例文 (450件) |
程大位の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 450件
操作部材1の操作量に対する車輪4の転舵量の比は、操作部材1の中立位置からの操作許容量の設定値の大きさが大きくなる程に小さくされる。例文帳に追加
A ratio of a turning degree of the wheels 4 to an operating degree of the operating member 1 is reduced with increasing magnitude of the set point of the operation limits of the operating member 1 from the neutral position. - 特許庁
O.B.I.の組織的構造に係る規則,O.B.I.職員の地位に関する規則,O.B.I.の財務的地位及びO.B.I.管理評議会の手続規程を定めるとともに,工業・エネルギー・技術大臣にこれを提出してその承認を得る。例文帳に追加
Set up the regulation of organizational structure of O.B.I., the regulation regarding the status of the staff of O.B.I., the financial status of O.B.I., and the rules of procedure of the Administrative Council of O.B.I., and shall submit them for approbation to the Minister of Industry, Energy, and Technology; - 特許庁
このため、2波長位相シフト干渉法により計測レンジを拡大しつつ、その演算過程における縞次数誤りによる誤差の影響を少なくし、位相シフト干渉法本来の高い精度を維持することができる。例文帳に追加
As enlarging a measuring range by two-wavelength phase-shifting interferometry, it is therefore possible to reduce the effects of errors due to fringe order errors in its arithmetic processes and maintain original high accuracy in phase-shift interferometry. - 特許庁
このとき、この1対の小型電極16、18間に、イオンビームの空間電荷が形成する中心電位の2倍程度以上の大きさの電位差を印加すると、特に効果的である。例文帳に追加
At this time, it is especially effective when a potential difference of around 2 times or more of the center electrical potential that is formed by a space electric charge of the ion beam is applied between these pair of small-sized electrodes 16, 18. - 特許庁
光の位相を制御する位相シフタを、バラツキの少ない工程で製造し、従来より安価に、耐久性の高い製品を大量生産する。例文帳に追加
To achieve the mass production of products having higher durability with cost lower than that of a related art by manufacturing a phase shifter for controlling a phase of light by a process reduced in variation. - 特許庁
入力データに混入したノイズの幅がクロック周期程度にまで大きくなり、ノイズ位置が入力データの中間位置に発生した場合にも、入力データからノイズを除去できる。例文帳に追加
To cancel noise from input data even when a width of noise mixed into the input data becomes approximately as large as a clock period and a noise position is generated at an intermediate position of the input data. - 特許庁
特に、巻回工程では、金属フィルムの一巻において、屈曲部の外側部分となる部位に付与されるテンションを最も小さくするとともに、屈曲部の内側部分となる部位に付与されるテンションを最も大きくする。例文帳に追加
Especially, in the winding process, in one wind of the metal film, the tension imparted to a part to be the outer side part of the bent part is minimized and the tension imparted to a part to be the inner side part of the bent part is maximized. - 特許庁
なお圧縮部位32の圧縮度合は、前記凸状部46の突出量に対応して変更可能であり、該圧縮部位32の圧縮度合が大きくなる程に異物の捕集率が高まる。例文帳に追加
The compression degree of the compression part 32 can be changed corresponding to the projecting amount of the projection part 46, and the collection efficiency of foreign matters is increased as the compression degree of the compression part 32 becomes larger. - 特許庁
次の液体封入室封止工程で、大径円筒部34の中間位置にある封止部材4をシール部43が筒状部材3の段部33に圧接する位置まで圧入して液体封入室45を封止する。例文帳に追加
In the next process to seal the chamber, the sealing member 4 in the middle position of the major diameteric cylindrical portion 34 is fitted in by pressure until the position where the seal part 43 comes in pressure contact with a step 33 of the cylinder member 3. - 特許庁
照合判定処理部44は、第一の領域と配置の再定義された第二の領域との位置関係と、最大相関領域相互間の位置関係との相違に基づいて両画像の類似の程度を判定する。例文帳に追加
A collation determining processing part 44 determines the degree of similarity of both images based on the difference between the physical relation between the first region and the second region whose disposition is redefined, and the physical relation between the maximum collation regions. - 特許庁
報知用LED18は、このコントラスト比の大きさが示すレンズ位置の最適位置からのずれの程度に応じて三種類のLEDa、LEDb及びLEDcのいずれかを段階的に点灯させる。例文帳に追加
An LED 18 for notification turns on one of three kinds of LEDs (a), (b), and (c) stepwise according to how much the lens position that the contrast ratio indicates shift from an optimum position. - 特許庁
かごの昇降行程が長くなりかご速度が大きくなっても、比較的小型でかつ精度良くかごの走行位置を検出できるエレベーターの位置検出装置を提供する。例文帳に追加
To provide a position detecting device of an elevator capable of accurately detecting a traveling position of a car in a relatively small type even if a car speed becomes large when a lifting stroke of the car becomes long. - 特許庁
筒型ナット6の下端部内側であって、容器本体4のリブ突条8の付設位置に対応する位置に、リブ突条8が遊嵌し得る程度の大きさの切欠部16を形成する。例文帳に追加
A cut part 16 with a sufficient size to fit a rib-like projected strip 8 loosely is formed at a position corresponding to the attachment position of the rib-like projected strip 8 of a container body 4 in the inside of the lower end of a cylindrical nut 6. - 特許庁
圧着印刷物の作成工程において、不適切な切断刃物の位置設定や、排紙収納部の仕切り板の位置設定に起因する製品不良や装置故障、さらには運転管理工数の増大を予防する。例文帳に追加
To prevent product failure, device failure, and furthermore, increase in operational control man-hour resulting from an inappropriate position setting of a cutting blade or a partition plate of a storage unit for ejected papers in a creation process for a press printed matter. - 特許庁
プラネタリピニオンギヤ152の位置が大端部111の回転方向と同方向に1/8回転位相が変化すると、圧縮行程の可動クランクギヤ150が引き下げられて圧縮比が下がる。例文帳に追加
When the phase of the position of the planetary pinion gear 152 is changed by 1/8 rotation in the same direction as the rotating direction of the large end 111, the movable crank gear 150 in the compression stroke is pulled down to reduce the compression ratio. - 特許庁
地球温暖化係数(GWP)の値は二酸化炭素(CO2)1 単位に対する特定のGHG 1 単位の放射促進効果(すなわち、大気に悪影響を及ぼす程度)を示す。例文帳に追加
Global warming potential (GWP) values describe the radiative forcing impact (or degree of harm to the atmosphere) of one unit of a given GHG relative to one unit of carbon dioxide. - 経済産業省
制御方法は、制御目標値を設定する工程、閉空間内の複数の位置における物理量をそれぞれ計測する工程及びそれぞれの移動平均を算出する工程、及び、算出した複数の空間内物理量移動平均の内の最大値と最小値との中央値が目標物理量となるように、空調装置8の制御を行う工程、を備える。例文帳に追加
This control method includes steps of: setting a control target value; measuring physical amounts of several positions in the closed space; calculating each moving average; and controlling the air-conditioning device 8 so that a center value between a maximum value and a minimum value of the calculated moving averages of physical amounts in several spaces becomes the target physical amount. - 特許庁
判定部7は、第1の領域と再定義した第2の領域との相互間の位置関係と第1最大相関領域と第2最大相関領域との相互間の位置関係との相違、もしくは第2の領域相互間の位置関係と第2最大相関領域相互間の位置関係との相違に基づいて、両者の画像の類似の程度を判定する。例文帳に追加
A discrimination part 7 discriminates the degree of similarity between both images on the basis of the difference between the mutual positional relation between the first area and the second redefined area and that between the first and second maximum collation areas or the difference between the positional relation between second areas and that between second maximum collation areas. - 特許庁
本発明の液晶パネルの製造方法は、一対の基板1,2をシール剤3によって貼り合せた液晶セルを用意し、シール剤3よりも外側に位置する一対の基板間の距離を大きくする工程と、一対の基板1,2間の距離を大きくしたところの基板上に接着剤6を設ける工程と、接着剤6を硬化させる工程とを有することを特徴とする。例文帳に追加
The manufacturing method of the liquid crystal panel includes the steps of: preparing a liquid crystal cell having a pair of substrates 1 and 2 stuck together with a seal agent 3 and increasing the distance between the pair of substrates disposed outside the seal agent 3; providing an adhesive 6 on the substrates 1 and 2 increased in distance between them; and curing the adhesive 6. - 特許庁
大気圧より大きい圧力の酸素雰囲気下において、吸収液が注入された耐圧容器内で前記試料を燃焼する工程と、前記吸収液を回収してpH5.0〜5.5の範囲内に調整する工程と、pHを調整した前記吸収液の電位をフッ素イオン電極により測定する工程により、試料に含まれるフッ素の定量を精度よく、かつ迅速に定量することができるようになる。例文帳に追加
Fluorine contained in the sample determined precisely and rapidly by processes for: burning the sample in a pressure-resistant container, in which an absorbing liquid is injected, under an oxygen atmosphere having pressure higher than atmospheric pressure; recovering the absorbing liquid to adjust the pH thereof to 5.0-5.5; and measuring the potential of the absorbing liquid adjusted in its pH. - 特許庁
時間外労働に関する、1日単位の確定表示、1週間単位の確定表示、1か月単位の確定表示と、1カ月の総労働時間マイナス1カ月の規程労働時間の表示により労働基準規程を理解し、時間外労働の低減を拡大すると同時に、週単位の実労時間を40時間以下に近づける方法例文帳に追加
METHOD FOR UNDERSTANDING LABOR STANDARD REGULATION, EXPANDING REDUCTION OF OVERTIME WORK, AND SIMULTANEOUSLY BRINGING ACTUAL WORKING HOUR PER WEEK CLOSE TO LESS THAN FORTY HOURS BY FIXED DISPLAY PER DAY, FIXED DISPLAY PER WEEK, FIXED DISPLAY PER MONTH REGARDING OVERTIME WORK, AND DISPLAY OF TOTAL WORKING HOURS FOR ONE MONTH MINUS REGULATED WORKING HOURS FOR ONE MONTH - 特許庁
各スクライブ加工工程における基材の歪み量が、製造工程中の熱応力や機械的応力を原因として大きく異なるものであったとしても、2以上のスクライブ加工工程のそれぞれにおいて形成されるスクライブ線同士の位置的相関を設計通りの位置的相関に維持することを可能とする。例文帳に追加
To maintain positional correlations of scribe lines as designed while the scribe lines mutually formed in each of two or more scribe working steps even though the distortion amount of a base material in each scribe working step is substantially different on the ground of thermal stress or mechanical stress during a manufacturing step. - 特許庁
このような構成を採用すると、変位率が大きなSMA110,120による変位が、アクチュエータ装置を含むレンズ駆動ユニット2A付近の各構成部材における弾性変形等の誤差要因を無視できる程大きくなる。例文帳に追加
In such a configuration, a displacement caused by SMAs 110 and 120 having the high rate of displacement is increased to such a degree that the factor of an error such as elastic deformation of each of composing members near a lens drive unit 2A including an actuator device is ignored. - 特許庁
タンパク質の欠失変異体の作製方法であって、 前記タンパク質の任意の切断部位にプロリン残基が繰り返して配位するように、前記タンパク質をコードする遺伝子を改変する工程と、 前記改変遺伝子を、大腸菌における使用頻度の低いコドンに対応するtRNAを増加させた大腸菌内で発現させる工程とを含む方法。例文帳に追加
This method for producing the deletion mutant of the protein includes a process for modifying a gene encoding the protein so that a proline residue is repeatedly arranged in an arbitrary cleavage site of the protein, and a process for expressing the modified gene in an Escherichia coli in which tRNA corresponding to a codon low in frequency of use in the Escherichia coli is increased. - 特許庁
審議は国対(国会対策)委員長をはじめ国会関係各位が、「国会のことは俺たちに任せてくれ」とおっしゃっていますので、私も大船に乗った気分でやっていきたいのですが、どうしても日程を考えますと大船に乗った気分にもなれませんで、大変心配をしております。例文帳に追加
The Chairman of the LDP (Liberal Democratic Party)’s Diet Affairs Committee and other relevant people have assured me that they intend to take charge of Diet affairs, and so I would like, if possible, to rest assured about Diet deliberations. However, if I am to consider the scheduling situation, I cannot rest assured and I am indeed very worried. - 金融庁
その操作部材1を直進位置に復帰させる方向に作用する操作用アクチュエータ19の発生反力の大きさを、予め設定した制限条件に従った操舵用アクチュエータ2の出力の制限程度が大きくなると大きくする。例文帳に追加
A degree of generated reflection force of an operation actuator 19 for acting to a direction returning the operation member 1 to a straight advancement position is made large when a restriction degree of the output of the steering actuator 2 according to a restriction condition previously set becomes large. - 特許庁
操作部材1の中立位置復帰方向へ作用する反力を発生する操作用アクチュエータ19の発生反力は、車速が零の時に、操作部材1の操作量と車輪4の転舵量との偏差が設定値よりも大きい場合は、その偏差が大きい程に大きくされる。例文帳に追加
Generated reaction of an operation actuator 19 to generate reaction operable in a neutral position restoration direction of the operation member 1 becomes larger as deviation between the operation quantity of the operation member 1 and the rolled and steered quantity of the wheels 4 becomes larger when the deviation is larger than a set value. - 特許庁
即ち最初持ち上げるのに大きなリフト力を必要とする前段階はカムによる駆動で行い、ある程度持ち上がり大きなリフト力を必要としない後段階を変位量が大きく取れるリンクにより駆動するようにしたものである。例文帳に追加
In the first stage which requires big lift power for lifting up the bed at first, the cam mechanism for driving is utilized, and in the latter stage where the bed is lifted to some extent and a big lift power is not further required, the link mechanism is used to obtain big displacement. - 特許庁
光学素子としての対物レンズ15等の製造方法は、熱可塑性樹脂と一次粒子の体積平均分散粒子径が30nm以下である無機粒子とを溶融・混練する溶融混練工程を有し、前記溶融混練工程における単位重量あたりの混練トルク最大値Mが、下記式(1)の条件を満たしている。例文帳に追加
The method for producing an object lens 15 or the like as the optical element has a melt-kneading step for melting/kneading a thermoplastic resin and inorganic particles having ≤30 nm volume average dispersed particle diameter of primary particles. - 特許庁
シリコンを含むウエハ1をレーザー2により加工するウエハ加工方法において、ウエハ1にレーザー2を照射して加工するレーザー加工工程と、フッ素系ガスを含む大気圧プラズマ5をレーザー2による加工部位に照射するプラズマ照射工程とを有している。例文帳に追加
The wafer machining method for machining a wafer 1 containing silicon by laser beams 2 comprises a laser beam machining step of machining the wafer 1 by applying the laser beams 2 to the wafer, and a plasma applying step of applying atmospheric plasma 5 containing fluorine-based gas to a part to be machined by the laser beams 2. - 特許庁
化合物半導体層への亜鉛拡散工程を含む化合物半導体装置の製造方法に関し、レーザ端面窓構造のCOD耐量を従来よりも大きくすることができる程度にZnO/SiO_2膜からのZn拡散位置を深くすること。例文帳に追加
To make a Zn diffusion position deep from a ZnO/SiO2 film, to the extent in which the COD tolerance of a laser end surface window structure can be made larger than conventional, as to a manufacturing method for a compound semiconductor device which includes the process of diffusing zinc into a compound semiconductor layer. - 特許庁
光源制御部140は、2つの光源のうち、パワーの小さな第1の光源121については各工程を通じて点灯状態とし、パワーの大きな第2の光源122については第2の位置合わせ工程においてのみ点灯状態とする。例文帳に追加
Moreover, a light source control part 140 makes the first light source 121 whose power is small in two light sources to be in a lighting state throughout respective processes and the second light source 122 whose power is large to be in a lighting state only in the second alignment process. - 特許庁
その2つの吸着工程の間に通過する転写部にて、転写工程で転写材裏面に供給する電荷とは逆極性の電荷を転写帯電器4によって供給することにより、見かけ上の転写材表面上に保持できる単位面積当たりの最大電荷量を増加させる。例文帳に追加
The device is allowed to make the maximum electrostatic charge quantity per unit area possible to hold on assumed transfer material to increase by applying the charge in polarity opposite to the charge applied on the transfer material rear side in the transferring stage, in the transfer part allowed to pass through between two attracting process thereof. - 特許庁
サーボパターン信号の記録時の振動を低減し、位置決め精度の向上を図り、更にプリライト方式を用いたSTWの製造工程を大幅に変更することなく、且つ製造工程を増やすことなくサーボパターン書き込みをすること。例文帳に追加
To reduce vibration at recording of a servo pattern signal and enhance the positioning accuracy without the need for remarkable revision of a manufacturing process for the STW employing a pre-write system and for increasing the number of the manufacturing processes. - 特許庁
基板上に線状積層体を形成した後に加熱して電極を形成することにより、加熱工程が1回で済み、また基板上にライン状に形成された各線状積層体の位置合わせが不要になり、電極を形成するための工程を大幅に簡略化する。例文帳に追加
To form the electrode by forming a linear laminate on a substrate and then by heating, thereby completing a heating process at one time, dispensing with alignment of each linear laminate formed linearly on a substrate, and considerably simplifying a step for forming an electrode. - 特許庁
そして、従来の技術と比較して言えば、本発明が提示する製造工程は、低汚染、製造工程が簡単、コストが低廉、光取り出し効率がより優れている、二重スケールの出光面の有効面積が比較的大きい(平滑な出光面がほとんど存在しない)等の優位性を有している。例文帳に追加
As compared with traditional technologies, the process of manufacturing offered by the present invention has advantages, such as low contamination, a simple process of manufacturing, low cost, more efficient light-extraction, and a comparatively larger effective area of a dual-scale light exit face (there is hardly a smooth light-exit face). - 特許庁
面方位が(100)面のシリコン基板からなる結晶性基板にレーザ光を斜めに照射して先行穴を形成する工程と、KOH水溶液又は有機アルカリエッチング液による異方性エッチングを行って前記先行穴を拡大してスルーホールを形成する工程とを有する。例文帳に追加
The method of manufacturing has a process to form a foregoing hole by diagonally radiating a laser beam on a crystalline substrate composed of a silicon substrate whose plane direction is a (100) surface; and process to form a through-hole by performing anisotropic etching by a KOH solution of water or an organic alkali etching liquid to expand the foregoing hole. - 特許庁
フォトリソグラフィ工程のような大掛かりな装置と多数の工程を必要せず、電子移動度や界面準位密度、正孔移動度、BOX層電荷密度などのようなSOIウエーハの電気特性を正確かつ簡便に測定する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method that dispenses with a large-scale apparatus and a number of processes, such as a photolithography process, and can accurately and easily measure the electric characteristics of an SOI wafer, such as electron mobility, interface level density, hole mobility, and BOX layer charge density. - 特許庁
この関数は、これらの移動端末のいずれの位置における電磁場の強さも、その移動端末がその電磁場によって伝えられる信号を許容される程度で受信するのに必要な強さと少なくとも同程度(ただし、それより実質的に大きくはない)となるような関数である。例文帳に追加
This function makes the strength of electromagnetic field, at any position of these mobile terminals at least equal to the strength required for that mobile terminal, so as to receive a signal transmitted by that electromagnetic field with an allowable level (but not to exceed that level substantially). - 特許庁
荒地、仕上げ、トリム、ツイストの各工程を経る過程で、クランクシャフト粗材5のうち隣り合うカウンタウエイト3,3の反クランクピン部4寄りの部位同士の相互離間距離を正規寸法よりも予め大きく成形しておく。例文帳に追加
On the way for passing each process of a rough-forging, a finish-forging, a trimming and a twisting; a mutual clearance of both portions near the reverse crank pin part 4 of adjoining counter weights 3, 3 in a crankshaft coarse material 5 is pre-formed to larger than the normal size. - 特許庁
半導体基板上に形成されたCu配線層3上の所定位置に、CVD法又はALD法によりバリアメタル層5を形成する工程と、前記バリアメタル層5を大気暴露することなく、前記バリアメタル層上にAl層6を形成する工程を備える。例文帳に追加
The method comprises a process for forming the barrier metal layer 5 in a prescribed position on a Cu wiring layer 3 formed on a semiconductor substrate by a CVD method or an ALD method, and a process for forming an Al layer 6 on the barrier metal layer without air-exposing the barrier metal layer 5. - 特許庁
中空陽極電極11と、中空陽極電極11に対向するカーボン基板からなる陰極電極2との間でアーク放電させる工程と、アーク放電済み又はアーク放電中の位置を大気雰囲気又は酸化雰囲気にさらす工程とを有する。例文帳に追加
The method comprises a step wherein arc discharge is performed between a hollow anode 11 and a cathode 2 comprising a carbon substrate facing the hollow anode 11 and a step wherein the position which has been or is subjected to arc discharge is exposed to an atmospheric or oxidizing atmosphere. - 特許庁
単位面積当たりのキャパシタンスが大きなキャパシタを形成しつつ、製造工程をHEMTあるいはPHEMTなどの能動素子の製造工程と共通化することにより、低コスト化を図る半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device together with its manufacturing method of a lower cost by forming a capacitor in which a capacitance per a unit area is large while its manufacturing process is allowed to be common with a manufacturing process for an active element such as HEMT or PHEMT. - 特許庁
地絡事故の程度が軽微なときは対地相電圧を基準に方向判別を行ない、地絡の程度が進み零相電圧が大きくなったときに各対地相電圧を合成した零相電圧を基準電圧として零相電流と位相比較することも含む。例文帳に追加
When the ground fault accident is not serious, the direction is decided on the basis of the voltage to the ground, but when the accident becomes larger with the increasing zero phase voltage, the phase of the zero phase current is also compared using the zero phase voltage obtained putting together each voltage as the standard. - 特許庁
本発明は、電子デバイスの製造工程、特に、磁気ディスクヘッド素子などの製造工程における静電気の発生量を高感度で検出して評価するためのものであり、微細な空間的位置において過大電流を高感度に検出するための技術の提供を目的とする。例文帳に追加
To provide a technology for highly sensitively detecting an overcurrent in a micoscopic spatial position for highly sensitively detecting and evaluating an occurrence of an electrostatic amount, in a step for manufacturing an electronic device, especially in the step of manufacturing a magnetic disc head element or the like. - 特許庁
プローブ光を半導体ウェハ上に照射して得られる反射光または透過光の分光波形の最大極大反射率と最小極小反射率との差または最小極小値または最小極小値と最大極大値との比を利用して、半導体ウェハ面の測定位置の特定または探索を行い、特定位置でモニターすることにより正確な膜厚または工程終了点の検出が可能となった。例文帳に追加
An accurate film thickness or process end point can be detected by monitoring at a specific position. - 特許庁
本発明は、植物に比較的大量に存在するウルソール酸から出発し、3位の水酸基を酸化し、3位のカルボニル基を利用して隣の2α位に立体特異的に水酸基を導入する工程を含む、コロソリン酸の製造方法である。例文帳に追加
The method for production of corosolic acid comprises a step starting from ursolic acid which exists in comparatively large amount in plants, oxidizing hydroxy group on the 3-position, stereospecifically introducing a hydroxy group on the neighboring 2α position by using the carbonyl group on the 3-position. - 特許庁
これにより、押圧レバー43が、揺動レバー42を加圧解除位置から加圧位置へ揺動させる過程で、揺動レバー42の揺動の支点から離れる方向へ揺動し、押圧レバー43が揺動レバー42を加圧位置へ押し込むのに必要な力が除々に増大するのを抑制する。例文帳に追加
Thus, the push lever 43 rocks in the direction of parting from the rocking fulcrum of the rocking lever 42 in the process of rocking the lever 42 from the pressure releasing position to the pressing position, and prevents the power required for the push lever 43 from gradually increasing to push the rocking lever 42 into the pressing position. - 特許庁
ワークに伸縮変形が生じても、投影露光によりワークに形成するパターンの位置を、それ以前の露光処理により形成されているパターンの位置と、次の工程で行うスクリーン印刷等のマスクパターンの位置との間に大きなずれを生じさせないようにすること。例文帳に追加
To prevent a position of a pattern formed on a work by projection exposure from being deviated from a position of a pattern formed by previous exposure processing and a position of a mask pattern for screen printing or the like to be executed in the next step, even in the case of the occurrence of telescopic deformation on the work. - 特許庁
コンクリート供試体における非変質部位と変質部位の強度の関係及び変質部位の大きさとその変質程度を求めることで、コンクリートの耐久性を正確に把握することができるコンクリートの耐久性試験方法を提供することを課題としている。例文帳に追加
To provide a method for testing the durability of concrete capable of accurately grasping the durability of the concrete by determining the relation of strength between an unaltered section and an altered section in concrete specimens, the size of the altered section, and the degree of its alteration. - 特許庁
例文 (450件) |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |