「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The semiconductor device can be suitably manufactured by a manufacturing method including the steps of: growing the plating layer of the surface electrode and the plating layer of the back electrode simultaneously; and growing only one of the plating layer of the surface electrode and the plating layer of the back electrode.例文帳に追加

この半導体装置は、表面電極のめっき層と裏面電極のめっき層とを同時に成長させる工程と、表面電極のめっき層と裏面電極のめっき層のいずれか一方のみを成長させる工程とを含んでいる製造方法によって、好適に製造することができる。 - 特許庁

A method for treating the surface of the metal material for forging comprises the steps of blasting granules to the metal material while heating the metal material and forming a lubricous coating on the surface of the metal material after blasting.例文帳に追加

鍛造加工用の金属材料を表面処理する方法であって、金属材料を加熱しながら、金属材料に向けて粒状体を噴射するブラスト工程と、ブラスト工程後の金属材料の表面に潤滑被膜を形成する被膜形成工程を備えている。 - 特許庁

The manufacturing method of the timber with the inorganic surface comprises the steps of fixing glass powder on the surface layer of the timber to form the inorganic layer; impregnating the layer with an acrylic oligomer and curing it; applying titanium dioxide to the outside; and further applying an inorganic coating composed mainly of titanium dioxide to the outermost layer.例文帳に追加

木材表面層にガラスパウダーを定着させて無機質層を形成した後、アクリルオリゴマーを含浸硬化させ、更にその外側に二酸化チタンを塗布し、最外層に二酸化ケイ素を主成分とする無機塗料でコーティングして表層無機質化複合木材を作成する。 - 特許庁

The composite in which the surface metal particle is covered with the mesoporous material is produced by a method comprising the steps of: bringing a metal raw material into contact with an organic acid; and producing the mesoporous material on the surface of the metal raw material being brought into contact with the organic acid.例文帳に追加

金属粒子の表面がメソポーラス材料で被覆されている複合体を、金属原料に有機酸を接触させる工程と、前記有機酸を接触させた前記金属原料の表面にメソポーラス材料を生成させる工程とを有する方法によって製造する。 - 特許庁

A method of evaluating a silicon wafer includes the following the steps of: forming an oxide film on a silicon wafer surface; forming a plurality of electrodes on the oxide film; and contacting a probe to the surface of the electrode and applying a voltage between the probe and the silicon wafer to measure oxide film withstand characteristic.例文帳に追加

シリコンウェーハ表面に酸化膜を形成すること、上記酸化膜上に複数の電極を形成すること、上記電極の表面にプローブを接触させ、該プローブとシリコンウェーハとの間に電圧を印加して酸化膜耐圧特性を測定すること、を含むシリコンウェーハの評価方法。 - 特許庁

A method for coloring the stainless steel material into a particular color tone comprises the steps of: immersing the stainless steel material in a mixture solution of sulfuric acid and chromic acid; and forming a transparent film on the surface of the stainless steel material while dissolving the surface of the stainless steel material, and changing the thickness of the film.例文帳に追加

このステンレス鋼材について、所定の色調に着色するときに、ステンレス鋼材を硫酸とクロム酸の混合溶液に浸漬し、ステンレス鋼材の表面を溶解しながら、その表面に透明な被膜を形成し、かつその被膜の厚さを可変することで特定の色調に着色する。 - 特許庁

The surface cleaning method for a biocompatible material includes the steps for immersing the biocompatible material in cleaning solution composed of alkaline solution heated to a temperature less than the allowable temperature limit of phosphoric acid-based biocompatible compound, and applying an ultraviolet light while exposing the surface to oxygen atmosphere.例文帳に追加

生体適合性材料の表面浄化方法は、リン酸系生体適合化合物の耐熱温度未満に加熱したアルカリ水溶液からなる洗浄液中に浸漬させた後、当該表面を酸素雰囲気中に暴露しながら、紫外線を照射することを特徴とする。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises steps of: forming a silicon oxide film 3a on the surface of a silicon substrate 1 by processing the surface of a silicon substrate 1 with ozone gas solution; and forming a high-permittivity insulating film 36 on the silicon oxide film 3a.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、シリコン基板１の表面をオゾンガス溶解液で処理することにより、シリコン基板１の表面にシリコン酸化膜３ａを形成する工程と、シリコン酸化膜３ａ上に高誘電率絶縁膜３ｂを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The surface treatment method preferably comprises the steps of: immersing the zinc or a zinc alloy product into an aqueous solution containing any of the surface treatment agents; and subsequently immersing the zinc or zinc alloy product into an aqueous solution containing a sealing agent selected in accordance with color tones of the zinc or the zinc alloy product to seal the pin hole.例文帳に追加

これらの表面処理剤を含有する水溶液に浸漬処理された亜鉛もしくは亜鉛合金製品を、それらの亜鉛もしくは亜鉛合金製品の色調に応じて選定された封孔処理剤を含有する水溶液に浸漬してピンホールを封孔するのが好適である。 - 特許庁

The chromatic aberration correction coupling lens is arranged on the light source side of an objective lens for converging a light flux having a plurality of wavelengths on the information recording surface of an optical recording medium, and provided with a plurality of orbicular zones constituted of concentric circular steps around an optical axis on at least one surface.例文帳に追加

複数の波長を有する光束を光記録媒体の情報記録面上に集光させる対物レンズの光源側に配置され、少なくとも一方の面に光軸を中心とした同心円状の段差からなる複数の輪帯を備えた色収差補正用のカップリングレンズ。 - 特許庁

The sampling method includes the steps of emitting the plasma to a surface of the analytical object housed in a closed space; producing a sample gas, by making a surface layer part thereof guide into a gas phase; and introducing the sample gas into the analyzer through an introduction means from the closed space by a gas flow.例文帳に追加

閉空間内に納められた分析対象物の表面にプラズマを放出し、その表層部を気相中に飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをガス流によって前記閉空間から導入手段を通して分析装置に導入することを特徴とする。 - 特許庁

The surface of a metal or an intermetallic compound, particularly, a bond coated surface is formed so as to be subjected to the ceramic coating by using a method including mechanical grinding at least in two steps containing a fist step and a second step which is less aggressive than the first step.例文帳に追加

金属または金属間化合物表面、特に、結合被覆表面が、第１の工程と、第１の工程より積極的でない第２の工程と、を含む少なくとも２つの工程内における機械研磨を含む方法を用いて、セラミック被覆を受けるように形成される。 - 特許庁

The method also comprises the steps of winding the cloth 5 on the outer periphery of a mold having grooves for molding the teeth with the coating surface of the fluoropaint disposed at an inner surface side, spirally winding the wires 2 on the outer periphery of the mold from above the cloth 5, and then further coating and winding a rubber sheet thereon.例文帳に追加

そして歯部成形用溝を設けた成形用型の外周にこの歯布５をフッ素系塗料の塗布面を内面側にして巻き付け、歯布５の上から成形用型の外周に心線２をスパイラル状に巻き付けた後にさらにその上からゴムシートを被せて巻き付ける。 - 特許庁

A method includes the steps of laminating a new interlayer film 3C on an interlayer film 3A on the undersurface, of which an alignment mark 2B is formed, subjecting the top surface to planarization, and forming a new alignment mark 2C in a portion 32, located directly above the alignment mark 2B of the top surface of the interlayer film 3C.例文帳に追加

下面にアライメントマーク２Ｂが形成された層間膜３Ａの上に、新たな層間膜３Ｃを積層してその上面を平坦化処理し、層間膜３Ｃの上面のうち、上記アライメントマーク２Ｂの直上に位置する部分３２に新たなアライメントマーク２Ｃを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the display device comprises the steps of disposing selectively grown GaN microscopic semiconductor light- emitting elements 11, embedded in a first insulating layer 21 of an epoxy resin except the upper end part and a lower end surface and drawing electrodes 18, 19 at an interval on the upper surface of a base 31, and then fixing the elements.例文帳に追加

選択成長させたＧａＮ系の微小な半導体発光素子１１をエポキシ樹脂の第一絶縁層２１で上端部と下端面を除いて埋め込んで電極１８、１９を引き出したものを基体３１の上面に間隔をあけて配置し固定する。 - 特許庁

As the mounting surface of at least one of the plurality of installation holes provided to the lens holder is formed as a curved surface so that the tilt adjustment of the lens can be performed, tilt adjustment between the plurality of objective lenses can be performed without increasing the number of components or the number of assembling steps.例文帳に追加

これにより、レンズホルダーに形成される複数の取付孔のうち少なくとも一つの取付孔のレンズ載置面を、レンズの傾斜調整が可能に曲面で形成するので、部品数の増加や別途の組立て工数の増加なしに複数の対物レンズ間の傾斜調整が可能である。 - 特許庁

The method may also comprise the steps of coating a paint obtained by kneading the diamond powder of 10 to 15 microns with a glaze of 1.0 g on the surface of a biscuit firing porcelain material, and backing the material at 800 to 900°C, thereby displaying the picture pattern irradiated with the reflected light of the diamond fine particles on the surface of the porcelain.例文帳に追加

釉薬１．０ｇに１０〜１５ミクロンのダイヤモンドパウダーを０．ｌ〜０．３ｇの割合で混練した塗料を素焼き陶磁材表面に塗布し、８００〜９００℃で焼成して陶磁器表面にダイヤモンド微粒子の反射光を帯びた絵模様を表すこともできる。 - 特許庁

The method of manufacturing a substrate for the solar battery includes the steps of anode oxidizing a surface of a metal substrate 1 to form a porous metal oxide film 2, and removing the porous metal oxide to allow a periodic and continued concave structure portion to be exposed on the surface of the metal substrate.例文帳に追加

金属基板１の表面を陽極酸化し、多孔質金属酸化膜２を形成する工程及び該多孔質金属酸化膜を除去し、金属基板表面に凹部が周期的で連続した凹部構造を露出する工程を含む太陽電池用基板の作製方法である。 - 特許庁

To provide a fragrant adhesive produceable in simple production steps, having a reworking property, free from residue of paste to the surface to be applied, free from defect of adhesive force by addition of the fragrant agent, releasing adequate fragrance for a long period, preferably further excellent in transparency and suitable for surface protection.例文帳に追加

本発明は、製造工程が簡単で、リワーク性があり、被着面への糊残りがなく、且つ芳香剤添加による接着力不良が無く、適度の芳香が長期間放散され、好ましくはさらに透視性が優れた、表面保護用に適した芳香性粘着剤を提供する。 - 特許庁

To provide a self-adhesive film for protection of a photomask, the film maintaining releasing property with respect to a resist in repeated steps of contact exposure and causing no dropping of the surface layer even when a contaminant deposit from a resist onto the surface layer of the self-adhesive film for protection of a photomask is cleaned with a solvent such as alcohol.例文帳に追加

密着露光の繰り返し工程においてレジストに対して剥離性を持続し、またフォトマスク保護用粘着フィルムの表面層のレジストからの汚染付着物をアルコール等の溶剤により洗浄しても表面層の脱落がないフォトマスク保護用粘着フィルムの提供。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of applying silver nano paste 3 containing conductive particles on a front surface of a template 1 made of resin to which a pattern 1c including an unevenness is applied, and forming a pattern 5 of a conductive material on a substrate 4 by pushing the front surface on the substrate 4 (that is, by carrying out a contact print).例文帳に追加

凹凸を含むパターン１ｃが施された樹脂製テンプレート１の表面に、導電性粒子を含む銀ナノペースト３を塗布し、当該表面を基板４上に押し当てる（すなわちコンタクトプリントを行う）ことにより基板４上に導電材のパターン５を形成する。 - 特許庁

To provide a method for treating surface of silicon substrate by which a clean silicon substrate can be obtained by well removing fine damages caused by working and organic matters, metallic impurities, and fine particles adhering to the surface of the substrate through a small number of steps and, in addition, the fraction non-defective after film formation can be improved.例文帳に追加

シリコン基板の加工により生じた微小ダメージ、シリコン基板表面に付着する有機物、金属不純物及び微粒子を少ない工程数で良好に除去して清浄なシリコン基板を得ることができ、かつ成膜後の非不良率を向上し得る。 - 特許庁

The method for manufacturing the film-formed member includes the sequential steps of: forming a recess portion 2 on the surface 1a of a substrate; forming a stacked film layer C on the surface 1a of the substrate including the recess portion 2; and grinding the whole stacked film layer C so as to be flush.例文帳に追加

当該被膜形成部材の製造方法として、基材面１ａに対して凹所２を形成する凹所形成工程、凹所２を含む基材面１ａ上へ被膜積層Ｃを形成する被膜積層形成工程、被膜積層Ｃ全体を面一に研削する研削工程を順に、設ける。 - 特許庁

The plastic molded product having a superhydrophilic surface is obtained by the steps of forming a hydrophilic silica film on a film substrate to transfer a silica film to a plastic surface by pressure and heat, or introducing the film into the inner face of a mold by a foil conveying device to transfer the silica film by carrying out injection-molding of the plastic.例文帳に追加

フイルム基材に親水性シリカ膜を形成し、プラスチック表面に圧と熱とでシリカ膜を転写するか、上記フイルムを金型内面に箔送り装置で送り込み、プラスチックを射出成型しシリカ膜を転写することで、超親水性表面を有するプラスチック成型物が得られる。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device of the present invention includes the steps of: forming the groove portion on the semiconductor substrate; forming a first separation film and a second separation film by growing the oxide film on a bottom surface of a first opening and a bottom surface of the groove portion; and forming the PiP capacitive element on the second separation film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板に溝部を形成し、第1の開口部の底面と溝部の底面に酸化膜を成長させて第１の分離膜及び第２の分離膜を形成し、第２の分離膜上にＰｉＰ容量素子を形成する工程を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor light emitting device comprises the steps of, laminating GaN based semiconductor layers including light emitting layer on a GaAs (111) A substrate 1, fixing an electrode surface provided on the above-mentioned lamination surface and the conductive substrate with a conductive adhesive, and removing the GaAs (111) A substrate 1.例文帳に追加

本発明による半導体発光素子の製造方法は、GaAs（111）Ａ基板1に発光層を含むGaN系半導体層の積層を成長した後、導電性の接着剤により前記積層表面に設けた電極面と導電性基板とを接着した後、GaAs（111）Ａ基板1を除去する。 - 特許庁

A method for surface-treating the metal foil comprises the steps of: forming a smooth nickel-plated layer at least on one side of the metal foil through nickel-plating treatment by cathodic electrolysis; and then forming a layer of fine nickel particles on the surface of the smooth nickel-plated layer through nickel roughening treatment.例文帳に追加

金属箔の少なくとも一方の面に、陰極電解ニッケルメッキ処理を施してニッケル平滑メッキ層を設け、該ニッケル平滑メッキ層の面にニッケル粗化処理を施して微細ニッケル粒子層を設けることを特徴とする金属箔の表面処理方法である。 - 特許庁

Steps B and C form a connection pad 5A having a both-side wall 6A with inner width W2 almost equivalent to outer width W1 of a stud 4a on the smooth top surface of a mounting circuit 3A, then form a metal junction film 8 on the top surface of the both-side wall 6A.例文帳に追加

工程Ｂおよび工程Ｃにおいてはスタッド４ａの外幅Ｗ１と同程度の内幅Ｗ２を有する両側壁６Ａを有する接続パッド５Ａを実装回路３Ａの平滑な表面上に形成し、その両側壁６Ａの表面上に金属接合膜８を形成する。 - 特許庁

To reduce manufacturing costs by using a slide plate when fastening an elastic member by a fastening screw, to fasten the elastic member without twisting of the upper surface part of the elastic member due to friction with the bearing surface of the fastening screw by rotation of the fastening screw, and reducing the number of components to reduce the number of assembling steps.例文帳に追加

締結ネジで弾性部材を締結する際に摺動板を用いることにより、締結ネジの回転で弾性部材上面部が締結ネジの座面との摩擦により捻られることなく締結し、部品数を減らすことで組立工程数を軽減し、製造コストを下げる。 - 特許庁

To provide a lubricating coating with abrasion resistance, which gives lower loads to the environment in steps of using, recycling, and discarding a contacting surface, than conventional methods, while maintaining a lubricity equal to a conventional sliding and rolling contacting surface, and to provide a method for manufacturing the lubricating coating.例文帳に追加

従来の、すべり・転がり接触面と同等の潤滑性能を維持しながらも、接触面の使用、リサイクル及び廃棄処理段階での環境負荷が従来法に比べて小さい、耐摩耗性の潤滑性皮膜を得ること及び該潤滑性皮膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for windows 4 having electric wave stealth property and/or electromagnetic wave shielding property consists of two steps, a step to form a thin film 2 made from an electric conductive material on the surface of a transparent window member 1 assuming a curved surface and a step to subject the thin film 2 to a processing to generate a mesh form.例文帳に追加

曲面形状をなす透明な窓部材１の表面に、導電性材料からなる薄膜２を形成するステップと、該薄膜２を処理してメッシュ形状に形成するステップとを備える電波ステルス性および／または電磁波シールド性を有する窓４の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating method and a plasma discharge treating apparatus which form ideal irregularities for antiglaring properties on a substrate without passing through complicated steps, and an antiglare film and an antiglare low reflective film which are formed by these surface treating method and plasma discharge treating apparatus.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく、基材上に防眩性に対して理想的な凹凸を形成する表面処理方法及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムを提供する。 - 特許庁

In the batch processing method comprising the steps of fixing the plurality of chips to the supporting member, and separating the processed part from the supporting member after providing the predetermined process to the part of the surface of each chip, the surface of the supporting member with the chip separated is plished and reused.例文帳に追加

複数個の小片を支持部材に固定し、各小片の表面の一部に所定の処理を行なった後、前記処理済み部分を支持部材から分離する工程を含む小片の一括処理方法において、小片分離後の支持部材表面を研磨して再利用する。 - 特許庁

The method of growing semiconductor crystal of group II-V element on a substrate is comprised of following steps: (a) a step for preprocessing the substrate; (b) a step for growing a semiconductor crystal of group II-VI element on the surface of the substrate on a polar surface of group II element.例文帳に追加

基板上にＩＩ−ＶＩ族の半導体結晶を成長させる方法であって、（ａ）基板表面に所定の前処理を行う工程と、（ｂ）前記基板の表面上にＩＩ−ＶＩ族の半導体結晶をＩＩ族原子の極性面で成長する工程とを含む。 - 特許庁

A manufacturing method of a nitride-based semiconductor laser device includes steps of etching the back surface (nitrogen face) of an n-type GaN substrate 1 having a wurtzite structure by RIE method and forming an n-side electrode 8 on the etched back surface (nitrogen face) of the n-type GaN substrate 1.例文帳に追加

この窒化物系半導体レーザ素子の製造方法は、ウルツ鉱構造を有するｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）をＲＩＥ法によりエッチングする工程と、その後、エッチングされたｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）上に、ｎ側電極８を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method for producing a porous copper foil, includes the steps of: directly forming an oxide film by providing a chromium-containing component to a metal surface as a cathode; forming a copper foil by performing copper plating on the oxide film; and removing the copper foil from the surface of the cathode.例文帳に追加

本発明の多孔質銅箔の製造方法は、陰極体としての金属の表面にクロム含有成分を施して直接酸化膜を形成する工程と、前記酸化膜に銅をめっきして銅箔を形成する工程と、前記陰極体の表面から前記銅箔を剥離する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the foamed roller comprises the steps of contacting the roller having a rotational shaft and a foamed elastic layer provided on its outer periphery and having the skin layer on a surface with a jig having many needles, and homogeneously entirely circumferentially perforating the skin layer on the surface of the elastic layer by the needles.例文帳に追加

回転軸と、その外周に設けられ、かつ表面にスキン層を有する発泡弾性体層からなるローラを、多数の針を具備した治具に接触させ、該針により、上記発泡弾性体層表面のスキン層を全周にわたり均質に穿孔する。 - 特許庁

The method of manufacturing the ceramic wiring board including a flat surface region for mounting a component includes the steps of: subjecting the flat surface region of the ceramic wiring board to polishing processing to be flattened; and applying a heat treatment to the ceramic wiring board to fuse ceramic fracture of the surface fractured by the polishing processing.例文帳に追加

部品を搭載するための平面領域を含むセラミック配線基板の製造方法であって、前記セラミック配線基板の、上記平面領域を研磨加工して平坦化する工程と、前記セラミック配線基板に熱処理を施し、前記研磨加工によって破断した前記面のセラミック破砕を融着させる工程と、を具える。 - 特許庁

This is a manufacturing method for a plated film, that has steps of making a metal plated film 8 deposited on a substrate 9 columnar or cylindrical surface, making the surface part of the metal plated film 8 that was deposited, and transferring the metal plated film 8, whose surface part has been remelted, from the substrate 9 to a transferred material 21.例文帳に追加

円柱状又は円筒状の表面を有する基体９の該表面に金属メッキ膜８を析出させる工程と、析出した該金属メッキ膜８の表層部を再溶解させる工程と、表層部が再溶解した該金属メッキ膜８を前記基体９から被転写材２１に転写させる工程とを有してなるメッキ膜の製造方法とする。 - 特許庁

The method includes steps of: preliminarily mixing a first silica having a BET specific surface area of from 130 m^2/g to less than 250 m^2/g and a second silica having a BET specific surface area of from 250 m^2/g to less than 380 m^2/g to prepare a mixture silica; and depositing the mixture silica on the surface of toner base particles.例文帳に追加

ＢＥＴ比表面積１３０ｍ^２／ｇ以上２５０ｍ^２／ｇ未満の第１のシリカとＢＥＴ比表面積２５０ｍ^２／ｇ以上３８０ｍ^２／ｇ未満の第２のシリカとを予め混合して混合シリカとする工程と、当該混合シリカをトナー母体粒子表面に付着させる工程と、を有することを特徴とするトナー製造方法。 - 特許庁

The solar cell manufacturing method comprises the steps of forming a first electrode on one surface of a silicon substrate having a first polarity, irradiating the other surface of the silicon substrate with hydrogen plasmas after forming the first electrode, and forming a second electrode on the other surface of the silicon substrate after irradiation with hydrogen plasmas.例文帳に追加

第１の極性を有するシリコン基板の一方の面上に第１の電極を形成する工程と、第１の電極の形成後にシリコン基板の他方の面に水素プラズマを照射する工程と、水素プラズマの照射後にシリコン基板の他方の面上に第２の電極を形成する工程とを含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

In forming the electroless plating layer on the surface of a nonconductive material, the surface of the nonconductive material is coated with a treating liquid containing a polyallylamine derivative prior to respective steps for impartation of the catalyst and electroless plating and the polyallylamine derivative distributed to the surface of the resultant film chemically adsorb, catch and immobilize the catalyst metal, such as palladium.例文帳に追加

非導電性物質の表面に無電解めっき層を形成する際に、触媒の付与及び無電解めっき各工程に先立ち、非導電性物質の表面にポリアリルアミン誘導体を含有してなる処理液を塗付し、得られた被膜表面に分布するポリアリルアミン誘導体がパラジウム等の触媒金属を化学的に吸着捕捉し固定化する。 - 特許庁

A method of designing an articular implant comprises the steps of obtaining an image of a joint, wherein the image includes at least one of normal cartilage and diseased cartilage; reconstructing dimensions of the diseased cartilage surface to correspond to the normal cartilage; and designing the articular implant to match the dimensions of the reconstructed diseased cartilage surface or to match an area greater than the diseased cartilage surface.例文帳に追加

関節の画像を取得するステップであって、画像は正常な軟骨と罹患軟骨の少なくとも１つを含んでおり、正常な軟骨に一致する罹患軟骨の表面の寸法を復元するステップ、および、復元された罹患軟骨表面の寸法または罹患軟骨表面より大きな領域にマッチするように関節移植片を設計する。 - 特許庁

After a plurality of steps 10a and a plurality of terraces 10b are formed on a silicon substrate 10 by re-arraying silicon atoms on the surface thereof, thermal oxidation is performed for the surface of the silicon substrate 10 while the surface is prevented from being contaminated, so that a crystalline silicon dioxide, that is, a crystalline oxide 11 is epitaxially grown on the step 10a.例文帳に追加

シリコン基板１０に、その表面のシリコン原子を再配列させることにより、複数のステップ１０ａと複数のテラス１０ｂとを形成した後、シリコン基板１０の表面が汚染されることを防止しつつ該表面に対して熱酸化を行なって、ステップ１０ａ上に結晶質二酸化シリコンつまり結晶質酸化物１１をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

A method for designing a 3D modelled object is provided which includes the steps of giving at least one surface defined by a field of a point of the surface and a field of a normal vector vertical to the surface, and changing the field of the point while maintaining the field of the normal vector as it is for watermarking to the object.例文帳に追加

表面のポイントのフィールドと該表面に対して垂直な法線ベクトルのフィールドとにより定義された少なくとも１つの表面を与えるステップと、法線ベクトルのフィールドをそのまま保持しながらポイントのフィールドを変更することによりオブジェクトにウォータマーキングするステップとを含む、３Ｄモデル化オブジェクトを設計するための方法が提供される。 - 特許庁