask pattern, can reduce a loading effect during dry etching, can reduce a shift amount of the mask dimension from the resist dimension, and can reduce the number of mask manufacturing processes, and to provide a photomask manufactured by using the blank.例文帳に追加

マスクパターンの高解像度化に効果的なレジストの薄膜化が可能で、ドライエッチング時のローディング効果が低減され、レジスト寸法からのマスク寸法のシフト量の低減が図れ、マスク製造工程数の削減が図れるフォトマスクブランクスおよびそのブランクスを用いて製造したフォトマスクを提供する。 - 特許庁

By displaying the measurement result of pattern shape by divided signal waveforms (bottom width of the final shape 703, resist bottom width by exposure 704, the amount of etching shift 705, and etching tilt angle component706), users can easily comprehend how much of which component changes in the total changes.例文帳に追加

特に、パターン形状の計測結果を、分割された信号波形ごとに表示（最終形状のボトム幅７０３、露光による、レジストボトム幅７０４、エッチングシフト量７０５、エッチング傾斜角成分７０６）することで、形状全体の変動のうち、どの成分がどのように変動したのかを容易に確認できるようにする。 - 特許庁

A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.例文帳に追加

二次元レイアウト決定装置１０により、同一サイズ（Ｗｘ×Ｗｙ）の複数の開口窓を有するパターン１１を決定し、三次元構造決定装置２０により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を１８０°シフトするため、深さｄ、アンダーカット量Ｕｃをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁

The main and sub-trigger signals of timing suitable for the maximum writing density and a given test pattern are generated so as to enable operations of a writing test mode such as the color shift or the like, using the period other than the transfer time of the print output image from the copy application board, to transfer the generated patterns to the LDBs adapting the patterns to the trigger signals.例文帳に追加

又コピーアプリからの印刷出力画像の転送時以外の期間を利用し、色ずれ等の書き込みテストモードの動作を可能にすべく、最大書き込み密度に適合するタイミングの主副トリガ信号、所定のテストパターンを生成し、生成したパターンをトリガ信号に合わせ込んでＬＤＢに転送する。 - 特許庁

To offer a thin film transistor(TFT) and a display unit which enable screen display with uniform brightness by avoiding defects such as bright spot, which occur when pattern shift is caused by a second gate electrode which restrains variations in threshold voltage resulting from polarization in a flattened film or an interlayer dielectric caused by moisture or impurity ions.例文帳に追加

水分あるいは不純物イオンによって平坦化膜又は層間絶縁膜の分極の発生による閾値電圧の変化抑制のための第２ゲート電極がパターンずれを起こした際の発生する欠点を抑制し、面内で均一な明るさの表示が得られるＴＦＴ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

In the identifying information stop game, the stop pattern of the second identifying information is altered depending on whether the probability state immediately before the preceding shift to the jackpot game is in the normal mode or not and whether the dropping lottery is hit after the end of the jackpot game.例文帳に追加

そして、該識別情報停止ゲームでは、前回の大当たり遊技に移行する直前の確率状態が通常モードであるか、或いは確変モードであるかの条件、大当たり遊技が終了した後に転落抽選に当選したか否かの条件に応じて、第２識別情報の停止パターンが変更される。 - 特許庁

For example, a forming pattern of a projection 50 is projected in the horizontal direction along a light-receiving pixels bound from a clock wiring 46 disposed on a channel stop 42 separating perpendicular CCD shift resistors of an imaging part of a frame transferring-type CCD image sensor, and is symmetrized in the upper-lower and right-left directions relative to a center 52 of the imaging part.例文帳に追加

例えば、フレーム転送型ＣＣＤイメージセンサの撮像部の垂直ＣＣＤシフトレジスタ間を分離するチャネルストップ４２上に配置されるクロック配線４６から受光画素境界にて水平方向に延在される突起部５０の形成パターンを撮像部の中心５２に対して上下左右対称とする。 - 特許庁

To provide an embossing apparatus capable of increasing the embossing degree of the embossed shapes of a sheet-like material to which embossing is applied, capable of more sharpening the embossed pattern of the sheet-like material as a result and capable of suppressing the positional shift between the respective embossed shapes.例文帳に追加

エンボス加工が施されたシート状材料の凹凸形状の凹凸の度合いをより大きくすることができ、その結果シート状材料の凹凸模様をより鮮明なものとすることができ、さらに、各凹凸形状間に位置ズレが生じることを抑止することができるエンボス加工装置を提供すること。 - 特許庁

An operation game determination means 140 decides whether or not to shift one of performance processes in a first ready-to-win variation pattern wherein the plurality of performance processes for making a player expect shifting to a special game by the variable display of decorative patterns are defined to an operation game selectable by an operation by the player.例文帳に追加

操作遊技判定手段１４０は、装飾図柄の変動表示により特別遊技への移行を遊技者に期待させる複数の演出過程が定義された第１リーチ変動パターンにおけるいずれかの演出過程を遊技者の操作により選択することができる操作遊技へ移行するか否かを決定する。 - 特許庁

When the operation is made to shift to the following game while the second reel 51 is operated according to the specified operation pattern, the second reel control means 85b halts the operation of the second reel 51 and carries out a control to maintain the stop position for a specified time beyond the reference time while the second reel 51 is stopped once.例文帳に追加

第２リール制御手段８５ｂは、特定動作パターンに従って第２リール５１を動作させている間に次遊技に移行するための操作が行われたときは、第２リール５１の動作を中止し、第２リール５１を一旦停止させるとともに、その停止位置を基準時間を超える特定時間維持するように制御する。 - 特許庁

A position judgment device comprises a position sensor 14 to generate a continuous output value accompanied by the operation of a shift operation member for selecting a range of a power train, and a position judgment processing means to judge the position to perform each control by comparing the output value with a position judgment pattern optionally set for each control.例文帳に追加

パワートレインのレンジを選択するためのシフト操作部材の操作に伴って連続的な出力値を発生させるポジションセンサ１４と、前記出力値と各制御ごとに任意に設定されたポジション判断パターンとを比較して、前記各制御を行うポジションを判断するポジション判断処理手段とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method to suppress roughening or production of a rugged pattern on the surface of a substrate of a halftone phase shift mask consisting of a single layer film of a translucent light shielding layer comprising one of metal-silicon oxide, metal-silicon nitride and metal-silicon oxynitride or consisting of a multilayer film comprising a transparent layer and a light shielding layer.例文帳に追加

金属−シリコンの酸化物、金属−シリコンの窒化物、金属−シリコンの酸化窒化膜のいずれかからなる半透明遮光層の単層膜、もしくは透明層と遮光層からなる多層膜で構成するハーフトーン型位相シフトマスクの基板表面の荒れや凹凸の発生を抑制した製造方法を提供すること。 - 特許庁

The controller 170 regulates the transmission output of the hydraulic continuously variable transmission 50 by so driving the linear traveling electric motor 151 and the rotating electric motor 161 that the speeds of left and right traveling crawlers are equal to the values obtained from the information detected by a steering position sensor 117 and a main shift position sensor 135 and the transmission output pattern.例文帳に追加

コントローラ１７０は、左右の走行クローラの速度が操向位置センサ１１７及び主変速位置センサ１３５の検出情報と、変速出力パターンとから得られた値になるように、直進電動モータ１５１及び旋回電動モータ１６１を駆動させて油圧無段変速機５０の変速出力を調節する。 - 特許庁

This free cell generating circuit is composed of a 53-octet timing counter 2 of 53 cycles for counting the timing of an asynchronous transfer mode(ATM) cell, a gate circuit 4 for generating four kinds of timing signals from the output of 6 bits from the 53-octet timing counter 2, and a shift register 3 for converting the free cell pattern of 8 bits from parallel data to serial data.例文帳に追加

空きセル生成回路は、ＡＴＭセルのタイミングカウントを行う５３周期の５３オクテットタイミングカウンタ２と、５３オクテットタイミングカウンタ２の６ビットの出力から４種類のタイミング信号を生成するゲート回路４と、８ビットの空きセルパターンをパラレルデータからシリアルデータに変換するシフトレジスタ３とにより構成する。 - 特許庁

The curve amount of the image formation line in the main scanning line direction is calculated, on the basis of a mark-pattern formed in three parts different from one another in the main scanning line direction of an intermediate transfer belt 20, and color shift in a subscanning line direction is corrected, on the basis of the curve amount of the image formation line in the main scanning line direction.例文帳に追加

中間転写ベルト２０の主走査線方向の互いに異なる３箇所に形成されたマークパターンに基づいて、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量を算出し、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量に基づき、副走査線方向の色ずれ（レジスト）補正を行う。 - 特許庁

The SBW-ECU 31 therefore supplies a proper current to the motor 33 in accordance with the shift range selecting pattern for the automatic transmission 60, thereby reducing the power consumption of the motor 33 without generating excessive driving force from the motor 33, and reducing load on a driving force transmission part 70 and the automatic transmission 60.例文帳に追加

そのため、自動変速機６０のシフトレンジの切換パターンに応じてＳＢＷ−ＥＣＵ３１がモータ３３へ適切な電流を供給することにより、モータ３３における消費電力が低減されるとともに、モータ３３からは過剰な駆動力が発生せず、駆動力伝達部７０および自動変速機６０に加わる負荷を低減することができる。 - 特許庁

The method for exposure includes a process of first exposure by using a chromium mask 1 having a shading region 11 as a two-dimensional random pattern and a process of second exposure by using a chromium-free phase shift mask 2 having a part 15 of the phase shifter edge 16 of the phase shifter 20 in the position corresponding to the shading region 11.例文帳に追加

二次元ランダムパターン形状である遮光領域１１を有するクロムマスク１を用いて第１の露光を行う工程と、遮光領域１１に対応する位置に位相シフタ２０の位相シフタエッジ１６の一部１５を有するクロムレス位相シフトマスク２を用いて第２の露光を行う工程とを備えることによって上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for fabricating an integrated circuit on a semiconductor wafer preferably comprises a step for designing a reticle including a pattern composition member having relatively small critical dimensions in order to form a corresponding circuit composition member based on an overlapped region formed using a plurality of exposing steps, through shift, such that the circuit composition member has relatively small necessary critical dimensions.例文帳に追加

好適には、上記方法は、下記のステップ、すなわち、回路構成部材が、必要な、比較的小さな臨界寸法を持つように、その間のシフトにより、複数の露出ステップを使用して形成した重畳領域に基づいて、対応する回路構成部材を形成するために、臨界寸法を持つパターン構成部材を含むレティクルを設計するステップを含む。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

A shift frame 34 is formed in the vicinity of the 1st frame 35, and when a rod pattern is detected from the prescribed number of long frames, continuously read picture data corresponding to the prescribed number of frames are collected as one data group, a numeral string is formed from numerals judged from respective frames and compared with a prescribed character code table to allocate a character or a code.例文帳に追加

第１マスの近傍にシフトマス３４を設け、複数列の長マスの所定数から棒状パターンが検出されると、続けて読み込まれる画像データを対応所定数列分まとめて一データ群とし、各列から判定された数字により数字列を形成し、所定の文字コード表と比較して文字や記号を割り当てる。 - 特許庁

The phase shift mask is provided with a shielded region having a line pattern formed therein and first and second transparent regions disposed on both sides of the shielded region on a substrate transparent to irradiated light, wherein a phase shifter is formed below the first transparent region and a side wall of the phase shifter has a curved portion convex to the outside.例文帳に追加

照射光に対して透明な基板上に、ラインパターンが形成された遮蔽領域と、前記遮蔽領域の両側にそれぞれ配置された第一の透明領域および第二の透明領域とを有し、前記第一の透明領域の下方には位相シフタが形成されており、前記位相シフタの側壁が、外側に凸の湾曲部を有している位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a fixed pattern section in a transmission frame, a modulator input in-phase component (or modulator input quadrature component) corresponding to an input in-phase component (or quadrature component) is input into a phase control circuit via a comparator to detect a phase shift, and information about the phase difference is input into a phase shifter to correct the phase of the carrier wave.例文帳に追加

送信フレーム内の固定パターン部において、入力同相成分（または直交成分）と対応する変調器入力同相成分（または変調器入力直交成分）をコンパレータを介して位相制御回路に入力して、位相のずれを検出し、当該位相のずれの情報を移相器に入力して搬送波信号の位相補正を行なう。 - 特許庁

During a shift mode of a scanning test, selectors SEL1-SEL3 select the path of inputting an input signal for a test pattern of a macro cell 23 from data input terminals 41-43 and supplying it to the macro cell 23, and test signals for scan path inputted from scan input terminals 44 are supplied to registers FF1-FF6 for scan path arranged in a user logic circuit.例文帳に追加

スキャンテストのシフトモード時において、セレクタＳＥＬ１〜ＳＥＬ３は、データ入力端子４１〜４３からマクロセル２３のテストパターン用の入力信号を入力してマクロセル２３に供給するパスを選択すると共に、スキャン入力端子４４から入力されるスキャンパス用のテスト信号がユーザ論理回路中に配されるスキャンパス用レジスタＦＦ１〜ＦＦ６へ供給される。 - 特許庁

An amplifier means 104 and an impedance conversion circuit 105 are formed in the same IC chip, at least a matching circuit 106, a power supply means 107 and a phase shift circuit 108 are configured in a laminated body composed of an electrode pattern and a dielectric layer, and at least the IC chip and a SAW filer are mounted on the laminated body.例文帳に追加

増幅手段１０４およびインピーダンス変換回路１０５を同一のＩＣチップ内に形成するとともに、少なくとも整合回路１０６、電源供給手段１０７および移相回路１０８を電極パターンと誘電体層とからなる積層体内に構成し、前記積層体上に少なくとも前記ＩＣチップおよびＳＡＷフィルタを搭載して構成したものである。 - 特許庁

The production method includes a process of forming a film consisting of any of an oxide of molybdenum silicon, nitride of molybdenum silicon, oxide nitride of molybdenum-silicon, nitride of silicon and oxide nitride of silicon on a quartz substrate, and a process of forming a phase shift mask pattern by reactive ion etching to selectively etch and remove the film by using an etching gas containing gaseous chlorine.例文帳に追加

石英基板上にモリブデン−シリコンの酸化物、モリブデン−シリコンの窒化物、モリブデン−シリコンの酸窒化物、シリコンの窒化物およびシリコンの酸窒化物のいずれかからなる被膜を形成する工程と、前記被膜を塩素ガスを含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより選択的にエッチング除去することにより位相シフトマスクパターンを形成する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

This high frequency composite switch module correspondable to at least two different communication systems has a configuration in which at least first and second low-pass filters, first and second phase shift lines and a filter circuit are constructed in a laminated body composed of an electrode pattern and a dielectric layer, and at least a FET switching means and first and second SAW filters are mounted on the laminated body.例文帳に追加

本発明は、少なくとも２つの異なる通信システムに対応可能な高周波複合スイッチモジュールであって、少なくとも第１および第２のローパスフィルタ、第１および第２の移相線路およびフィルタ回路を電極パターンと誘電体層とからなる積層体内に構成し、積層体上に少なくともＦＥＴスイッチ手段、第１および第２のＳＡＷフィルタを搭載した構成を有する。 - 特許庁

Based on a development type advance notice pattern at an advance notice selection processing (step S717), the performance display in a performance mode suggesting the shift to the subsequent process and the performance display in a performance aspect suggesting the way of development after the execution of the performance display in a given process are made executable.例文帳に追加

予告選択処理（ステップＳ７１７）にて決定された発展式予告パターンにもとづいて、次の過程への移行を示唆する演出態様の演出表示と、所定の過程の演出表示の実行後における展開態様を示唆する演出態様の演出表示と、が実行可能であることにより、これら複数の演出態様のうちいずれの演出態様が演出表示されるかを予測することが困難となり、遊技者に演出内容を注目させることができる。 - 特許庁

In a report on government activities presented to a meeting of the National People’s Congress in March 2006, the Chinese Government said its economy expanded further while people’s livelihood improved under the 10th five-year plan (2000 - 2005). But the Government also said a host of problems and contradictions exist in China. First, a shift of economic growth pattern has been delayed in China due to its irrational economic structure, resulting in an increase in energy consumption and worsening environmental pollution to serious levels. Second, relations between investment and consumption have been imbalanced, according to the report. And thirdly, the report said, income gaps have been expanding between households in urban areas and households in rural areas, between households in one region and households in other regions and between households in a region and other households in the same region.例文帳に追加

2006年３月の全人代で行われた「政府活動報告」においては、第10次５カ年計画（2000年～2005年）期間において、経済力が一層高まり、生活は改善されているとしながらも、①経済構造が合理的でなく、経済成長パターンの転換が遅れ、エネルギー消費が多く、環境汚染が深刻化、②投資と消費の関係のバランスが取れていない、③都市部と農村部や地域間の発展の格差及び一部社会構成員の間の収入格差が拡大しつつある、等の矛盾や問題が存在しているとしている。 - 経済産業省