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step widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 743件
A manufacturing method of a product with a tooth profile successively performs an upsetting step of upsetting a rough tooth profile 62 of a work, and an ironing step of ironing a tooth width surface 63 and an outside diameter surface 64 of the rough tooth profile 62 by an ironing unit 31 formed on a die 3 when performing the knock-out of the rough tooth profile 62.例文帳に追加
本歯形付き製品の製造方法は、粗材の粗歯形62を据込加工する据込工程と、該粗歯形62のノックアウト時に、金型3に形成されたしごき部31によって該粗歯形62の歯幅面63及び外径面64のしごき加工を行うしごき工程とを順次行うことを特徴とする。 - 特許庁
A method for computed tomography includes a step of determining a channel position Ch on an X-ray detector 52 corresponding to a linear path 51 passing through a back projection pixel from an X-ray source 50 and a step of determining an interpolation kernel width ΔCh by the distance from the X-ray source 50 to the back projection pixel Ch.例文帳に追加
コンピュータ断層撮影方法は、X線源50から逆投影画素を通る線形経路51に対応するX線検出器52上のチャンネル位置Chを決定する段階と、X線源50から逆投影画素Chまでの距離から補間カーネル幅ΔChを決定する段階とを有する。 - 特許庁
The step 21 is extended in the opening form one side section in approximately the same size as the set height of a stage 15 laid extending over the wall surface of a large- scale bonnet 14 at the rear section of the frame, and has expansion-contraction structure with an auxiliary step 22 in which left-right width in the opening is changed in a freely expansible and contractible manner.例文帳に追加
前記ステップ(21)は前記フレーム(11)の後部に大型ボンネット(14)の壁面(14a,14b) にわたって敷設されたステージ(15)の設定高さと略同じ寸法で一側部から前記間隙内に延設されており、同間隙内の左右幅を拡縮自在に変化させる補助ステップ(22)を有する拡縮構造を備えている。 - 特許庁
Quarter wavelength transformers 4 and 5 are set to different widths corresponding to the power distribution ratios, and a connecting step 9 caused by the different line widths is set in a state where the step 9 is shifted to the output-side strip line 2 side within the range of the one-side line width of the input-side strip line 1 from the center line 6 of the line 1.例文帳に追加
4分の1波長の変成器4、5は、電力分配比に見合った異なる幅に設定され、異なる線路幅による接続段差9が入力側ストリップ線路1の中心線6から入力側ストリップ線路1の片側線路幅の範囲で出力側ストリップ線路2側へずれて設定されている。 - 特許庁
The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加
プリント配線板の製造方法が、30wt%以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること(ステップS11)と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること(ステップS12)と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること(ステップS14)と、を含む。 - 特許庁
The process for fabricating a ridge type semiconductor laser comprises a step for forming a structure of a plurality of semiconductor layers including an active layer on a substrate, a step for forming a first electrode having a width narrower than that of the multilayer structure on the surface thereof, and a step for forming a ridge structure by etching the multilayer structure using the first electrode as a mask.例文帳に追加
本発明による製造方法は、基板上に活性層を含む複数の半導体層を積層して積層構造を形成する積層構造形成ステップと、その積層構造の表面において、積層構造よりも狭い幅を有する第1の電極を形成する第1電極形成ステップと、第1の電極をマスクとして積層構造をエッチングし、リッジ構造を形成するリッジ構造形成ステップとを含む。 - 特許庁
A bypass valve is fully opened and simultaneously a rotational frequency of a primary pump is maximized (step 203), when the deviation (ΔPpv-ΔPsp) from a set differential pressure ΔPs of a differential pressure between headers ΔPpv exceeds an allowable width ΔPw.例文帳に追加
ヘッダ間差圧ΔPpvの設定差圧ΔPspからの偏差(ΔPpv−ΔPsp)が許容幅ΔPwを超えた場合(ステップ202のYES)、バイパス弁を全開とすると同時に1次ポンプの回転数を最大とする(ステップ203)。 - 特許庁
In the second machining step, a helical area molding part 20H corresponding to a helical area continuously provided in a face width direction of the gear area is machined by the tool 30 inserted from the second opening A2 of the mold material 20M.例文帳に追加
次に、第2加工ステップにおいて、金型材料20Mの第2開口A2から挿入した工具30によって、ギヤ領域の歯幅方向に連設されるヘリカル領域に対応するヘリカル領域成形部20Hを切削加工する。 - 特許庁
Adjustment of a width and a height of the small hole 6 in the two-step structuring hole allows a spacing to be provided between the distal end 9 of the vessel and the bottom face of the small hole 6, and the hole of the lumber 2 is mounted with a top with which an opening/closing size is freely adjustable.例文帳に追加
さらに二段構造穴の小穴6の幅と高さを調整して、容器の先端9と小穴6の底面とに少し隙間を設けるとともに、木材2の穴には開閉量を自由に調節できる蓋4を設ける。 - 特許庁
The runner part of a runner 10 is inserted from the cutout part 19, and a cutout closing member 22 with width enlarging step part matching the outside dimensions of the cutout part 19 is fitted to the cutout part 19 and fixed the upper frame 14 with screws.例文帳に追加
この切欠部19からランナ10のランナ部を挿入し、この切欠部19の外形寸法に合致した拡幅段部付き切欠閉鎖部材22を切欠部19に嵌合してビス等で上枠14に固着させる。 - 特許庁
A part made of a material and having a pattern, a color, and a shape which differ from those of a basic member in most parts of a tread 1 is provided as a mark 2 showing the optimum walking position in the direction of width on the right and left sides of the tread 1 on a step face of each tread 1 on the stairs.例文帳に追加
階段の各踏み板1の踏み面に踏み板1の左右幅方向における最適歩行位置を示す目印2として踏み板1の大部分の基材とは異なる材料、柄、色、形状等の部分を設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor substrate capable of preventing the deterioration of the carrier mobility resulting from the surface unevenness on the surface thereof by controlling the direction and the width of an atomic level step/terrace on the semiconductor substrate surface, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加
半導体基板表面上で原子レベルのステップ/テラスの方向と幅を制御し、その表面上に表面凹凸起因のキャリア移動度劣化を抑制できる半導体基板および半導体装置を提供する。 - 特許庁
If the resistance value is smaller than a design value, a step is carried out to increase the resistance value of the polysilicon resistor 1 by making a correction to narrow down the width of polysilicon (silicide block region 1a) without changing the position of the contact 3.例文帳に追加
抵抗値が設計値よりも小さい場合には、コンタクト3の位置を変更せずに、ポリシリコン(シリサイドブロック領域1a)の幅を狭める補正を行うことによって、ポリシリコン抵抗1の抵抗値を増大させる工程を行う。 - 特許庁
At a step S406, the positions of the 'deep valleys' are computed, the relative positions of valleys in the width of the integral waveform are computed from the computed positions of the valleys, and a character is recognized from the computed relative positions of the valleys.例文帳に追加
ステップS406において、谷パターンが「深い谷」である谷の位置を算出し、算出した谷の位置から、積分波形の幅における谷の相対位置を算出し、算出した谷の相対位置によって、文字を認識する。 - 特許庁
To provide a side step device of a working machine, constituted to allow the width of outward projection thereof to be enlarged according to a request by different usage, standard, etc., have a small amount of downward protrusion, and be advantageous from the viewpoint of strength.例文帳に追加
異なる用途、規格等による要求に応じて外方への突出幅の拡大化が図れると共に、下方への突出量も少なく、強度の面においても有利となる構成の作業機のサイドステップ装置を提供する。 - 特許庁
The method includes a step for operating one or more devices so as to establish at least one positive current path and at least one negative current path that pass through the actuator by way of a pulse width modulation control.例文帳に追加
この方法は、パルス幅変調制御を介してアクチュエータを通る少なくとも1つの正電流経路及び少なくとも1つの負電流経路を確立するように1つ又は複数のデバイスを操作するステップを含む。 - 特許庁
The smoothing distance (effective width of population of smoothing) of smoothing processing at such a time is set to nearly agree with phase displacement made in the photoelectric conversion signal caused by the layer interval or step interval of the surface of the sample to be inspected.例文帳に追加
このときの平滑化処理の平滑化距離(平滑化の母集団の実効幅)は、検査試料の表面の層間隔または段差間隔によって光電変換信号に生じる位相変位と略一致するように設定される。 - 特許庁
A projecting part 3a is formed on a lower shield layer 3 corresponding to the read track width W and a step is formed on an insulating layer 5 between the area where an AMR element 6 is formed and the area where the lead-out electrode layer 8 is formed.例文帳に追加
読み取りトラック幅Wに対応して下部シールド層3に凸部3aを形成し、AMR素子6が形成される領域と、引き出し電極層8が形成される領域との間の絶縁層5に段差を形成する。 - 特許庁
Then next, in a laser intensity adjustment step, by reducing the laser intensity, the peak value is lowered in the Gaussian distribution of the laser intensity, and the laser intensity is set which is necessary and sufficient for abrasion machining in the range of the machining width radius w.例文帳に追加
そして次に、レーザー強度を低減させ、レーザー強度のガウス分布において、ピーク値を低下させ、加工幅半径wの範囲におけるアブレーション加工に必要十分なレーザー強度を設定する(レーザー強度調節ステップ)。 - 特許庁
When cells are searched, asynchronous detection is performed in intervals of prescribed frequency step width Fstep to prescribed search frequency ranges Fini-Fend, and a reception signal level RSSI at each frequency is measured.例文帳に追加
セルサーチを行なう際、まず所定の捜索周波数範囲(Fini〜Fend)に対して所定の周波数ステップ幅Fstep間隔で非同期検波を行なって各周波数における受信信号レベル(RSSI)の測定を行なう。 - 特許庁
The trailing step has integrally a base 60 having a prescribed width along a first direction X positioned at the flow-out end side of the slider, a projection 62 formed at the flow-in end side of the slider along the first direction from the base.例文帳に追加
トレーリングステップ部は、第1方向Xに沿った所定の幅を有しスライダの流出端側に位置したベース部60と、ベース部から第1方向に沿ってスライダの流入端側に突出した突出部62と、を一体に有している。 - 特許庁
Therefore, a space 14 is formed between the battery case 26 and a left side cover 12, and by using the space 14, a main step for getting in/out is provided on the left side cover 12 so as to be stored within the vehicular width.例文帳に追加
このことによって、バッテリケース26と左サイドカバー12との間には、スペース14が形成されるることになり、このスペース14を利用して左サイドカバー12には乗降用のメインステップが車幅内に納まるように構成される。 - 特許庁
To provide a method for reducing an edge seam of ultralow carbon steel by which the edge seam can be reduced even when the temperature is dropped below the Ar_3 transformation point when a slab corner part is at a first stage of the width press to the rough rolling, and a continuous casting step is not affected.例文帳に追加
スラブコーナ部が幅プレス〜粗圧延前段においてAr_3変態点温度を下回ってもエッジシームを削減でき、連続鋳造工程にも影響しない極低炭素鋼のエッジシーム削減方法を提供する。 - 特許庁
Claw magnetic poles each have a step shape having a tapered width of a rotational direction in a distal end, and have a region in which one claw magnetic pole of the two adjacent magnetic poles overlaps on the other claw magnetic pole of the rotational direction of a rotor.例文帳に追加
爪磁極は、回転方向の幅が先端に至る程順次小さくなる階段形状を有し、隣り合う2つの爪磁極のうち一方の爪磁極がロータの回転方向で他方の爪磁極と重なる領域を有する。 - 特許庁
On the other hand, a step flow growth is smoothly developed on the crystal growth surface with a width L located between the stripes thanks to setting of an appropriate off angle θ(:θ^2=θ_1^2+θ_2^2), thereby permitting a high-quality and flat growth layer 2.例文帳に追加
一方、各ストライプの間に位置する幅Lの結晶成長面では、良好なオフ角θ(:θ^2 =θ_1 ^2 +θ_2 ^2 )の設定によりステップフロー成長が順調進むため、良質かつ平坦な成長層2が得られる。 - 特許庁
After luminescent spot search for the pixels of one line of the luminance detection image data is terminated, luminescent spot search for a line separated by the discrete step width h from the line that was a target of luminescent spot search until then is executed.例文帳に追加
輝度検出画像データの1行分の画素に対する輝点検索が終了した後は、それまで輝点検索の対象であった行から離散ステップ幅hだけ離れた行に対する輝点検索を実行する。 - 特許庁
The target mode pressure Pm indicates line pressure raising width obtained by the pilot valve, line pressure estimation value PLe is calculated by adding the target mode pressure Pm and the actual secondary pressure Ps` (step S15).例文帳に追加
この目標モード圧Pmは前述したパイロット弁によって得られるライン圧の引き上げ幅を示しており、この目標モード圧Pmと実セカンダリ圧Ps’とを加算することによってライン圧推定値PLeが算出される(ステップS15)。 - 特許庁
Next, the difference in film thickness between a thin film formed, without installing the film thickness correction guide rod 8 and a thin film formed by installing only a piece of the film thickness correction guide rod 8, i.e., the width of decrease in the film thickness is measured (step S3).例文帳に追加
次に、膜厚補正ガイド棒8を設置することなく形成された薄膜と、膜厚補正ガイド棒8を1本だけ設置して形成した薄膜との膜厚の差、すなわち、膜厚の減少幅を測定する(ステップS3)。 - 特許庁
Then, the image processing unit sets a new area, including the position of the highest degree of correlation and areas to the right and left of the position as a search area (S36), updates the variable n for deciding the step width for the search (S37), and repeats the above processings.例文帳に追加
次に、相関度が一番高い位置とその左右の領域を含む新たな領域を探索領域として設定し(S36)、探索のステップ幅を決定するための変数nを更新して(S37)上述の処理を繰り返す。 - 特許庁
In a step for forming the transmitting zone, after forming the light-shielding part, the transmissive part and the semi-transmissive part, then the transmitting zone having a width equal to or smaller than the resolution limit of the exposure apparatus is formed in the boundary of a light-shielding film and a semi-transmissive film by zapping.例文帳に追加
この透過帯を形成する工程は、遮光部、透光部及び半透光部形成後に、ザッピングによって遮光膜と半透光膜の境界部に露光装置の解像限界以下の幅を持つ透過帯を形成する。 - 特許庁
A step part 21f is formed on an outer peripheral surface 21d and has a prescribed width w in the sliding direction of the spool valve 21 from the end face 21h of a land 21b with a prescribed gap d from an inner peripheral surface 20e.例文帳に追加
外周面21dに形成され、ランド21bの端面21hからスプールバルブ21の摺動方向に所定幅wをもち内周面20eとの間に所定の隙間dを構成する段部21fを備える構成としたこと。 - 特許庁
This method includes a step where symbol timing for data discrimination is acquired and traced in the unit of time width, consisting of a data symbol time length by N symbols (N is an arbitrary natural number), with respect to a spread multiplexed signal at the receiver side.例文帳に追加
受信側について、拡散多重化信号に対して、Nシンボル分(Nは任意の自然数)のデータシンボル時間長からなる時間幅を単位として、データ判定のためのシンボルタイミングを捕捉し且つ追尾する段階を有する。 - 特許庁
To provide a molded gear made of a synthetic resin capable of making a diameter difference of an outer diameter over a tooth width of a gear positioned at an inner side in the multi-step gear made of a synthetic resin small to the utmost and enhancing an accuracy of the gear.例文帳に追加
多段の合成樹脂製の歯車における内側に位置する歯車の歯幅にわたる外径の径差を極力小さくして歯車の精度を向上させることができる合成樹脂製の成形歯車を提供する。 - 特許庁
As a specific method of electrically connecting the main substrate and the auxiliary substrate to each other, a conductive material is formed on in a step part for regulating a sliding width by using a thin film forming technology such as a sputtering method, a deposition method.例文帳に追加
主基板と補助基板を電気的に接続する具体的な手法として、摺動幅を規制する段差部にスパッタリング法や蒸着法或いはめっき法等の薄膜形成技術を用いて導電性材料を形成する。 - 特許庁
When at least the winding width W or the winding position X of the primary winding 3 is varied, a coefficient of coupling between the primary winding 3 and the secondary winding 4 changes corresponding to a change in the winding width W, the winding position X, or both of them, so that the step-up ratio of the transformer 1 can be continuously and accurately regulated.例文帳に追加
而して、1次線3の巻回幅Wや巻回位置Xの少なくとも何れか一方を変化させると、1次線3と2次線4の結合係数が巻回幅W又は巻回位置Xあるいはその両方に応じて変化することとなり、トランス1の昇圧比を連続的且つ正確に調整することができる。 - 特許庁
Then, a first estimated position is found by analysis according to prescribed algorithm as to the data distribution based on the analysis width specified by the determined odd number, and a second estimated position is found by analysis according to prescribed algorithm as to the data distribution based on the analysis width specified by the determined even number (step 124).例文帳に追加
引き続き、決定された奇数で規定される解析幅による解析対象データ分布に関する所定のアルゴリズムによる解析によって第1推定位置を求めるとともに、決定された偶数で規定される解析幅による解析対象データ分布に関する所定のアルゴリズムによる解析によって第2推定位置を求める(ステップ124)。 - 特許庁
When the region where the prescribed value or more is detected is continuously detected in the range corresponding to the nip width between the members, whether or not the region where the prescribed value or more is detected in the rotation period of the elastic member is continuously detected in the range corresponding to the nip width between the members is determined (a step S6).例文帳に追加
所定値以上が検出される領域が、部材間のニップ幅に相当する範囲で連続して検出されていると判断する場合には、弾性部材の回転周期において、所定値以上が検出される領域が、部材間のニップ幅に相当する範囲で連続して検出されているか否かを判断する(ステップS6)。 - 特許庁
The contraction part 8 has the first contraction part 8a for reducing the passage width of the flow-in passage 6a gradually toward a flowing direction of measuring air, and the second contraction part 8b with a passage with expanded step-differently more than the narrowest part B, in just downstream of the narrowest part B where the passage width of the first contraction part 8a gets narrowest.例文帳に追加
この絞り部8は、測定空気の流れ方向に向かって流入通路6aの通路幅を徐々に減少させる第1の絞り部8aと、この第1の絞り部8aの通路幅が最も狭くなる最狭部Bの直下流側に、その最狭部Bより通路幅が段付き状に拡大する第2の絞り部8bとを有している。 - 特許庁
Whether or not the plural sheet sizes whose width directional diameters are different coexist based on the image information of all the originals stored in the memory (a step 108), and when it is judged that the plural sheet sizes coexist; it is judged that any stable processing is not available, a user is informed of the generation of the abnormality, and the copy operation is stopped (a step 114).例文帳に追加
そして、メモリに格納した全原稿の画像情報に基づいて、幅方向寸法が異なる複数の用紙サイズが混在して出力されるか否かを判断し(ステップ108)、複数の用紙サイズが混在すると判断された場合は、ステープルが行えないと判断して、ユーザに異常報知してコピー動作を中止する(ステップ114)。 - 特許庁
A pillar side mating part 51 of a pillar side frame forming part 40 formed a step 60 in the vehicle width direction between a roof side mating part 27 of a roof side frame forming part 20 and itself, and when the pillar side mating part 51 is joined by welding with the roof side mating part 27, buildup of a weld bead 62 is absorbed by the step 60.例文帳に追加
ピラー側フレーム構成部40のピラー側合わせ部51がルーフ側フレーム構成部20のルーフ側合わせ部27との間に車幅方向に段差60を形成するので、ピラー側合わせ部51がルーフ側合わせ部27と溶接によって接合された場合、この段差60によって溶接ビード62の盛り上がりが吸収される。 - 特許庁
This paper strip can be used for a Shinto purifying spit, a sacred straw festoon, pendant paper strips of cut paper in a Shinto shrine, etc. and is structured so that width of steps of this paper strip is gradually widened from an upper step to a lower step.例文帳に追加
紙垂を構成する各段の紙幅を上段から下段にかけて拡げて末広型として招福感を醸成するとともに、さまざまな色彩、模様を施すことにより祓え串、注連縄、御幣などを神事に制限されることなく仏教祭具として家庭の仏壇にも供えられるようにしたり、装飾的に優れたインテリアとしたりして使用できるようにする。 - 特許庁
Even if an excessive adhesive 3 spreads toward the center side along the belt width during the bonding, the spreading adhesive 3 stays in a step part 25 since each step part 25 coated with the adhesive is formed lower than the surface 21a of the base body part 31 which comes into contact with the roller outer peripheral surface, and then never reaches the surface 21a.例文帳に追加
接着の際に、余分な接着剤3がベルト幅方向で中央側にはみ出したとしても、その接着剤3を塗布した各段差部25は基体部分31のローラ外周面と接触する面21aよりも低く形成してあるので、はみ出した接着剤3は段差部25内に留まって、面21aまでははみ出さない。 - 特許庁
In the method for measuring the structure of the silicon surface, soft X-rays are made incident onto a wafer surface under condition of total reflection, and intervals between peaks in the intensity of diffraction (especially the interval between a maximum peak and the following peak) are measured to identify a step width.例文帳に追加
シリコン表面構造を計測する方法において、軟X線をウェーハ表面に全反射条件で入射し、回折強度のピーク間隔(とくに最大ピークとその次のピークとの間隔)を測定することによりステップ幅を同定する。 - 特許庁
When the recording paper on the called side has the A4 width, the transmission document is reduced from 256 mm to 210 mm or 216 mm and is transmitted (steps SA9 and SA10) in accordance with stored flag contents (step SA7).例文帳に追加
そして、着呼側がA4幅であった場合は、記憶していたフラグ内容に従い(ステップSA7)、256mmから210mmへの縮小送信を行い又は256mmから216mmへの縮小送信を行う(ステップSA9,ステップSA10)。 - 特許庁
The method for manufacturing the Fe-Ni alloy belt comprises an annealing step where a plurality of belts composed of Fe-Ni alloy and slitted to prescribed width are heated to 600 to 700°C in an atmosphere of 100 vol.% nitrogen to remove strain.例文帳に追加
Fe−Ni系合金からなり所定幅にスリットされた複数の帯材Sを、窒素100vol%の雰囲気中において、600〜700℃に加熱して歪みを除去する焼鈍工程を、含む、Fe−Ni系合金帯材の製造方法。 - 特許庁
In this precast concrete staircase equipped with a plurality of step parts, strings 36 and 37, which have top surfaces 36a and 37a almost linearly passing from the uppermost nosing P to the lowermost nosing P, are integrally formed at the width-direction ends of the staircase.例文帳に追加
複数の段部を備えたプレキャストコンクリート階段において、階段幅方向の端部に、最上段の段鼻Pから最下段の段鼻Pまで略直線状に通過する上面36a,37aを有するささら桁36,37を一体成形する。 - 特許庁
The locking recessed sections 35 have a plurality of step sections of which a length in the width direction corresponding to a plate thickness of the locked locking projection piece 43 is gradually reduced in the direction orthogonal to the plate thickness direction of the locked locking projection piece 43.例文帳に追加
前記係止凹部35は、係止される係止突片43の板厚方向と直交する方向において、係止される係止突片43の板厚に対応する幅方向の長さが段階的に減少する複数の段状部を有する。 - 特許庁
A peripheral direction step part 40 having the same length dimension as that of the land part block 12 and extending in the tire peripheral direction is provided on a side adjacent to the peripheral direction groove 2 of width direction end edges in the land part block 12 arranged at the tire mounting outside.例文帳に追加
タイヤ装着外側に配置された陸部ブロック12における幅方向端縁のうち周方向溝2に隣接する側には、陸部ブロック12と同一長さ寸法でタイヤ周方向に延びる周方向段差部40を設けられる。 - 特許庁
The one pair of support part 30 have bottom part 31 continuous to the end fringes 11 of the base material part 10, top part 32 formed in a step-shape, and side part ends 33 formed into a taper-shape such that its width is enlarged when coming closer to the bottom part 31.例文帳に追加
一対の各支持部30は、基材部10の端縁11に連なる底部31と、段状に形成された頂部32と、底部31に近づくにつれて幅が広くなるようにテーパ状に形成された側部端33とを備えている。 - 特許庁
In the first step, a first groove 38a of 100-200 μm is made in a substrate 30 on a silicon wafer by scanning an abrasive grain jet nozzle 20 times repeatedly at a pitch equal to the width of the substrate 30 along the longitudinal direction of an ink supply groove 38.例文帳に追加
第1の工程でシリコンウエハ上の基板30に第1の溝38aを、インク供給溝38の長手方向に沿って砥粒噴射ノズルを基板30の幅のピッチで20回折り返し走査させて100〜200μmの深さに形成する。 - 特許庁
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