| 意味 | 例文 |
under processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2441件
To provide a metal surface treating agent having high discoloration preventive effect even when it is exposed to the heating treatment in the LED manufacturing process and under a high-temperature environment imparted during the use, having excellent wire bonding characteristic, and free from any degradation of the reflectivity caused by the surface treatment.例文帳に追加
LED製造工程での加熱処理や、使用時に与えられる高温感環境下に曝されても変色防止効果が高く、ワイヤーボンディング特性に優れ、表面処理による反射率の劣化がない金属の表面処理剤を提供する。 - 特許庁
When the excitation state of the rotary drum under the stopped state is a one-phase excitation before the start of the rotation of the rotary drum, a normal correcting process where the excitation state is updated by "-1" conforming to predetermined excitation changing procedures, and the excitation state is corrected to the state right before, a two-phase excitation, is performed.例文帳に追加
回胴の回転開始前に、停止状態にある回胴の励磁状態が1相励磁である場合には、励磁状態を所定の励磁変更順序に従って「−1」更新し、直前の2相励磁に補正する通常補正処理を実行する。 - 特許庁
In a drying process after a catalyst layer forming ink manufactured by mixing and dispersing catalyst-carrying carbon particle, polymer electrode solution, and a solvent, is applied to a base, the application side under drying is heat-pressed, and a catalyst layer is fixed to the base.例文帳に追加
触媒担持カーボン粒子と高分子電解質溶液及び溶媒により混合分散して製作した触媒層形成用インクを基材に塗布した後の乾燥工程において、乾燥中の塗布面を加熱圧着して基材に触媒層を定着させる。 - 特許庁
To provide an n-type ohmic electrode having excellent reliability to heat treatment in a manufacturing process, and to use conditions under which large current flows, and having low contact resistance in an n-type ohmic electrode formed on the surface of a nitride semiconductor.例文帳に追加
窒化物半導体表面に形成されるn型オーミック電極に関して、製造工程における熱処理や高電流が流れる使用条件に対して信頼性に優れており、かつ低い接触抵抗が得られるn型オーミック電極を提供する。 - 特許庁
To provide a treatment device which cleans the upper part of a protective means located under a substrate as an object of treatment surely so as to prevent stains from being attached to the substrate in the treatment device comprising a process of cleaning the rear surface of the substrate as a cleaning solution is supplied on it.例文帳に追加
被処理基板の裏面に洗浄液を供給して洗浄する工程を含む処理装置において、被処理基板の下側に位置する防護手段の上部を確実に洗浄し、汚れが被処理基板に付着することのない処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a cutting tool of long service life having high abrasion resistance by preventing generation of peeling and chipping of covering during a cutting process in cutting a difficult-to-cut material such as cast iron including mill scale, hard grain phase even under severe conditions.例文帳に追加
特に黒皮や硬質粒子相を含んだ鋳鉄等の難削材の切削に際して、過酷な条件で切削する場合においても、切削時の被膜の剥離、チッピングの防止により、優れた耐摩耗性を有する長寿命の切削工具を提供する - 特許庁
To provide a process-less lithographic printing plate in which a photosensitive layer and a lining layer do not stick to each other and the photosensitive layer does not peel even though storing for a long time of period under high humidity environment and the deterioration of image quality due to reflecting and scattering of light from back are enhanced.例文帳に追加
高湿度の環境下で長期保存をしても感光層と裏塗り層が張り付いたり、感光層が剥がれる事がなく、更に裏からの光の反射、散乱による画質の低下が改善されたプロセスレス平版印刷版を提供する事である。 - 特許庁
In manufacturing the electrode with the carbonaceous material put under the surface treatment bonded with a binder, a process of transferring the carbonaceous material into rare gas without exposing it in air and bonding it with the binder in the rare gas is provided after the surface treatment.例文帳に追加
表面処理された炭素質材料がバインダにより結合された電極を製造するに際し、表面処理終了後、空気にさらすことなく希ガス中に炭素質材料を移行させ、希ガス中でバインダにより炭素質材料を結合する工程を設ける。 - 特許庁
A time L1 required to reach ▵Tb(°C) when a voltage is adjusted to a rated input power supply voltage in an apparatus assembly process, and also when the heater is continuously energized under an environment at a prescribed temperature is measured, and the measured time is stored as the heat generation data into a non-volatile RAM.例文帳に追加
装置組み立て工程内にて定格入力電源電圧に調整され、且つ、ある規定温度の環境下で連続通電したときにΔTb(℃)となるのに必要な時間L1を測定し、これを発熱量データとして不揮発性RAMに記憶する。 - 特許庁
When a spiral inductor 151 is formed on the wiring layer of an integrated circuit of silicon process, a polysilicon layer 13 for the gate of a MOS transistor is formed under the inductor 151 and between an SiO2 layer 12 of a field and the inductor 151.例文帳に追加
シリコンプロセス上の集積回路の配線層に、スパイラル形状によるインダクター151を形成する場合に、インダクター151の下層部に、MOS型トランジスタのゲートに用いるポリシリコン層13を、フィールドのSiO_2 層12とインダクター151の間にも形成する。 - 特許庁
This method for producing the dyed mixed cloth of the polyamide fiber with polyurethane fiber is characterized by finish-treating the mixed cloth of the polyamide fiber with polyurethane fiber, pre-setting it under the conditions of at ≤190°C temperature for ≤60 sec, and then performing a dyeing and finishing process.例文帳に追加
ポリアミド繊維とポリウレタン繊維との混用布帛を精練処理後、温度を190℃以下、時間を60秒以内の条件でプレセットし、その後、染色、仕上げ加工することを特徴とするポリアミド繊維とポリウレタン繊維との混用染色布帛の製造方法。 - 特許庁
Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.例文帳に追加
すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁
A crystal growing method comprises a process for moving impurities in an amorphous silicon film 24 or a polysilicon film 24a formed by vapor-phase growing the film 24 into an impurity capturing layer 23 formed on or under the film 24 by heating to capture the impurities in the layer 23.例文帳に追加
アモルファスシリコン膜24の上又は下に形成した不純物捕獲層23に、アモルファスシリコン膜24中、又はアモルファスシリコン膜24を固相成長させて形成したポリシリコン膜24a中の不純物を加熱により移動させて捕獲する工程を含む。 - 特許庁
To provide a highly reliable electrophotographic receptor having high charge potential, high sensitivity, sufficient light responsivity, and excellent endurance without deterioration of the characteristics even when being used under a low temperature circumstance or in a high electrophotographic speed process, and further to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
帯電電位が高く、高感度で、充分な光応答性を示し、耐久性に優れ、低温環境下または高速プロセスで用いた場合においても特性が低下することのない信頼性の高い電子写真感光体および画像形成装置を実現する。 - 特許庁
This method includes a process of mixing a blended raw material containing one or more kinds of oil-based components solid at 25°C under heating to give an oily fluid, mixing the oily fluid with a fluid containing an aqueous component to give emulsified matter, and cooling the emulsified matter.例文帳に追加
25℃において固体の油性成分を1種以上含む配合原料を加熱下に混合させて油性流動体となし、該油性流動体と水性成分を含む流動体とを混合させて乳化物となし、該乳化物を冷却する工程を有する。 - 特許庁
The method for preparing the particulate aluminum hydroxide with the low soda content comprises, when preparing aluminum hydroxide by the Bayer process, conducting a precipitation step of precipitating aluminum hydroxide from a supersaturated sodium aluminate solution under a pulverizing condition using a medium stirring type pulverizer.例文帳に追加
バイヤー法により水酸化アルミニウムを製造するに際し、過飽和アルミン酸ナトリウム溶液から水酸化アルミニウムを析出させる析出工程を、媒体攪拌型粉砕機を用いた粉砕条件下で実施する、低ソーダ微粒水酸化アルミニウムの製造方法である。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a toner for electrostatic latent image development which can be fixed at low temperature, avoids offset even under no oil application to a fixing member, and also avoids deterioration such as cracking against stress in a development process, and a toner manufactured by the method.例文帳に追加
低温で定着が可能で、定着部材へのオイル塗布が無くてもオフセットがなく、現像プロセスにおけるストレスに対して割れなどの劣化のない静電潜像現像用トナーの製造方法、および、その製造方法によって製造されるトナーを提供する。 - 特許庁
The method for treating the drainage containing hexamine has the process of filling the drainage into a pressure vessel, and that of decomposing hexamine under conditions of temperatures in the vessel of 200 to 250°C and pressures in the vessel of 1.5 to 2.5MPa.例文帳に追加
ヘキサミン含有排水の処理方法において、該排水を耐圧容器内に充填して、容器内温度200〜250℃、容器内圧力1.5〜2.5MPaの条件下で、ヘキサミンを分解する工程を有することを特徴とするヘキサミン含有排水の処理方法。 - 特許庁
The method of producing the photoelectric converting apparatus includes the step of conducting the annealing process for 30 minutes to six hours under the temperature of 150 to 200°C in the atmospheric condition to a photoelectric converting apparatus provided with a photoelectric converting layer including a crystalline silicon layer.例文帳に追加
結晶質シリコン層を含む光電変換層を有する光電変換装置に対して、大気雰囲気において150℃以上200℃以下の温度で30分以上6時間以下のアニール処理を施すアニール処理工程を含む光電変換装置の製造方法。 - 特許庁
When a rare earth sintered magnet is produced by sintering a molding of material alloy fine powder containing a rare earth element, a transition metal element and boron, sintering process is performed by high frequency induction heating under high vacuum where ultimate pressure is 10^-4 Pa or below.例文帳に追加
希土類元素、遷移金属元素及びホウ素を含む原料合金微粉を成形した成形体を焼結し、希土類焼結磁石を製造するに際し、到達圧力10^-4Pa以下の真空度で高周波誘導加熱により焼結を行う。 - 特許庁
A preferred process aspect involves converting the 2-6C olefin in a cis-form to a trans-form under conditions effective to convert at least about 50%, and even more preferably at least about 70%, of the cis-form compound to the trans-form compound.例文帳に追加
好ましい方法面は、シス型化合物の少なくとも約50%を、より更に好ましくは少なくとも約70%をトランス型化合物へと転化させるのに有効な条件下で、シス型のC2−C6オレフィンをトランス型へと転化させることを含む。 - 特許庁
To provide a contactless temperature measuring instrument and device capable of measuring a temperature of a semiconductor wafer or the like under treatment in a process chamber at high precision over a wide range, and a manufacturing method and device for a semiconductor device using the contactless temperature measuring method and device.例文帳に追加
プロセスチャンバ内で処理中の半導体ウエハ等の温度を、広い領域で高精度に非接触で測定できる非接触温度測定方法およびその装置、ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法とその装置とを提供すること。 - 特許庁
This process includes the contact of an alkane with a chromium-based dehydrogenation catalyst at about 400°C to about 700°C under about 0.1 to about 10 atm in the presence of molecular oxygen at an alkane/oxygen molar ratio of about 1:0.0001 to 1:0.04.例文帳に追加
該プロセスは、約400℃から約700℃の温度、約0.1から約10気圧で分子状酸素の存在下において、アルカンと酸素のモル比率を約1:0.0001から1:0.04の間でアルカンをクロム系脱水素触媒と接触させることを含む。 - 特許庁
This method for treating an organic pigment comprises a process of heating the not crushed or crushed organic crude pigment in water and/or an organic solvent under pressurizing as necessary with microwave irradiation until when the temperature of the whole mixture becomes 30-250°C.例文帳に追加
粉砕していないまたは粉砕した有機粗顔料を、水および/または有機溶剤中、必要に応じ加圧下において、マイクロ波照射によって、混合物全体の温度が30から250℃に達するまで加熱することを含む有機顔料の後処理方法。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for manufacturing a satisfactorily qualified polysilicon film on a substrate in the process for manufacturing semiconductor by continuously generating uniform plasma under the pressure in the vicinity of atmospheric pressure and processing the substrate by the plasma.例文帳に追加
半導体素子の製造工程におけるポリ−Si膜の製造において、大気圧近傍の圧力下で均一なプラズマを継続して発生させ、基材を該プラズマで処理して、基材上に良質のポリ−Si膜を製造する方法及びその装置の提供。 - 特許庁
The method for measuring the polyphenol contained in the plant is provided with a process in which radicals of the polyphenol existing in DMSO extraction liquid or DMSO re-dissolution liquid of the plant under an alkaline condition are measured by using an electron spin resonance instrument.例文帳に追加
植物体のDMSO抽出液もしくはDMSO再溶解液中にアルカリ条件下で存在するポリフェノールラジカルを電子スピン共鳴装置で測定する工程を含むことを特徴とする、植物体内に含まれるポリフェノールの測定方法。 - 特許庁
In the process for preparing a hardly yellowing flexible polyurethane foam, the hardly yellowing flexible polyurethane foam showing a small residual strain under wet heat conditions is prepared from a polyol, a foaming agent, a catalyst, a stabilizer and an alicyclic polyisocyanate compound, specifically a polycyclic aliphatic polyisocyanate.例文帳に追加
ポリオール、発泡剤、触媒、安定剤および脂環族ポリイソシアネート化合物、特に多環式脂肪族ポリイソシアネートとから、残留湿熱歪みの小さい難黄変性軟質ポリウレタンフォームを製造することを特徴とする難黄変性軟質ポリウレタンフォームの製造方法。 - 特許庁
The defective of the evaluation wiring and the defectives besides that can be discriminated easily by writing the specified logic level (an expected value) from the input circuit and reading the logic level latched to the latch circuit under the state, thus shortening the development period of the semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
この状態で、入力回路から所定の論理レベル(期待値)を書き込み、ラッチ回路にラッチされた論理レベルを読み出すことで、評価用配線の不良と、それ以外の不良とを容易に判別でき、半導体製造プロセスの開発期間を短縮できる。 - 特許庁
Under a hydrogen carrier gas atmosphere, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene is continuously manufactured by rearrangement/dehydration reaction of 3,3-dimethyl-2-butanone by a vapor-phase process using a catalyst with a solid oxide carrier carrying cobalt oxide (II), cobalt (III), or copper oxide (II).例文帳に追加
水素キャリアガス雰囲気下で、固体酸化物担体に酸化コバルト(II)コバルト(III)又は酸化銅(II)が担持された触媒を用いた気相プロセスによる3,3−ジメチル−2−ブタノンの転位・脱水反応によって、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンを連続的に製造する。 - 特許庁
Processes indicated as the related inventions (Claim 2 and 3) are to apply the specified invention (Claim 1), fourth class ammonium compounds, as microbial control and desegregation agents, respectively. The relationship between the specified invention and related inventions fall under the product and the process of using the product. 例文帳に追加
(請求項2及び3)の方法は、特定発明(請求項1)の第四級アンモニウム化合物を、それぞれ、微生物抑制剤及び離解剤として使用するものであり、特定発明と関連発明は、物とその物を使用する方法に該当する。 - 特許庁
(1) Where a product for which there is already a corresponding patent for its manufacturing process is introduced into Spain, the owner of the patent shall, in respect of the product introduced, have the same rights as those granted under the present Law for products manufactured in Spain.例文帳に追加
(1) 製造方法に関する特許が既に存在する製品がスペインに輸入されている場合,当該特許権者は,輸入された製品に関し,スペイン国内で製造された製品に対して本法が認める権利と同じ権利を有するものとする。 - 特許庁
(2) When production or processing methods and sanitation management methods in a comprehensive sanitation management and production process pertaining to an application prescribed in the preceding paragraph do not conform to the criteria specified by an Ordinance of the Ministry of Health, Labour and Welfare, the Minister of Health, Labour and Welfare shall not grant approval under the same paragraph. 例文帳に追加
2 厚生労働大臣は、前項の申請に係る総合衛生管理製造過程の製造又は加工の方法及びその衛生管理の方法が、厚生労働省令で定める基準に適合しないときは、同項の承認を与えない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
Simultaneously with introduction of a process gas containing TMG being an organogallium compound, nitrogen (N_2) and hydrogen (H_2) in a space between a pair of electrodes (12H, 12E) under a pressure close to atmospheric pressure, and electric field is applied between the electrodes (12H, 12E) so as to induce electric discharge.例文帳に追加
大気圧近傍の圧力下で一対の電極12H,12E間に、有機ガリウム化合物であるTMGと窒素(N_2)と水素(H_2)とを含有するプロセスガスを導入するとともに、電極12H,12E間に電界を印加して放電を生成する。 - 特許庁
To provide a method for producing a phenylacetaldoxime derivative from thermally stable raw materials in a simple process without being affected by the substituents on the benzene ring under such environmentally friendly conditions with slight burden of wastewater treatment as to be suitable for production on an industrial scale.例文帳に追加
工業的スケ−ルでの生産に適する、熱的に安定な原料からの、廃水処理の負荷の少ない環境に優しい条件で、ベンゼン環上の置換基に影響されない、簡便なプロセスでのフェニルアセトアルドキシム誘導体の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a bilayer flexible substrate capable of preventing a tight contact strength (peeling strength) between an insulating film and a copper layer from getting worse, even in a thermal history received under a manufacturing process of the flexible substrate, in particular, suitable for forming a fine pattern and for mounting a COF.例文帳に追加
フレキシブル基板の製造工程下で受ける熱履歴においても、絶縁フィルムと銅層との密着強度(ピール強度)の低下が少ない2層フレキシブル基板、特にファインパターン形成、COF実装に適した2層フレキシブル基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a high definition image free from image blurring and image flowing under a high humidity, as to an electrophotographic device provided with an electrophotographic photoreceptor with a protecting layer with conductive particles contained and as to a process cartridge equipped with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
導電性粒子を含有させた保護層を有する電子写真感光体1を装置内に有する電子写真装置、ならびに該電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ11について、高湿下における画像ボケ、流れのない高品位の画像を得ること。 - 特許庁
To provide a piston ring having a composite film excellent in initial fitness even in the case of being used under the high temp. high load condition of a diesel engine or the like, free from the generation of scuffing in the process of initial fitting driving and excellent in scuffing resistance even after the completion of the initial fitting.例文帳に追加
ディーゼルエンジン等の高温高負荷の条件下で使用する場合でも初期なじみ性に優れ、初期なじみ運転中にスカッフィングを発生せず、初期なじみ終了後においても耐スカッフィング性に優れた複合皮膜を有するピストンリングを提供する。 - 特許庁
To obtain a device for enhancing container slipperiness, a method of enhancing container slipperiness, and a container, by which the slipperiness of a container can be enhanced under a simple process at a low cost, without having to add any large technical alterations to a conventional container production line or filling line, or the like.例文帳に追加
従来の容器製造ラインや充填ライン等に大幅な技術的変更を加えることなく、簡単な方法で安価に容器の滑り性を向上させることがきる容器の滑り性向上装置及び滑り製向上方法、並びに容器を得る。 - 特許庁
Thereafter, an AlN layer 30 is formed as a surface protecting film on the upper front surface 28 of the AlGaN layer under the condition that the GaN semiconductor substrate is kept to 500°C or higher but to the temperature equal to the growth temperature or less, following the process to form the GaN semiconductor substrate.例文帳に追加
GaN半導体基板を形成する工程に引き続いて、GaN半導体基板を500℃以上成長温度以下の温度に保持した状態で、AlGaN層の上側表面28上に、表面保護膜としてAlN層30を形成する。 - 特許庁
To provide a cleaning device which can supply a specified amount of a lubricant to an image carrier and/or an intermediate transmission member by allowing the lubricant to abut on a supplying member always under a constant pressure, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus, and toner used for the same.例文帳に追加
滑剤が常に一定の圧力で供給部材に当接させることで、像担持体及び/又は中間転写体に一定量の滑剤を供給できるクリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置また、これらに用いられるトナーを提供する。 - 特許庁
(1) The installation process of a joint forming member in which a joint forming member 25 with a flexible backup material 25a and a flexible cementing material 25b joined with the backup material under the state in which the cementing material can be peeled is mounted on the end panel 21a of an existing secondary lining section 21.例文帳に追加
(1)可撓性のバックアップ材25aと前記バックアップ材に剥離可能な状態で接合されている可撓性の接合材25bとを備える目地形成部材25を、既設の二次覆工部21の妻面21aに設置する目地形成部材の設置工程。 - 特許庁
The manufacturing method of the precursor of the bulky body comprises laying the porous sheet having the shape memory property and the sheet-like material into layers with an adhesive in between, applying pressure and heat to the thickness direction and cooling under the pressured condition to a temperature lower than the heating temperature in the pressurizing/heating process.例文帳に追加
また、形状記憶性を有する多孔シートとシート状物とを接着剤を間にして重畳し厚さ方向に加圧加熱し加圧状態で該加圧加熱工程における加熱温度より低い温度に冷却する嵩高体前駆体の製造方法である。 - 特許庁
The method for producing the luminescent yarn emitting light from its surface includes the following process: an optical fiber 12 is helically wrapped, under tension and at a predetermined pitch, around a core yarn 11, thus effecting the formation of many cracks on the surface of the optical fiber 12.例文帳に追加
糸の表面から光を発光する発光糸の製造方法において、芯糸11の周囲に所定ピッチでテンションを掛けつつ光ファイバ12を螺旋状に巻回し、光ファイバ12の表面に多数のクラックが形成され、発光糸を形成する方法。 - 特許庁
Graphite for a lithium secondary battery negative electrode is obtained by treating carbon precipitated in the cooling process of a metal and carbon under melted conditions, with a carbon content of 90% by mass or more and less than 99% by mass and an average particle size of 200 μm or less.例文帳に追加
金属と炭素の溶融状態の冷却過程に析出した炭素を処理して得られる、炭素含有量が90質量%以上99質量%未満、かつ平均粒径が200μm以下の黒鉛からなるリチウム二次電池負極用黒鉛である。 - 特許庁
Then, when a tap-up operation is performed, or the vehicle is placed under a state that a preceding vehicle is caught (a step S12), the upper limit value for the acceleration is returned to the original αlimO, and the control characteristics of the following running control process are returned to normal control characteristics (a step S14).例文帳に追加
そして、タップアップ操作或いは先行車両を捕捉した状態となったときには(ステップS12)、加速度の上限値を元のαlim0に戻し、追従走行制御処理の制御特性を、通常の制御特性に戻す(ステップS14)。 - 特許庁
In forming a gate electrode film, the silicon substrate is subjected to heat treatment under the condition: M_2/M_1≤2, where M_1 denotes the amount of the nitrogen element in the silicon substrate after a plasma nitriding process and before the heat treatment, and M_2 denotes the amount of the nitrogen element in the silicon substrate after the heat treatment.例文帳に追加
ゲート電極膜の形成にあたっては、プラズマ窒化処理後かつ熱処理前の前記シリコン基板中の窒素元素量をM_1、熱処理後のシリコン基板中の窒素元素量をM_2としたとき、M_2/M_1が2以下となる条件で熱処理を行う。 - 特許庁
(4) The Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism shall, upon application under paragraph (1), inspect the design, manufacturing process and current conditions to certify whether the said aircraft complies with the standards listed below, and shall grant airworthiness certification if he/she finds that the said aircraft meets these standards. 例文帳に追加
4 国土交通大臣は、第一項の申請があつたときは、当該航空機が次に掲げる基準に適合するかどうかを設計、製造過程及び現状について検査し、これらの基準に適合すると認めるときは、耐空証明をしなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
To provide a lithographic printing method, with which no scumming develops on a printed matter even under severe printing conditions and, in addition, a simplified and low cost plate-making process can be realized, by a method wherein a lithographic printing original plate, the hydrophilic layer of which has a high hydrophilicity, is employed.例文帳に追加
親水性層の親水性が高い平版印刷用原版を使用して、厳しい印刷条件においても、印刷物に汚れが発生することがなく、さらに、製版工程の簡素化や、低コスト化を達成することができる平版印刷方法を提供する。 - 特許庁
A method of manufacturing the thin-film magnetic head is characterized in that etching of the sensor film is carried out by switching the incident angle of an etching beam, and when an incident angle in a normal direction with respect to a sensor film surface is 0 degree, etching is carried out under the condition that the incident angle of the etching beam is smaller toward the latter process.例文帳に追加
センサ膜のエッチングはエッチングビームの入射角度を切り替えながら行い、センサ膜面に対する法線方向を入射角度0とすると、そのエッチングビームの入射角度は後になるほど小さくなる条件にてエッチングを行う。 - 特許庁
A tool free production process comprises; preparing a molded member containing a filler or a reinforcement, preparing the decorative film of which at least a surface part is single layered or multilayered, and welding them under electromagnetic incident.例文帳に追加
充填材または強化材を含有した成形部材を準備しその表面の少なくとも一部分を単層又は多層からなる装飾用フィルムを準備し電磁線に入射下において溶着することを特徴とする工具なしの溶着法による製造法。 - 特許庁
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| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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