| 意味 | 例文 |
water processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2015件
In the post processing method of the resist pattern, a coating film is formed on a substrate having a patterned resist film by using a coating forming agent containing a water-soluble resin, the coating film and the patterned resist film are heated, the coating film is brought into contact with water vapor to expand the coating film, and the coating film is removed.例文帳に追加
本発明に係るレジストパターンの後処理方法では、パターン形成されたレジスト膜を有する基板上に、水溶性樹脂を含有する被覆形成剤を用いて被膜を形成した後、上記被膜及びパターン形成された上記レジスト膜を加熱すると共に、上記被膜に水蒸気を接触させることにより被膜を膨張させ、次いで上記被膜を除去する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for smoking dry treatment wherein in order to dry a timber, a heat source is supplied at a low cost, a water content of the timber is lowered by heat, smoke and water vapour generated by combustion to be uniformized, harmful vermin and noxious bacteria are sterilized and high precise dry materials can be provided in order to improve a timber processing accuracy in an architecture field.例文帳に追加
材木を乾燥するため、低コストで熱源を供給し、燃焼により発生する熱・煙・水蒸気により材木含水率を低下させ均一化するとともに、害虫・害菌を殺菌し、建築分野における材木加工精度の向上の為、高精度の乾燥材を提供可能とする燻煙乾燥処理方法及び装置を提供することである。 - 特許庁
In the substrate processing device 1, a liquid film of the hydrogen peroxide water solution is formed on a surface of a semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W in the hydrogen peroxide water solution 143, and a high-temperature SPM immediately after mixing is brought into contact with the semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W with the liquid film of the hydrogen peroxide solution formed on the surface in high-temperature sulfuric acid 103.例文帳に追加
基板処理装置1では、過酸化水素水143に半導体ウエハWを浸漬することにより半導体ウエハWの表面に過酸化水素水の液膜を形成し、表面に過酸化水素水の液膜が形成された半導体ウエハWを高温の硫酸103に浸漬することにより、混合直後の高温SPMを半導体ウエハWに接触させる。 - 特許庁
To provide a water-soluble metal processing oil composition in which emulsification stability, rust-preventive property and lubricity which can practically be satisfied is obtained and problems of deterioration of emulsification by increase of water hardness in metal working is reduced and further, reduction of working environment and global environmental load obtained by nonuse of a nitrogen compound can be performed by optimal selection of an emulsifying agent.例文帳に追加
最適な乳化剤の選定により、実用上満足できる乳化安定性、防錆性、潤滑性が得られ、金属加工での水硬度の増加による乳化劣化の問題が低減し、さらには、窒素化合物を使用しないことによる作業環境、地球環境負荷の低減を図ることができる水溶性金属加工油剤組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a processing method and an apparatus for high nutritive value rice enabling obtaining the high nutritive value rice easily becoming tasty boiled rice in a short time of half and below normal time only through adding water without washing in water, having an advantage of pregelatinization processed rice preservable for a long period and also containing animal and vegetable nutritive powder, vegetable nutritive liquid and vegetable oil nutrient composition.例文帳に追加
水で研ぐことなく単に水を加えるだけで簡単に通常の半分以下の短い時間で美味しいご飯となり、かつ長期保存もできるというα化加工米の長所を有しながら、しかも動植物の栄養粉末、植物性栄養液、植物油の栄養成分を含んだ高栄養価米を得ることができる高栄養価米の加工方法及び装置を得る。 - 特許庁
To provide a method for producing feed having discarded bread as the raw material, enabling effectively processing a large amount of discarded bread which is discarded everyday, decreasing the necessary amount of clear water and enzyme, requiring no extra raw material besides discarded bread, having slight water content to make bulk (volume) small, hard to turn sour and enabling liquid feed easy to preserve and transport.例文帳に追加
毎日廃棄される膨大な廃棄パンを効率的に処理することができ、上水や酵素の必要量を低減でき、廃棄パン以外の余分な原料を必要とせず、水分が少なく嵩(容積)を小さくでき、腐敗しにくく、保管や運搬が容易な流動性飼料を製造することができる廃棄パンを原料とする飼料製造方法を提供する。 - 特許庁
The present invention relates to the method of manufacturing the IGZO-based amorphous oxide thin film by forming the IGZO-based amorphous oxide thin film on a substrate by sputtering and then performing annealing processing, in which the amorphous oxide thin film having the arbitrary electric resistance value within the range from the conductor region to the insulator region is manufactured by changing a combination of an amount of water in a film forming device and temperature of the annealing processing.例文帳に追加
IGZO系アモルファス酸化物薄膜を基板上にスパッタ成膜し、その後アニール処理してIGZO系アモルファス酸化物薄膜を製造する方法であって、成膜装置内の水分量とアニール処理の温度の組み合わせを変化させて、導電体領域から絶縁体領域の範囲内の任意の電気抵抗値を有するアモルファス酸化物薄膜を製造する。 - 特許庁
To keep insulating resistance by preventing the penetration of water, steam, etc., by densifying the top surface of a ceramic wiring board without spoiling debinding property, to reduce trouble accompanying wet type processing such as plating by improving washability by decreasing air pores present on the top surface, and to reduce trouble accompanying processing for coating the surface such thin-film formation.例文帳に追加
セラミック配線基板の表面を脱バインダ性を損ねることなく緻密化させて、水分や水蒸気等の浸透を防ぎ絶縁抵抗を保たせること、及び表面に存在する気孔を減少させ洗浄性を向上させメッキ等の湿式処理に伴う不都合を減少させること及び薄膜形成等の表面をコートする処理に伴う不都合を減少させることを課題としている。 - 特許庁
To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can suppress formation of a water mark in a surface of a substrate to be processed and corrosion of a copper interconnection exposed in a surface of the substrate to be processed when the substrate to be processed such as a semiconductor wafer is subjected to cleaning treatment by cleaning liquid containing hydrofluoro ether.例文帳に追加
半導体ウエハ等の被処理基板に対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液により洗浄処理を行う際に、当該被処理基板の表面にウォーターマークが形成されたり、あるいは被処理基板の表面で露出している銅配線が腐蝕してしまったりすることを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
A silver halide photographic sensitive material having 40-120° contact angle of the surface on the silver halide emulsion layer side with pure water is subjected to dry-to-dry processing with an automatic processing machine for 20-60 sec.例文帳に追加
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の、表面の純水による接触角が40°〜120°であるハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機を用いてDryto Dryで20〜60秒で処理するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、及びハロゲン化銀乳剤層を有する側の、表面の純水による接触角が40°〜120°であるハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁
To allow foaming molding processing of polylactic acid resin foaming particles, which can produce a foamed molded product when they are heated with water at 60-100°C and have crystallinity of ≤30% and an open cell ratio of ≤30%, in an optional place at optional time.例文帳に追加
60〜100℃の水で加熱することで発泡成形体を得ることのできる結晶化度が30%以下でかつ連続気泡率が30%以下のポリ乳酸系樹脂発泡粒子を、任意の場所でかつ任意のときに発泡成形処理できるようにする。 - 特許庁
When saturated steam, remaining air and water drops or the like which invade to a part between the recessed part 8 and the packing 7 are heated during the sterilizing processing and expanded after changing into steam, the steam is discharged to the chamber through the notched grooves 10 by way of the ring shape groove 9.例文帳に追加
前記凹部8とパッキン7との間に浸入した飽和蒸気や残留空気,水滴等が滅菌処理中に加熱されて蒸気となり膨張した場合、その蒸気は前記環状溝9を経て切込み溝10を通ってチャンバ内に放出される。 - 特許庁
A wafer W is equipped with a resist cured film 79 formed through an ion implantation process, and the wafer W is subjected to processing so as to expose the resist cured film 79 to water vapor kept at a prescribed temperature, whereby the the resist cured film 79 is popped out (step 4).例文帳に追加
イオン注入処理等によって形成されたレジスト硬化膜79を備えたウエハWを、このレジスト硬化膜79が所定温度の水蒸気に曝されるように処理することによってレジスト硬化膜79にポッピングを生じさせる(ステップ4)。 - 特許庁
The processed cheese having good machinability is obtained by adding molten salt and water to natural cheese containing 50-100 wt.% of the specially hard natural cheese, and heating and stirring the mixture to be molten so as to obtain processed cheese having the flavor of the specially hard natural cheese and applicable to machine processing into small pieces.例文帳に追加
本発明によれば、特別硬質ナチュラルチーズを50〜100重量%で含むナチュラルチーズに溶融塩と水を加えて加熱攪拌溶融することにより、特別硬質ナチュラルチーズの風味を有し、小片状への機械加工を可能としたプロセスチーズ類を得ることができた。 - 特許庁
This aroma composition is characterized by containing an extraction fraction obtained by extraction of an oak material with an ethanol solution prepared by distilling the fermentation product of a mixture of water and a vegetable raw material containing saccharides or amyloids, and having an action for improving the efficiency of the processing functions of brains.例文帳に追加
糖質またはデンプン質を含む植物性素材と水とを原料として発酵させたものを蒸留してなるエタノール溶液により、オーク材を抽出することで得られる抽出画分を含んでおり、脳の処理機能を効率化させる作用を有する。 - 特許庁
To provide a dielectric material containing elements of Si, C, O and H, having specific mechanical property values (tensile stress, elastic modulus, hardness, cohesive force, and crack speed in water) which provide stable ultralow-k film without deterioration arising from steam or integration processing.例文帳に追加
Si、C、OおよびH元素を含み、水蒸気または集積化処理によっても劣化しない安定した超低k膜を与える特定の機械特性(引張応力、弾性率、硬さ、凝集強度、水中亀裂速度)値を有する誘電体材料を提供する。 - 特許庁
The lubricant for hot plastic processing includes 20-40 mass% of iron oxide and 10-30 mass% of sodium silicate and has an impurity content of at most 3 mass% and a water content of 40-60 mass%.例文帳に追加
熱間塑性加工用潤滑剤であって、酸化鉄20〜40質量%、珪酸ナトリウム10〜30質量%を含有し、不純物が3質量%以下であり、かつ、水分が40〜60質量%であることを特徴とする熱間塑性加工用潤滑剤。 - 特許庁
To provide a dielectric material which includes Si, C, O and H atoms and has specific mechanical characteristic (tensile stress, degree of elasticity, hardness, cohesive strength, crack velocity in water) values giving stable ultralow k film which is not deteriorated by steam or integration processing.例文帳に追加
Si、C、OおよびH元素を含み、水蒸気または集積化処理によっても劣化しない安定した超低k膜を与える特定の機械特性(引張応力、弾性率、硬さ、凝集強度、水中亀裂速度)値を有する誘電体材料を提供する。 - 特許庁
Control machines 7 of respective observation facilities 10 are provided with packet radio machines 14 respectively, and observation data obtained by a water level gauge 11 and a flow velocity measurement part 12 are put together in one by a data processing part 13 and sent from the packet radio machines to a radio packet public network 20.例文帳に追加
各観測設備10の制御機7にパケット無線機14をそれぞれ設け、水位計測部11や流速計測部12で得られた観測データをデータ処理部13で1つにまとめ、パケット無線機から無線パケット公衆網20へ送信する。 - 特許庁
In this case, this processing is executed by first ashing further added with a halogen compound gas, and second ashing to be thereafter performed in an oxygen-rich condition where the composition ratio of oxygen is larger than 2 mol:1 mol as a stoichiometric composition ratio of water (H_2O) in a mixed gas ratio of hydrogen and oxygen.例文帳に追加
この際、さらにハロゲン化合物ガスを添加した第1アッシングと、その後の、水素及び酸素の混合ガス比を水(H_2O)の化学量論組成比である2mol:1molより酸素の組成比が大きい、酸素リッチな状況で行う第2アッシングとにより行う。 - 特許庁
The electrode plate is manufactured by forming a phosphorus-containing layer on the surface of the collector by processing the surface of the collector with a water solution containing metal phosphate salt, and then forming an active material layer on the film layer.例文帳に追加
本発明の電極板は、例えば、リン酸金属塩を含有する水溶液を用いて集電体表面を処理することにより集電体表面にリン含有層を形成し、次いで該被膜層上に活物質層を形成することにより製造される。 - 特許庁
This hygroscopic and exothermic cellulose-based fiber is obtained by providing a cellulose fiber with an aqueous solution containing a polyalkylene glycol, an N-methylol-based resin processing agent, its reaction catalyst and a water-soluble polymer containing a hydroxy group and a sulfonic acid group in the molecule and heat-treating the cellulose fiber.例文帳に追加
セルロース繊維に、ポリアルキレングリコール、N-メチロール系樹脂加工剤とその反応触媒および分子中に水酸基とスルホン酸基を有する水溶性ポリマーを含む水溶液を付与し、これを加熱処理して得られる吸湿発熱性セルロース系繊維。 - 特許庁
To provide a removing processing method of a chimney inner surface attachment and its device, capable of cleaning an inner surface of a chimney, by easily and surely removing an attachment without using water and a solid grinding material, in the device for removing the attachment of a chimney inner surface.例文帳に追加
煙突内面の付着物を除去する装置において、水や固体の研削材を使用せずに簡単かつ確実に付着物を除去し煙突の内面を洗浄できるようにした煙突内面付着物の除去処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a water-based coolant capable of surely preventing occurrence of a trouble such as discoloration or roughening of a workpiece surface after processing even if the workpiece of interest has a large-sized or complicated shape; and to provide a method of cutting a metal.例文帳に追加
対象となる被加工物が大型ものや複雑な形状を有したものの場合においても加工後の被加工物表面に変色や荒れなどのトラブル発生を確実に防止することが可能な水系クーラントおよび金属の切削加工方法を提供すること。 - 特許庁
To improve a cooling effect, to shorten a cooling time, to eliminate dispersion variation of a cooling rate of each part of a poultry carcass, to thereby control a water content and to prevent deterioration of meat qualities in a cooling process after evisceration in a chicken meat processing process.例文帳に追加
鶏肉加工工程における中抜き後の冷却工程において、冷却効果を向上させて冷却時間を短縮するとともに、食鳥の屠体の各部位の冷却速度のバラツキをなくし、これによって含水率を抑え、かつ肉質の劣化を防止する。 - 特許庁
The sheet is obtained by subjecting a quilting laminated fabric having a fibrous activated carbon cloth sandwiched by a base material (protective layers for the adsorbent) excellent in air permeability and flexibility to immersion treatment in a water dispersion-base binder resin processing bath (by dipping and nipping) and then to drying and fixing treatment (by drying and curing).例文帳に追加
通気性、柔軟性に優れた基材(吸着材保護層)で繊維状活性炭布を挟み込んだキルティング積層布帛を水分散系のバインダー樹脂加工浴により浸漬処理(ディップ・ニップ)し、乾燥・固着処理(ドライ・キュア)を施して得られる - 特許庁
To provide a fabric giving a refrigerant feeling by using a fabric (including a knit fabric, a woven fabric and a nonwoven fabric) prepared by chemically and thermally processing a lining of a cap and the like (including a hair band) and reacting water in 'sweat' generated during putting on the cap with the fabric.例文帳に追加
帽子等(ヘアーバンドを含む)の裏生地に、化学的な加工及び熱加工を施した布地(編物、織物、不織布を含む)を使用することにより、帽子を着用時、頭部に発汗した「汗」の水分と反応させ、清涼感が得られる布地を提供する。 - 特許庁
In this instance, the flow rate of the N2 gas is kept at a high flow rate, and surfaces of the wafers 100 are dried by irradiating the part of the wafers 100 appearing from the deionized water inside the processing vessel 3 to the N2 gas atmosphere with the infrared light generated by the halogen lamp 7.例文帳に追加
このとき、N_2 ガスの流量を高流量に保ち、処理槽3内の純水からN_2 雰囲気中に現れるウエハ100の部分にハロゲンランプ7により発生された赤外線を照射することにより、ウエハ100の表面を乾燥させる。 - 特許庁
The profile surface Wa is preliminarily subjected to surface roughing processing at a predetermined position on a lower mold 2 by cutting or grinding and the sector mold W made of a metal such as an aluminum alloy or the like of which the surface is treated with a water soluble reducing agent is set so that its profile surface Wa becomes an inner surface side.例文帳に追加
下型2上の所定位置に予めプロファイル面Waを切削や研磨等により祖面加工し、水溶性還元剤で表面処理したアルミ合金等の金属製のセクターモールドWをプロファイル面Waを内面側としてセットする。 - 特許庁
The preferable form of the stress microcirculation disorder-improving agent is provided by reducing a water content to 6-8% by irradiating for heating the leaf part of the tea at approximately 50°C and also inactivating enzymes, and then crushing for processing to ≤1 micron fine powder.例文帳に追加
ストレス性微小循環不全改善剤の好ましい形態は、チャの葉の部分を50℃程度で遠赤外線照射加熱で水分を6〜8%に減らし、且つ、酵素を不活性化した後、粉砕して1ミクロン以下の微粉末に加工した形態である。 - 特許庁
To provide a telemetric apparatus that can feed, for a long time, various information data such as water pressure and a flow detected by various sensors arranged at underground domestic fluid equipment in a manhole to a central processing apparatus installed at a ground management center.例文帳に追加
マンホール内の生活流体地下設備に設置された各種センサーで検出した水道水などの圧力や流量などの各情報データを、地上の管理センターに設置された中央処理装置に長時間送給できるテレメータ装置を提供する。 - 特許庁
A work composed of the ceramic element 12 and the burned electrode 20 formed thereon is dipped into a processing solution 42 containing a surface treating agent that includes adsorption radicals and water-repellent radicals so as to undergo a surface treatment, and thereafter the plating electrode is formed on the burned electrode 20.例文帳に追加
吸着基と撥水基とを含む表面処理剤を含む処理溶液42の中に、セラミック素体12に焼付け電極20を形成したワークを浸漬して表面処理を行い、その後、焼付け電極20上にめっき電極を形成する。 - 特許庁
This processing method comprises soaking green vegetables in an alkali aqueous solution, heating the vegetables in hot water or steam, and further soaking the vegetables in an aqueous solution containing a substance having bacteriostatic action or spraying an aqueous solution containing a substance having bacteriostatic action to the vegetables.例文帳に追加
緑色野菜をアルカリ性水溶液に浸漬し、次に野菜を熱水または蒸気中で加熱し、更に野菜を静菌作用を有する物質を含有する水溶液に浸漬するか、または該野菜に静菌作用を有する物質を含有する水溶液を噴霧する。 - 特許庁
The pH measuring unit 2B measures the pH of the ultrapure water, which shows a known pH level, within a given time by the start of the next board processing in a process tank 19, and puts a detected signal indicating pH measurement into the controller 16.例文帳に追加
pH計測部2Bは、処理槽19において次の基板処理が開始されるまでの所定の時間内に、既知のpH値を示す上記超純水のpH値を計測し、この計測したpH値を表す検出信号をコントローラ16に入力する。 - 特許庁
Thus, even if pre-air-conditioning operation is executed, whether or not the actual fuel temperature in the evaporation system exists in a proper range for leak diagnosis, can be determined based on the cooling water temperature, and leak diagnostic processing can be properly controlled.例文帳に追加
このことによりプレ空調作動がなされていたとしても、冷却水温に基づいてエバポ系内での実際の燃料温度がリーク診断に適切な範囲にあるか否かが判定でき、エバポリーク診断処理に対する制御を適切に行うことができる。 - 特許庁
To provide a cleaning device arranged to clean a polished wafer at an enhanced processing speed, while reducing the amount of pure water used, and to rearrange a plurality of cleaning tanks optimally, depending on the cleaning process.例文帳に追加
純水使用量を節減しつつ研磨後のウェハに処理速度を高めた洗浄処理を施し、複数の洗浄処理槽を洗浄処理プロセス等に応じて、より最適な配列に入れ替え並べ替えることを可能とした装置構成の洗浄装置を提供する。 - 特許庁
A PC 10 which operates as the printer control device making a printer execute processing for superposing and printing a water mark on a print object image to be printed on a paper comprises a mark area setting part 209 and a mark print command generation part 210.例文帳に追加
用紙上に印刷される印刷対象画像に対してウォータマークを重ねて印刷する処理をプリンタに実行させるプリンタ制御装置として動作するPC10には、マーク領域設定部209と、マーク印刷コマンド生成部210とが含まれている。 - 特許庁
The development processor for processing a photosensitive planographic printing plate having an image forming layer and an oxygen blocking layer on a supporting body processes the removed oxygen blocking layer dissolved in washing water by the following means (A) and (B).例文帳に追加
支持体上に画像形成層、酸素遮断層を有する感光性平版印刷版を処理する現像処理装置において、取り除き、且つ、水洗水に溶解した該酸素遮断層を以下のA)、B)の手段で処理することを特徴とする現像処理装置。 - 特許庁
Since an IPA water vapor can be supplied in the chamber 5 or the chamber 5 can be decompressed, ozone treatment, surface treatment with a process liquid, and a dry process are carried out in a single chamber 5, resulting in a smaller footprint of the substrate processing equipment 1.例文帳に追加
さらに、チャンバ5内へのIPA蒸気供給やチャンバ5内の減圧を行うこともできるため、オゾン処理、処理液による表面処理、乾燥処理を一つのチャンバ5内にて行うことができ、基板処理装置1のフットプリントを小さくすることができる。 - 特許庁
As a result of this, particles contained in a processing solution left on the lower part of the wafer W are diffused together with a flow of overflowing pure water L and removed, and the particles can be prevented from readhering to the wafer, when the wafer W is reimmersed.例文帳に追加
これにより、半導体ウエハWの下部に残留する処理液に含まれるパーティクルを、オーバーフローの流れに乗せて拡散し、除去することができると共に、再び浸漬する際に半導体ウエハW上へのパーティクルの再付着を防止することができる。 - 特許庁
To provide a method for processing wastewater containing fluorides which can increase the recovery ratio of water by efficiently separating treatment of wastewater containing HF, HBF_4 and NH_4F without clogging the reverse osmosis membrane, and which can highly effectively process the wastewater with a small amount of chemicals.例文帳に追加
HF、HBF_4、NH_4Fを含有する排水を、逆浸透膜の目詰まりなしに効率良く分離処理して水回収率を高めることができ、且つ、少ない薬品量で高効率に処理可能なフッ化物含有排水の処理方法を提供する。 - 特許庁
It is preferable to continuously supply to the front tank 12 electroanalyzed liquid prepared by electroanalyzing sea water containing at least an organic acid, and to continuously supply the acidic processing agent to the backside tank 13 followed by treating by soaking treatment or scattering treatment.例文帳に追加
前部処理槽12には、少なくとも有機酸を含有した海水を電気分解で調製した電気分解液を連続的に供給し、後部の処理槽13には、酸処理剤を連続的に供給して、浸漬処理又は散布処理で処理することが好ましい。 - 特許庁
To provide a filter like a bag filter of a dust collector requiring heat resistance and a filter surface processing method capable of enhancing chemical resistance, water repelling property, low friction resistance or dust detaching property.例文帳に追加
本発明は集塵機のバグフルタのような耐熱性を必要とされるフィルタ及びフィルタ表面加工方法に関し、濾過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することができるようにすることを目的とする。 - 特許庁
The fitting member comprises the aluminum shape 1 as a base material or a material treated with an anodic oxide coating, the aluminum shape having on its paper-covered surface a coating layer made of a processing agent 3 obtained when a water-soluble emulsion composed chiefly of acrylic resin or urethane resin is mixed with magnesium carbonate of 5 to 20 pts.wt.例文帳に追加
アクリル樹脂又はウレタン樹脂を主成分とした水溶性エマルションに、炭酸マグネシウム5〜20重量部を混合した処理剤3による皮膜層を、生地材またはアルマイト処理材であるアルミニウム形材1の紙貼り面に備えている建具材。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, where defects occur on the surface of a wafer before and after the water is subjected to processing are compared with each other, in a manner in which defects are assorted by kind, and the defects of the same kind are compared with each other so as enable precise discrimination of one from the other, in a process of manufacturing an LSI wafer.例文帳に追加
LSIウェハの製造工程において、ウェハを処理する前と後とでウエハ上に発生した欠陥を種類毎に比較することにより、欠陥を的確に判別することができる半導体デバイスの製造方法を提供する - 特許庁
To provide a fuel cartridge having a structure capable of improving the volume efficiency of a fuel cell system while having sufficient capability for processing generated water and a by-product generated in an electromotive part, and to provide a fuel cell system provided with it.例文帳に追加
起電部で生成された生成水および副生成物の十分な処理機能を備えつつ、燃料電池システムの容積効率を向上させることが可能な構成を有する燃料カートリッジ及びそれを備えた燃料電池システムを提供すること。 - 特許庁
This solid processing agent does not contain a boron compound but contains a water-soluble aluminum salt, saccharides and at least one kind of carboxylic acid, its derivative and its salt.例文帳に追加
ホウ素化合物を含有せず、水溶性アルミニウム塩、糖類及び少なくとも1種のカルボン酸とその誘導体並びにその塩を含有し、かつ該糖類の分子中の炭素数aと該カルボン酸の炭素数bの比a/bが1以下であることを特徴とする定着用固体処理剤。 - 特許庁
This water-soluble, metal-processing oil solution composition comprises 0.1-10 wt.% unsaturated fatty acid and 0.02-10 wt.% heterocyclic compound including imidazole, pyrazol, pyrazolone, tetrazole, furan, triethylenediamine, isocyanuric acid, piperazine, hydration, phthalic imide, thiazoline, isothiazoline, dithiazine, thiadiazine or triazine.例文帳に追加
不飽和脂肪酸0.1〜10質量%及びイミダゾール、ピラゾール、ピラゾロン、テトラゾール、フラン、トリエチレンジアミン、イソシアタル酸、ピペラジン、ヒダントイン、フタル酸イミド、チアゾリン、イソチアゾリン、ジチアジン、チアジアジン、トリアジンなどの複素環化合物0.02〜10質量%を含有する水溶性金属加工油剤組成物。 - 特許庁
This method for enriching and processing polyphenol of cereal includes soaking cereal with husk in water under a pressurization and/or heating condition so as to increase the polyphenol component and infiltrate and move from the husk to the inside, and enrich polyphenol component in an inside edible part.例文帳に追加
本発明の穀物のポリフェノール富化加工方法は、外皮付き穀物を加圧下、および/または加温下で、水に浸漬することにより、ポリフェノール成分を増加させると共に外皮から内側に浸透移行させ、内側の可食部分にポリフェノール成分を富化する。 - 特許庁
The aqueous washing composition is used for the wafer having copper wiring after the treatment by the chemical mechanical planarization in integrated circuit processing and the composition comprises 0.1-15 wt.% nitrogen-containing heterocyclic organic base, 0.1-35 wt.% alcoholamine and water.例文帳に追加
本発明は、集積回路プロセシングにおける化学機械平坦化処理後の、銅配線を有するウェハーに使用される水性洗浄組成物に関し、該組成物は0.1〜15重量%の含窒素複素環有機塩基と、0.1〜35重量%のアルコールアミンと、水とを含む。 - 特許庁
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