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めにかけるの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6927



例文

光のみによって硬化する液晶表示素子用硬化性樹脂組成物であって、1分子中に水素結合性官能基と2以上の(メタ)アクリル基とを有し、1分子内の水素結合性官能基量が3.5×10^-3以上である硬化性樹脂100重量部に対して、光ラジカル重合開始剤0.1〜20重量部を含有する液晶表示素子用硬化性樹脂組成物。例文帳に追加

The curable resin composition for the liquid crystal display element hardens only with light and contains 0.1-20 weight part radical photo-polymerization initiator with respect to 100 weight part curable resin having 3.5×10^-3 or more hydrogen bonding functional groups and two or more (meth)acrylic groups in a molecule. - 特許庁

タイミングチェーンカバー4の外方面側において、オルターネータプーリ、パワーステアリングポンププーリ、エアコンコンプレッサプーリ、ウォータポンププーリ45aをクランクプーリ41の駆動回転により従動回転させるようにサーペンタインベルトを巻き掛けると共に、サーペンタインベルトの張力を調整するベルトテンショナ5を配置する。例文帳に追加

A serpentine belt is wrapped outside the timing chain cover 4 so that an alternator pulley, a power steering pump pulley, an air conditioning compressor pulley and a water pump pulley 45a are driven for rotation by driving rotation of a crank pulley 41, and a belt tensioner 5 is arranged to adjust tension of the serpentine belt. - 特許庁

有機ポリマーの基本材料となる透明な基材ポリマーに微粒子を均一に分散させ、波長587nmの光に対する屈折率をn_d ,アッベ数をAとしたとき、 n_d ≧−4.80×10^-3A+1.81 A≧40 の条件を満たし、かつ波長587nmの光に対する透過率として80%以上を得る。例文帳に追加

Fine particles are uniformly dispersed in a transparent base polymer as the basic material of the organic polymer to obtain a material satisfying the conditions of nd≥-4.80×10-3A+1.81 and A40, wherein nd is the refractive index for light at 587 nm wavelength and A is the Abbe number, and ≥80% transmittance for light at 587 nm wavelength. - 特許庁

チョクラルスキー法によりシリコン単結晶を製造する方法において、単結晶を育成する際に、ボロン及び炭素を、単結晶中の濃度が合せて1×10^17atoms/cc以上の範囲となるようにドープして、結晶全面がN領域及び/又はI領域の単結晶を育成することを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。例文帳に追加

In the method for manufacturing the silicon single crystal by a Czochralski method, the single crystal in which the whole surface of the crystal is the N region and/or I region is grown by doping boron and carbon so that the total concentration of the dopants in the crystal becomes within a range of ≥1×10^17 atoms/cc when the single crystal is grown. - 特許庁

例文

チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶ウエーハであって、少なくとも、低温熱処理を行った場合に発生するBMDが、強度300mW以上のレーザー光を用いた赤外散乱トモグラフ法により検出した時に、1×10^9個/cm^3以上であることを特徴とするシリコン単結晶ウエーハ。例文帳に追加

The silicon single-crystal wafer, grown by the Czochralski Method has BMD (bulk microdefects) produced during a low-temperature heat treatment, when it is detected by infrared light scattering tomography by using laser light having intensity of 300 mW or higher, the number of the BMD is to be at least10^9/cm^3. - 特許庁


例文

フォトリソグラフィーを用いて、シリコン基板101上にNMOS領域に開口部を有するレジストマスクRM3を形成し、その上から15kVの加速電圧で、ドーズ量1×10^15/cm^2のN_2(窒素)イオンをイオン注入して、NMOS領域のシリコン基板101内に窒素を導入する。例文帳に追加

Photolithography is used to form a resist mask RM3 having an opening on an NMOS region on a silicon substrate 101, N_2 (nitrogen) ions of dose of10^15/cm^2 are implanted therefrom at an acceleration voltage of 15 kV, thereby introducing a nitrogen into the silicon substrate 101 of the NMOS region. - 特許庁

管内を流れる流れの壁面境界層内に形成される渦に関して、前記渦の渦径と回転速度で定義される渦の流体力学的特性時間、あるいは流れにより発生する圧力損失dp0と流れの代表長さDの積dp0×Dに基づいて、流体摩擦の評価あるいは予測をおこなう。例文帳に追加

Relating to a vortex formed in a wall surface boundary layer of a current flowing in a pipe, based on hydro dynamic characteristic time of the vortex defined by a vortex diameter and a rotational speed of the vortex or a product dp0×D of a pressure loss dp0 generated by a flow and its represented length D, fluid friction is evaluated or estimated. - 特許庁

また、体積抵抗1×10^9Ω・cm以上の高抵抗低誘電率の担体液中に、着色剤を分散させたトナー粒子を分散させてなり、電子写真方式により捺染布に直接捺染する電子写真捺染法に用いる液体現像剤であって、該着色剤としてブロンズ粉又はアルミ粉を含有することを特徴とする電子写真捺染用液体現像剤。例文帳に追加

Also, the liquid developer is prepared by dispersing toner particles dispersed with the colorant into a carrier liquid of a high resistance low dielectric constant of volume resistivity of ≥1x10^9 Ωcm and is used for an electrophotographic printing method for directly printing to a printed fabric and the liquid developer for electrophotographic printing containing the bronze powder or the aluminum powder as the colorant. - 特許庁

OH基含有量が20ppm以下、H_2分子の含有量が1×10^17個/cm^3以下、Cl含有量が10ppm以下及び金属不純物含有量の総和が1ppm以下に制御した合成石英ガラスは、紫外線吸収性及び可視光透過性に優れかつ、耐失透性及び耐熱性に優れている。例文帳に追加

The synthetic quartz glass controlled so as to have an OH group content of at most 20 ppm, an H_2 molecule content of at most10^17 molecules/cm^3, a Cl content of at most 10 ppm, and a total metal impurity content of at most 1 ppm is excellent in ultraviolet absorptivity and visible light transmittance and excellent in devitrification resistance and heat resistance. - 特許庁

例文

情報記録媒体の表面形状を所定領域において、光干渉計またはAFMで測定し、円周方向に沿った方向でライン解析し、所定の波長νに対応するPSDと当該所定の波長νの逆数である周波数fとの積PSD×fを算出し、これの最大値を所定の値以下とする。例文帳に追加

The surface shape of the information recording medium is measured in a prescribed area with an optical interferometer or an AFM, to conduct line analysis in the direction along the circumference, the product of a PSD, corresponding to a prescribed wavelength ν and frequency f being the reciprocal of the prescribed wavelength ν, that is, PSD×f, is computed, and the maximum value of PSD×f is at most a prescribed value. - 特許庁

例文

本発明は、スミア検出ラインから抽出したスミア信号の水平方向のノイズを抑制し、さらにスミア信号に適度なゲイン調整を掛けることにより大きなスミアを検出した時の過補正を緩和できるようにしたCCD固体撮像素子のスミア補正方法及びこのスミア補正方法を用いたCCD固体撮像装置を備えた電子機器を提供するものである。例文帳に追加

To provide a method for correcting smear of a CCD solid state image sensor in which overcorrection can be relaxed when a large smear is detected by suppressing horizontal noise of a smear signal extracted from a smear detection line and regulating the gain of the smear signal appropriately, and to provide an electronic apparatus comprising a CCD solid imaging device employing the smear correction method. - 特許庁

半導体基板11に、ゲート絶縁膜15bを有するMOSトランジスタと、容量絶縁膜15aを有する容量素子17とを形成する半導体装置の製造方法は、半導体基板11に素子分離領域12を形成した後、素子分離領域12上に、不純物濃度が約1×10^19cm^-3以上のシリコンからなる下部電極13を形成する。例文帳に追加

In the method for fabricating a semiconductor device where an MOS transistor having a gate insulating film 15b and a capacitance element 17 having a capacitance insulating film 15a are formed on a semiconductor substrate 11, an isolation region 12 is formed on the semiconductor substrate 11 and then a lower electrode 13 of silicon having impurity concentration of about 1×10^19 cm^-3 or above is formed on the isolation region 12. - 特許庁

情報提供装置に、単位領域101ごとに、携帯端末によって位置情報を送信する必要がある情報送信必要領域101a(○)又は携帯端末によって位置情報を送信する必要がない情報送信不必要領域101b(×)であることを示す情報送信判断情報を付加した簡易地図データ100を記憶しておく。例文帳に追加

This information-providing apparatus stores simple map data 100 obtained by adding information transmission determining information indicating, in each unit region 101, an information transmission necessary region 101a marked by (○) where position information is required to be transmitted by a portable terminal or an information transmission unnecessary region 101b marked by (×) where the position information is not required to be transmitted by the portable terminal. - 特許庁

電子写真式画像形成装置に使用される導電性のブラシであって、ブラシに使用される繊維の電気抵抗値が1×10^5Ω・cm以上という比較的高い電気抵抗値においても繊維上の全ての部分で電気抵抗がほぼ変化しないように高分子型帯電防止剤を含有した繊維を使用することを特徴としたブラシ。例文帳に追加

The conductive brush, applied in the electrophotographic image forming apparatus, uses the fiber containing a polymer type antistatic additive so that the electrical resistances are substantially the same in all parts of the surfaces of the fibers, even when the electrical resistance value of the fibers used for the brush is a comparatively a high electrical resistance value of10^cm or higher. - 特許庁

電子写真用感光体の製造としてアルミニウムを主成分とする円筒状基体を切削加工し、その後、珪酸塩を含んだ水により洗浄をおこなうことで10μm×10μm範囲における表面粗さRaが2.5nm以下の範囲である被膜を形成し、その後、プラズマCVD法によりアモルファスシリコン層を堆積させる。例文帳に追加

For manufacturing the electrophotographic photoreceptor, the cylindrical base body mainly consisting of the aluminum is machined, and then, coating film whose surface roughness Ra in the area of 10 μm X 10 μm is set to2.5 nm is formed by cleaning with water incorporating silica salt, and the amorphous silicon layer is heaped by a plasma CVD method. - 特許庁

単結晶の絶縁性基板1上に、Si濃度が4×10^19cm^−3以上である高濃度SiドープGaNバッファ層2をエピタキシャル成長し、このSiドープGaNバッファ層2上に、エピタキシャル成長法により単結晶の結晶構造を有する窒化物半導体層3を形成する。例文帳に追加

A high density Si-doped GaN buffer layer 2 having an Si concentration of10^19cm^-3 or higher is epitaxially grown on a single crystal insulating substrate 1, and the nitride semiconductor layer 3, having a crystal structure of a single crystal is formed by an epitaxially growing method. - 特許庁

U状の茎受け部1aと、このU状の茎受け部1aの一方の上部に連設された吊り用フック部1bとを有する植物栽培用吊りフックにおいて、吊り用フック部1bの内部開口を、掛けるべき横パイプの径よりも大径とし、茎受け部1aの下部に、棒状の脚部1cを連設し、茎受け部1aの先端に茎を係止可能な段部1dを形成した植物栽培用吊りフック。例文帳に追加

This hanging hook for plant cultivation has a U shape stem receiving part 1a, and a hanging hook part 1b consecutively installed on the one upper side of the U shape stem receiving part 1a. - 特許庁

伸縮性たて編地であって、非弾性糸と弾性糸とを同行させ、各編針において非弾性糸と弾性糸とを共に開き目により1×1トリコットに編成された伸縮性たて編地および、それを複数枚重ね貼り合わせたボンデッドファブリックは、ほつれが抑制され、縁部の縁始末が不要である。例文帳に追加

The elastic warp knit is obtained by using a non-elastic yarn and an elastic yarn traveling with each other, and knitted by each needle in which the non-elastic and elastic yarns are 1× 1 tricot in open eyes, and the bonded fabric obtained by bonding more than one warp knits has suppressed fraying and free from needs of edge finishing. - 特許庁

本発明は、基板上に触媒金属の薄膜を形成し、これを1×10^−4トール以下の減圧下で、600〜1000℃に加熱する前処理を行ったのち、プラズマCVD法により、基板上にカーボンナノチューブを垂直配向させて成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法である。例文帳に追加

This method for producing the carbon nanotube comprises forming a thin film of a catalyst metal on the substrate, carrying out a pretreatment of heating the thin film at 600-1,000°C under a reduced pressure of ≤1×10^-4 Torr, and growing the carbon nanotube vertically oriented on the substrate by a plasma CVD process. - 特許庁

前工程と後工程が別々の製造業者ないし産地で行われる還元焼成瓦の製造方法において、白地又は素焼きした半製品の瓦を出荷する際において生ずる問題、すなわち雨に濡れて吸水吸湿し、埃を被ること、運搬中や積み降ろし時に割れを生じ易いこと、釉薬を掛ける際の釉薬の濃度調整が容易でないこと等の問題を解消する。例文帳に追加

To provide a process for producing roof tiles in the case that the pre-step and post-step of a process for producing reduction fired roof tiles are carried out by separate manufactures or in separate producing areas. - 特許庁

透明支持体上に少なくとも1層の低屈折率層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムの薬品処理前後で行ったラビングテスターを用いたスチールウール擦り試験による擦り部の反射率変化ΔRが薬品処理前におけるスチールウール未擦り部の反射率をR1とした時にΔR<(5-R1)×0.5である光学フィルム。例文帳に追加

The optical film having at least one low refractive index layer on a transparent support, wherein reflectance variation ΔR of a scratched part by a steel wool scratch test using a rubbing tester performed before and after the chemical treatment of the optical film satisfies ΔR<(5-R1)×0.5, where R1 is the reflectance of an unscratched part by the steel wool before the chemical treatment. - 特許庁

それによると、日本発着の国際航空輸送は、津波の直接的影響を受けた空港を除き、通常通り行うことが可能であり、日本発着の国際航空輸送に制限を掛ける医学的根拠は現時点ではないが、今後とも国連機関が状況を綿密に監視しており、助言をすることとなっている。例文帳に追加

According to the press release, international aviation transportation to and from Japan could be safely carried out as usual. Naturally, the airports directly affected by tsunami were excluded for use. The restriction on international air travel to and from Japan was not necessary based on the extant medical grounds, and the UN said it would continuously monitor the situation and give advice as needed. - 経済産業省

その理由として、世界的な重複上場解消の流れや我が国の経済成長の落ち込み等に加え、例えば外国企業の上場にあたって過去5期分の会計報告についての日本語での開示義務があること、金融長官が公益または投資者保護に欠けることがないものとして認めた外国会計基準を除き、日本の会計基準での開示が求められていること、金融産業や法律事務所、会計事務所等の人材不足等の課題が指摘されている。例文帳に追加

The causes for this are said to be that listing foreign companies in Japan requires, for instance, that the accounting reports for the last five periods be disclosed in the Japanese language and based on Japanese accounting standards unless otherwise approved by the Commissioner of the Financial Services Agency as foreign accounting standards that adequately protect the public interest or investors and that the financial industry, law and accounting firms, and related businesses lack human resources, in addition to the worldwide trend of eliminating cross listing and the slowdown in Japan’s economic growth. - 経済産業省

本発明のポリオレフィン系樹脂積層発泡体は、ポリオレフィン系樹脂発泡シートの少なくとも片面に合成樹脂層が積層されてなる積層発泡体において、該合成樹脂層が最外層にポリオレフィン系樹脂層を有する1層以上のものであり、該ポリオレフィン系樹脂層には表面固有抵抗が1×10^13(Ω/□)以下となるようにポリマータイプの帯電防止剤が含有されていることを特徴とする例文帳に追加

The polyolefinic resin laminated foam is formed by laminating a synthetic resin layer on at least the single surface of a polyolefinic resin foamed sheet and the synthetic resin layer has a polyolefinic resin layer as an outermost layer, and a polymer type antistatic agent is added to the polyolefinic resin layer so that surface resistivity becomes10^13 (Ω/(square)) or less. - 特許庁

原盤の凹凸パターン側を、被加工基板の一方の表面に形成された電子線レジストからなるインプリントレジスト層に押し付け、凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写する転写工程を含み、凹凸パターンにおける1ビットの面積Sbitと、1ビットの4つの角部に前記電子線レジストが到達していない欠け部の面積Schipとの比率〔(Schip/Sbit)×100)〕が2%以上である場合には、原盤における1ビットの角部の形状を変化させるモールド構造体の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the mold structure includes a transfer step to press the projecting and recessing pattern side of a master disk against an imprint resist layer formed on one surface of a substrate to be worked and composed of an electron beam resist so as to transfer the projecting and recessing pattern to the imprint resist layer. - 特許庁

コーディエライト結晶格子中に酸素欠陥または格子欠陥を形成し、あるいは熱衝撃を与えて微細なクラックを形成することにより、コーディエライトハニカム構造体表面に、担持する触媒成分の直径の1000倍以下の直径または幅の細孔を、1×10^11/L以上形成する。例文帳に追加

At least 1×1011/L micropores having diameters or widths of at most 1,000 times the diameter of a catalyst component to be carried are formed on the surface of a cordierite honeycomb structure by forming oxygen defects or lattice defects in cordierite crystal lattices or by forming therein minute cracks by thermally impacting. - 特許庁

酸化タングステンと、溶媒と、イオン添加剤と、を含み、前記イオン添加剤は、前記溶媒中においてテトラメチルアンモニウムイオンよりも小さなイオン半径の陽イオンを生成し、前記イオン添加剤の含有量は、酸化タングステンを20wt%以下含む溶媒20gwに対して1.5×10^−3mol以下であること、を特徴とする光触媒分散体が提供される。例文帳に追加

The photocatalyst dispersion contains a tungsten oxide, a solvent, and ionic additives, wherein the ionic additives generate the cation of an ion radius smaller than a tetramethylammonium ion in the solvent, and the content of the ionic additives is 1.5×10^-3 mol or less based on 20 gw of the solvent containing 20 wt.% or less of the tungsten oxide. - 特許庁

また、本発明の成形体では、周波数45GHzにおける誘電率が4.0以下であり、周波数45GHzにおける誘電正接が5×10^−3未満であり、熱膨張係数が5ppm以上150ppm以下であり、環状オレフィン系樹脂のDMS測定におけるガラス転移温度が200℃以上である。例文帳に追加

In the molding body, the dielectric constant is ≤4.0 at a frequency of 45 GHz, the dielectric tangent is <5×10^-3 at a frequency of 45 GHz, the thermal expansion coefficient is 5 to 150 ppm, and the glass transition temperature, by DMS measurement, of the cyclic olefin based resin is200°C. - 特許庁

親機TR1の制御部1は、各子機TRiから送信されるチェック用メッセージを受信すると各子機TRi毎に個別周期T1〜T4を2倍した所定周期2×Tk(k=1〜4)のカウントダウンを開始し、それぞれのカウントダウンが終了した時点に無線送受信部2を起動する。例文帳に追加

When receiving a message for check transmitted from each slave unit TRi, a control part 1 of a master unit TR1 of a fire alarm system starts the count-down of a prescribed cycleTk(k=1 to 4) obtained by doubling individual periods T1 to T4 by slave unit TRi, and starts a radio transmission/reception part 2 when each count-down ends. - 特許庁

チョクラルスキー法により製造したシリコン単結晶インゴットをスライスして得られたシリコンウェーハを熱処理する方法において、酸素濃度が1.4×10^18atoms/cm^3以上のシリコンウェーハに、酸素含有雰囲気下、最高到達温度を1325℃以上シリコンの融点以下として急速加熱・急速冷却熱処理を行う。例文帳に追加

In the method of heat treating the silicon wafer obtained by slicing a silicon monocrystalline ingot manufactured by Czochralski method, a rapid heating and rapid cooling heat treatment is performed on the silicon wafer which is at least 1.4×10^18 atoms/cm^3 in oxygen concentration under an oxygen-containing atmosphere and at a highest end-point temperature which is at least 1,325°C and not more than the melting point of the silicon. - 特許庁

デュロメータ硬さ試験による硬さ(タイプD)をH、30℃−80%RHにおける吸湿率をW(%)とした時、Hの値が5〜70で、Wの値が0.4〜1.5で、H^2×Wの値が20〜1800である熱可塑性ポリウレタン100重量部、およびイオン伝導性材料0.1〜20重量部からなることを特徴とする半導電性熱可塑性ポリウレタン組成物。例文帳に追加

This polyurethane composition comprises 100 pts.wt. thermoplastic polyurethane having a type-D durometer hardness H of 5-70, a moisture absorption coefficient W(%) of 0.4-1.5, and a value of H^2×W of 20-1,800 and 0.1-20 pts.wt. ionic conductive material. - 特許庁

本発明の光スイッチは、従来のモード展開を利用したY分岐導波路からなる1×2デジタル熱光学スイッチの出力端の両アームに高次モード発生器を利用した可変光減衰器を連結することによって、Y分岐角が大きくなっても、スイッチング電力の増加なしに優秀な光漏話率を維持することができる長所を有する。例文帳に追加

This optical switch has an advantage in that the excellent optical crosstalk rate can be maintained without increasing switching electric power even if a Y-branching angle increases by connecting variable light attenuates utilizing higher order mode generators to both arms at the output ends of the 1×2 digital thermooptical switches consisting of Y-branch waveguides utilizing the conventional mode development. - 特許庁

フェライト材料から構成されるコア1と、コア1の所定領域に巻き回されたコイル導体2と、コイル導体2の周囲に配設されてコイル導体2を封止し、かつ磁性粉末、線膨張率が5.0×10^−6以下の低熱膨張粉末及び熱硬化性樹脂を含む封止部4とを備えている。例文帳に追加

The wire wound electronic component comprises a core 1 composed of a ferrite material, a coil conductor 2 wound around a specified region of the core 1, and a sealing part 4 arranged around the coil conductor 2 to seal the coil conductor 2 and containing magnetic powder, low thermal expansion powder having a coefficient of linear expansion of 5.0×10^-6 or less and thermosetting resin. - 特許庁

プレイヤキャラクタが武器として保有する多数のバトルカード50の中からプレイヤに一部のバトルカード50を選択させるとき、ゲーム装置のディスプレイに6枚のバトルカード50を2行×3列の6のカード表示領域A〜Fにそれぞれ配置したカード選択画面CSGを表示させる。例文帳に追加

In the game program, when the player is made to select some battle cards 50 from many battle cards 50 that the player character has as weapons, the card selection screen CSG in which six battle cards 50 are arranged in six card display areas A-F of 2 rows × 3 columns respectively is displayed on the display of the game device. - 特許庁

窒化物とは異なる異種材料基板1に転位密度が1.0×10^10/cm^2以上である第一の窒化物半導体層2を形成した窒化物半導体下地基板上に、異種材料基板剥離用の中間層3と第二の窒化物半導体層4とが積層された窒化物半導体積層基板である。例文帳に追加

A nitride semiconductor-stacked substrate is obtained by stacking an intermediate layer 3 for the exfoliation of a substrate 1 of a different kind of material and a second nitride semiconductor layer 4 on a nitride semiconductor ground substrate in which a first nitride semiconductor layer 2 having a dislocation density of ≥1.0×10^10/cm^2 is formed on the substrate 1 of the different kind of material different from nitride. - 特許庁

光弾性係数の絶対値が20×10^-7cm^2 /kgf以下である基材フィルム上に、例えば、大気圧近傍の圧力下、金属化合物を含むガス雰囲気中で、対向電極間にパルス化された電界を印可することにより、放電プラズマを発生させる方法で得られた反射防止層が形成されていることを特徴とする偏光子保護フィルム。例文帳に追加

The protective film for polarizer is characterized by having a reflection preventing layer, which is obtained with a method for generating discharge plasma for example by applying a pulsed electric field between electrodes placed opposite to each other under a pressure close to atmospheric pressure in an gaseous atmosphere containing a metal compound, formed on a substrate film whose absolute value of photoelastic constant is not more than 20×10-7 cm2/kgf. - 特許庁

施錠状態において、解錠操作部191を操作して二重ロック部材19を第2位置から第3位置にスライド移動させ、規制面部195で裏金16の突起161を規制することで、鎌錠14およびノブ15の解錠操作を規制することができ、二重ロックを掛けることができる。例文帳に追加

A double lock member 19 is slidingly moved to a third position from a second position by operating an unlocking operation part 191 in a locking state, and a double lock can be fastened by regulating unlocking operation of a sickle lock 14 and a knob 15, by regulating a projection 161 of a back plate 16 by a regulating surface part 195. - 特許庁

Ag電極12を有するInGaN系半導体発光装置であって、少なくともそのAg電極12のコンタクト側の半導体層3の転位密度が、1×10^7[1/cm^2]以下の低転位半導体層として、この転位にそって発生するAgのマイグレーションによる短絡を回避する。例文帳に追加

In the InGaN series semiconductor light emitting device having an Ag electrode 12, as the low dislocation semiconductor layer below10^7 [1/cm^2] or less of the dislocation density of the semiconductor layer 3 by the side of contact of the Ag electrode 12 at least, a short circuit is avoided as caused by the migration of the Ag generated along this dislocation. - 特許庁

本発明のシミュレーション装置は、フォトマスクのレイアウト(マスクレイアウト)を複数の領域に分割する分割手段1と、各領域内の光強度の平均値を算出する光強度平均値算出手段2と、算出された平均値に平滑化処理を施す平滑化手段3と、平滑化処理された平均値に一定の乗数を掛ける乗算手段4とを有して構成される。例文帳に追加

The simulation apparatus is equipped with a dividing means 1 of dividing the layout of a photomask (mask layout) into a plurality of regions; an average calculating means 2 for the light intensity for calculating the average of the light intensity in each region; a smoothing means 3 for smoothing the calculated average; and a multiplying means 4 for multiplying the smoothed average by a specified multiple. - 特許庁

熱のみによって硬化する液晶表示素子用硬化性樹脂組成物であって、1分子中に水素結合性官能基と2以上の(メタ)アクリル基とを有し、1分子内の水素結合性官能基量が3.5×10^-3以上である硬化性樹脂100重量部に対して、熱硬化剤3〜40重量部を含有する液晶表示素子用硬化性樹脂組成物。例文帳に追加

The curable resin composition for the liquid crystal display element hardens only with heat and contains 3-40 weight part thermal curing agent with respect to 100 weight part curable resin having 3.5×10^-3 or more hydrogen bonding functional groups and two or more (meth)acrylic groups in a molecule. - 特許庁

少なくとも二種の非相溶性の樹脂からなる混合物を溶融押し出し成型してなる光拡散フィルムにおいて、明細書中で記載した方法で測定される主拡散方向の波長550nmの光の出射角0度における透過度(I0)と出射角60度における透過度(I60)の割合(I60/I0×100)が0.06〜1.0%である。例文帳に追加

A light diffusion film is obtained by fusing and extrusion-molding a mixture composed of at least two kinds of resins incompatible with each other. - 特許庁

本ステレオ画像処理装置では、1フレームの基準画像において、処理対象とする4×4の相関元領域から左右に1画素分ずらした2つの参照領域につきそれぞれ相関演算が行われ、相関値S_n-1,S_n+1が算出され、これら相関値のうち相関のより弱いことを示すものが評価値とされる(ステップ2)。例文帳に追加

In a stereo image processor, in a reference image of one frame, correlation operation is performed for each of two reference areas which are shifted right and left by one pixel from a 4×4 correlation source area to be processed to calculate correlation value S_n-1, S_n+1, and the value which indicates the weaker correlation of the two correlation values is an evaluation value (step 2). - 特許庁

チョクラルスキー法により引き上げられたシリコン単結晶棒をウェーハに加工して得られたシリコン単結晶ウェーハであって、5族元素と3族元素の電気的活性不純物を2種以上含有し、そのうち少なくとも3族元素の不純物濃度が1×10^18cm^-3以上であるようにした。例文帳に追加

A silicon single-crystal wafer, obtained by working a silicon single-crystal ingot pulled by the Czochralski method for forming a wafer contains two species or more of electrically active impurities of the group 5 elements and the group 3 elements, so that at least the impurity concentration of the group 3 element(s) is 1×10^18 cm^-3 or higher. - 特許庁

発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の中に、スチレンモノマーが350〜1200ppmと、圧力6.666×10^-4MPa(5mmHg)下で減圧蒸留を行った場合に250℃以下の温度では蒸留できない可塑剤0.1〜2重量部と、発泡剤を含有させてなることを特徴とする高発泡可能な発泡性ポリスチレン系樹脂粒子。例文帳に追加

The foamable polystyrene-based resin particles allowing the high-degree foaming is provided, which incorporates therein 350-1200 ppm of styrene monomer, 0.1-2 pts.wt. of an plasticizer that cannot be distilled at a temperature of ≤250°C when the vacuum distillation is conducted under 6.666×10^-4 MPa (5 mmHg), and a foaming agent. - 特許庁

また、本発明のセパレータ付き加熱剥離型粘着シートは、シート基材の少なくとも片側に、発泡剤と熱可塑性粘着剤を含む、23℃における剪断弾性率が7×10^6Pa以上である熱膨張性粘着層を有する加熱剥離型粘着シートに、該セパレータが設けられてなることを特徴としている。例文帳に追加

The heating release type pressure-sensitive adhesive sheet with a separator is constituted by providing the separator to the heating release type pressure-sensitive adhesive sheet wherein a thermally expansible pressure-sensitive adhesive layer with a shearing elastic modulus at 23°C of10^6 Pa or above containing a foaming agent and a thermoplastic pressure-sensitive adhesive is provided at least on one side of a sheet base material. - 特許庁

地方裁判所の裁判官が宣誓に基づき提供された情報により,第66条に定める罪が特定の施設又は場所で犯されたか又は犯されようとしていること,又はそのような罪が犯されたか又は犯されようとしていることの証拠が特定の施設又は場所に存在すること,を嫌疑にかけるに足る相当な理由が存在すると判断する場合,同裁判所は,国家警察の職員に対して他の職員又はその適切と判断する他の1若しくは複数の者と共に,令状の発行日から28日以内に,要求されたときは当該令状を提示することを条件に,必要な場合は適正な威力を使用して令状に特定された施設又は場所に立ち入り捜索し,次に掲げる行為の全部又は一部をすることを授権する令状を発行することができる。例文帳に追加

Where a judge of the District Court is satisfied by information on oath that there are reasonable grounds for suspecting-- that an offence under section 66 has been, or is about to be, committed in, on or at any premises or place, and that evidence that such an offence has been, or is about to be, committed is in, on or at those premises or that place, the District Court may issue a warrant authorizing a member of the Garda Siochana, accompanied by such other members of the Garda Siochana or other person or persons as that member thinks proper, at any time or times within 28 days from the date of the issue of the warrant on production where requested of that warrant to enter and search the premises or place specified in the warrant using reasonable force where necessary, and to do all or any of the following acts: - 特許庁

R=反射率/固形分率(1)(ここで、反射率(%)は波長550nmにおける反射率であり、固形分率(%)=100−空孔率(%)であり、空孔率(%)=(ρ0−ρ)/ρ0×100ρ0:前記ポリオレフィンと前記不活性微粒子との合計量より求められる多孔膜の理論密度ρ:見掛けの多孔膜の密度)例文帳に追加

In the formula, the reflection factor (%) is a reflection factor at the wavelength of 550 nm, the solid content ratio is represented by formula; solid content ratio (%)=100-porosity (%), and porosity (%)=(ρ0-ρ)/ρ0×100, (ρ0: theoretical density from the total of the polyolefine and the inactive fine particles, ρ: apparent density of the porous membrane). - 特許庁

芯成分がポリエチレンテレフタレート(PET)、鞘成分が芯成分より0.2以上小さい固有粘度(IV)のポリエチレンテレフタレートからなる芯鞘複合ポリエステルモノフィラメントであり、繊度3〜8dtex、強度7.5cN/dtex以上、かつタフネス(強度×伸度^0.5)が29以上であるポリエステルモノフィラメント。例文帳に追加

This polyester monofilament is a sheath core composite polyester filament consisting of a core component of a polyethylene terephthalate (PET) and sheath component of a polyethylene terephthalate having a lower intrinsic viscosity (IV) than that of the core component by ≥0.2, and having 3-8 dtex fineness, ≥7.5 cN/dtex strength and ≥29 toughness (strength × elongation^0.5). - 特許庁

銅を10〜50質量%含有するモリブデン合金材からなるオルタネータ用Mo焼結部品において、モリブデン合金材は、モリブデン結晶の平均粒径10〜100μm、単位面積500μm×500μmあたりのMo結晶の面積比のばらつきが平均値の±10%以内であることを特徴とする。例文帳に追加

In the Mo-sintered par for the alternator composed of a molybdenum alloy material containing 10 to 50 mass% of copper, the molybdenum alloy material is characterized in that a variation of an area ratio of an Mo crystal per average particle diameter of 10 to 100 μm and unit area of 500×500 μm is within ±10% of an average value. - 特許庁

例文

飽和脂肪酸の金属石鹸、不飽和脂肪酸の金属石鹸、脂環族カルボン酸の金属石鹸及び樹脂酸の金属石鹸からなる群より選ばれた少なくとも1種で湿式表面処理されるとともに、アルカリ金属含有量が1.0×10^-3mol /100gCaCO_3 以下であることを特徴とする表面処理炭酸カルシウム填料である。例文帳に追加

This surface treated calcium carbonate filler is characterized in that the wet surface treatment is carried out with at least one kind selected from the group consisting of a metal soap of a saturated fatty acid, a metal soap of an unsaturated fatty acid, a metal soap of an alicyclic carboxylic acid and a metal soap of a resin acid and the alkali metal content is ≤1.0×10-3 mol/100 g CaCO3. - 特許庁

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