「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of generating high speed ion comprises a process of converging a laser by 10^15 W/cm^2 or higher on a low-density conductive first target having an effective thickness of 0.3 mm or thinner, and emitting the high speed ion from a back side of the laser irradiation part of the first target.例文帳に追加

有効な厚みが０．３ｍｍ以下である低密度導電性第一ターゲットにレーザーを１０^１５Ｗ／ｃｍ^２以上に集光し、該第一ターゲットのレーザー照射部の裏側から高速イオンを放出させる工程を含む、高速イオンの発生方法を提供する。 - 特許庁

The film-forming apparatus is directed for forming a first metal film on the substrate by sputtering at 300°C or lower; subsequently forming a second metal film on the first metal film by sputtering at 500 to 1,000°C; and forming a third metal film on the second metal film with a vapor deposition process.例文帳に追加

前記成膜装置は、基板上に３００℃以下の温度で第１の金属膜をスパッタリング成膜した後に、第１の金属膜上に５００℃〜１０００℃の温度で第２の金属膜をスパッタリング成膜し、蒸着法により第２の金属膜上に第３の金属膜を成膜するものである。 - 特許庁

A first resin portion 141 which includes air bubbles 141b is formed by heating in the process of forming the terminal 130, and a second resin portion 142 which covers a periphery of the terminal 130 is formed by a movement of the second resin portion 142' accompanying an expansion of the first resin portion.例文帳に追加

端子１３０を形成する工程における加熱により、気泡１４１ｂを内包した第１の樹脂部１４１が形成されるとともに、第１の樹脂部の膨張に伴う第２の樹脂部１４２’の移動により、端子１３０の周囲を覆う第２の樹脂部１４２が形成される。 - 特許庁

In a cable lead-in device, the first metal sleeve 11 is provided with a second edge portion 30, formed for preventing resin leakage in a process of forming a first insulator 13, and is formed so that the shape of the edge portion 30 has a gentle inclined surface.例文帳に追加

ケーブル導入装置において、第１の金属スリーブ１１は、第１の絶縁体１３を形成する工程における樹脂漏れを防止するために設けられた第２のエッジ部３０を備え、第２のエッジ部３０の形状が緩やかな傾斜面を有するように形成する。 - 特許庁

When a process cartridge 100 is inserted into an image forming apparatus body 1, a first contact part 120 of the cartridge 100 is engaged with a first positioning part 221 of a movable member 220, whereby the movable member 220 and the cartridge 100 are positioned in the inserting direction and in a direction crossing the inserting direction.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１００を画像形成装置本体１に挿入する途中、カートリッジ１００の第１当接部１２０が可動部材２２０の第１位置決め部２２１に係合して可動部材２２０とカートリッジ１００の挿入方向及び挿入方向と交差する方向の位置決めがされる。 - 特許庁

Contact surfaces of a recessed part 95 and a projection part 93 in an insertion process are limited to first parallel surfaces 96a, 96b and second parallel surfaces 97a, 97b, and first inclined surfaces 93e, 93f of the projection part 93 are not brought into contact with second inclined surfaces 95e, 95f of the recessed part 95.例文帳に追加

挿入工程での凹部９５と突起部９３との接触面は、第一平行面９６ａ，９６ｂ、および第二平行面９７ａ，９７ｂに限られ、突起部９３の第一傾斜面９３ｅ，９３ｆと、凹部９５の第二傾斜面９５ｅ，９５ｆとは接触しない。 - 特許庁

The first MPEG image data is reproduced up to the position (a) of the first MPEG image data, a re-encoded MPEG image data of the joining section (A) is reproduced, then the process is joined to the position (d) of the second MPEG image data, and the second MPEG image data is reproduced from the position of (d).例文帳に追加

そして、第１のＭＰＥＧ画像データのaの位置までは第１のＭＰＥＧ画像データの再生を行い、次に繋ぎ区間Ａの再符号化ＭＰＥＧ画像データを再生し、その後、第２のＭＰＥＧ画像データのｄの位置へ接続してｄ以降の第２のＭＰＥＧ画像データを再生する。 - 特許庁

When the total flow rate becomes larger than the sum of the flow rates of the first and second adsorption units 55, 82, start timing of the desorption process of the third adsorption unit 83 is advanced so that the total flow rate becomes smaller than the sum of the flow rates of the first and second adsorption units 55, 82.例文帳に追加

そして、総流量が第１及び第２吸着ユニットの流量の和よりも大きくなる場合には総流量が第１及び第２吸着ユニット５５，８２の流量の和よりも小さくなるように第３吸着ユニット８３の脱着工程の開始タイミングを早める。 - 特許庁

A connecting hole 47 is formed first of all with a second insulating film 43 of about 50 nm left therein, in the process to form, to an interlayer insulating film, the connecting hole 47 for connecting the upper and lower wirings to hold the interlayer insulating film with a first insulating film 42 and a second insulating film 43.例文帳に追加

第１の絶縁膜４２と第２の絶縁膜４３とよりなる層間絶縁膜を挟んだ上下の配線を接続する接続孔４７を層間絶縁膜に形成する過程で、まず、第２の絶縁膜４３を５０ｎｍ程度残して接続孔４７を形成する。 - 特許庁

In inverse transformation LUT preparing process, a target point in a second space is set (S101) and the starting point of searching processing in a first space is set (S102) to execute the search of a corresponding point in the first space corresponding to the set target point with the set search starting point as a start point (S103).例文帳に追加

第一空間から第二空間への変換が既知である場合に、第二空間上の一つの目標点に対応する第一空間上の点を探索により求め、更に、ＬＵＴの格子点の中から探索の目標とする点の順序を決定し、探索結果を格納する。 - 特許庁

The method for producing the alcohol compound includes the following process: a first step of conducting a reaction among an imidazolium salt (A), a ruthenium compound (B) and a base (C) to obtain a ruthenium complex; and a second step of reducing a carboxylic ester compound with hydrogen in the presence of the ruthenium complex obtained in the first step.例文帳に追加

イミダゾリウム塩（Ａ）、ルテニウム化合物（Ｂ）及び塩基（Ｃ）を反応させてルテニウム錯体を得る第１工程、及び第１工程で得られたルテニウム錯体の存在下、カルボン酸エステル化合物を水素で還元する第２工程を含むことを特徴とするアルコール化合物の製造方法。 - 特許庁

Supply, kneading and dehydration of a varnish and a paste pigment of a flushing process are continuously carried out by using a twin-screw extruder having a screw passing through from a first to a fifteenth blocks by heating the first to the seventh blocks at 60-100°C and keeping the temperature.例文帳に追加

第１ないし第１５ブロック内をスクリューが貫通した二軸押出機を用い、第１ないし第７ブロック内を６０〜１００℃の範囲内の一定温度に加温保持して、フラッシング工程のワニスおよびペースト顔料の供給、混練および脱水が連続的に行われる。 - 特許庁

With the first solvent remaining in the compact layer 3a, second electrode particles 12 and second catalyst ink containing a second solvent are applied onto the compact layer 3a by a wet process, and the first and second solvents are evaporated to form an irregular layer 3b.例文帳に追加

次に上記緻密層３ａに第一溶媒が残存している状態で、第二電極粒子１２と第二溶媒とを含有する第二触媒インクを上記緻密層３ａ上に湿式塗布し、上記第一及び第二溶媒を蒸発させることにより、凹凸層３ｂを形成する。 - 特許庁

The method comprises: a rectangle approximation step S30 of approximating a planned pattern by rectangles to generate a rectangle approximation pattern; steps S40, S50 of generating a first correction pattern based on the rectangle approximation pattern; and a step S60 of generating an irradiation pattern by enlarging the first correction pattern by a process bias Δ.例文帳に追加

計画パターンを、矩形により近似して矩形近似パターンを生成する矩形近似工程Ｓ３０と、矩形近似パターンに基いて第１補正パターンを生成する工程Ｓ４０，Ｓ５０と、第１補正パターンを、プロセスバイアスΔだけ拡大させて、照射パターンを生成する工程Ｓ６０と、を具備する。 - 特許庁

The blood component-collecting apparatus 1 detects a ratio of the plasma in the blood component which flows in a first line 21 (a first line 21a on the side of a blood collecting needle) on the side of the blood collecting needle 29 beyond a branch connector 21f and is returned to a donor by a turbidity sensor 19 in a blood return process.例文帳に追加

血液成分採取装置１は、返血工程において、濁度センサ１９により、分岐コネクター２１ｆより採血針２９側の第１のライン２１（採血針側第１ライン２１ａ）中を流れ、ドナーに返血される血液成分中の血漿の占める割合を検出する。 - 特許庁

First character shape data corresponding to a character inputted by an input process are acquired by a first character shape data acquisition step, and the whether to produce second character shape data or not is determined based on item information output through an input step (S306).例文帳に追加

入力工程により入力された文字に該当する第１の文字形状データを第１文字形状データ取得工程により取得して、第２の文字形状データを生成するか否かを、入力工程により入力された項目情報をもとに判別する（Ｓ３０６）。 - 特許庁

The bottoms are combined with the distillate of the top of the first distillation column and the reaction solution not supplied to the first distillation column, fed to a hydrolysis process, ethylene carbonate is hydrolyzed into ethylene glycol and ethylene glycol is collected from the formed aqueous solution of ethylene glycol.例文帳に追加

この塔底液と第１蒸留塔の塔頂留出液、及び第１蒸留塔に供給しなかった反応液を合せて加水分解工程に供給してエチレンカーボネートをエチレングリコールに加水分解し、生成したエチレングリコール水溶液からエチレングリコールを取得する。 - 特許庁

The method for producing a film comprises: a stage where a substrate having first and second regions in which at least either is made of oxide, and also, which are made of mutually different materials is prepared; and a stage where a film is selectively deposited on either the first region or the second region by a bias sputtering process.例文帳に追加

少なくとも一方が酸化物であり、且つ互いに異なる材料からなる第１及び第２の領域を有する基板を用意する工程、及びバイアススパッタリング法により、該第１及び第２の領域のいずれか一方に選択的に成膜する工程を有する膜の製造方法。 - 特許庁

In the molding process, the first lead frame (20) and the second lead frame (30) are laminated and arranged with a spacer (14) having a predetermined thickness interposed therebetween to keep a distance in a facing direction not causing potential interference between the first semiconductor chip (23) and the second semiconductor chip (33).例文帳に追加

モールド成形工程では、対向方向において、第１半導体チップ（２３）と第２半導体チップ（３３）の間に電位干渉を生じない間隔を確保すべく所定厚さを有するスペーサ（１４）を介して、第１リードフレーム（２０）及び第２リードフレーム（３０）を積層配置する。 - 特許庁

In the method for detecting the phase separation point in the case a plurality of liquids are blended, a first liquid is prepared, and a second liquid whose specific gravity is smaller than that of the first liquid, is dropped thereon; and after making the liquids diffused enough through an agitating process, a steady-state swirl is generated, thereby detecting the phase separation point.例文帳に追加

複数の液体を混合した場合の相分離点を検出する方法であって、 第一の液体に前記第一の液体よりも比重の小さい第二の液体を滴下し、撹拌して十分拡散させた後、定常状態の渦巻きを発生させ、相分離点を検出する。 - 特許庁

A solid oxide fuel cell is manufactured by a manufacturing process wherein a first solution containing Ag/Pd alloy is applied to a solid oxide fuel cell, then a second solution containing Ag/Pd alloy in which quantity of Ag is more than that of the first solution is applied, and finally calcination is carried out.例文帳に追加

固体酸化物形燃料電池セルは、固体酸化物形燃料電池セルにAg/Pd合金を含む第一溶液を適用し、次に第一溶液よりもAg量が多いAg/Pd合金を含む第二溶液を適用し、焼成することを特徴とする固体酸化物形燃料電池セルを提供する。 - 特許庁

A process for preparing the highly concentrated antibody compositions includes: a step of subjecting a first antibody preparation to a first ultrafiltering, thereby providing a second antibody preparation; and a step of diafiltering the second antibody preparation; and then subjecting the second antibody preparation to second ultrafiltering, wherein one or more of the steps are accomplished at about 30°C to about 50°C.例文帳に追加

第一抗体調製物に第一限外濾過を施して第二抗体調製物を提供し、当該調製物をダイアフィルトレーション、及び第二限外濾過を施し、上記プロセスの一以上が約３０℃〜約５０℃で行なわれる抗体組成物の濃縮方法。 - 特許庁

The display area of a special picture pattern display device 310 is divided into a first area 311 and a second area 312 and, in a process for displaying a prescribed display result ('777', for example), on the second area 312, identification information displayed on the first area 311 is moved to the second area 312 and displayed.例文帳に追加

特別図柄表示装置３１０の表示領域を第１領域３１１と第２領域３１２に分け、第２領域３１２に所定の表示結果（例えば「７７７」）を導出表示する過程で、第１領域３１１に表示した識別情報を第２領域３１２に移動表示する。 - 特許庁

In the process cartridge 1 in which the image carrier 3 is integrated with a cleaning means 61 and which can be attached to and detached from a main unit of an image forming apparatus, there are disposed a first frame 2a, having a receiving portion for detachably receiving the image bearing member 3 and a second frame 2b turnably attached to the first frame.例文帳に追加

像担持体３とクリーニング手段６１とを一体にし、画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジ１において、像担持体３を着脱可能に受け入れる受入部を有する第１枠体２ａと、この第１枠体に回動可能に取り付けた第２枠体２ｂとを設ける。 - 特許庁

This method for producing the organic-inorganic complex comprises mixing a precursor A containing a specific cross-linkable compound prepared in the first preparation process with a precursor B containing an acid catalyst prepared in the second preparation process in a mixing process to hydrolyze the specific cross-linkable compound, and then adding an alkali catalyst to the hydrolysis product in a complex-forming process to condense the hydrolysis product, thus producing the organic-inorganic complex.例文帳に追加

本発明による有機無機複合体の製造方法は、第一調製工程で調製した特定の架橋性化合物を含む前駆体Ａと、第二調製工程で調整した酸触媒を含む前駆体Ｂとを混合工程で混合して、特定の架橋性化合物を加水分解させた後、複合体形成工程において、その加水分解物にアルカリ触媒を加え、その加水分解物を縮合させて有機無機複合体を形成する方法である。 - 特許庁

In a photolithographic process in which existing processing conditions are set, only the 0-order light of a light source is allowed to transmit to expose a film on a substrate, and then, the film is developed and a first portion of the film on the substrate is reduced.例文帳に追加

既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において，光源の０次光のみを透過させて基板上の膜を露光し，その後現像して，基板上の膜の第１の部分を減少させる。 - 特許庁

In one word alignment process, a source language input sentence 350 and an example 360 under consideration are input to a first alignment component which operates as a bilingual dictionary aligner 362.例文帳に追加

単語対応付けの一プロセスにおいて、元の言語入力文３５０と検討中の例３６０とが、二言語辞書対応付け器３６２として動作する第１の対応付けコンポーネントへの入力である。 - 特許庁

A timing control part 32 obtains in which of pages the joining part is included, and controls a first image recording part 8 and a second image recording part 9 so as to inhibit an image recording process to the page.例文帳に追加

タイミング制御部３２は、接合部分がどのページに含まれるかを求め、そのページに対する画像記録処理を行わないように、第１の画像記録部８及び第２の画像記録部９を制御する。 - 特許庁

In a first process, the treatment face S2 of a mechanically ground wafer W is etched by nitrohydrofluorid acid solution so that any grinding mark or crystal defect generated on the treatment face S2 can be removed.例文帳に追加

第１の工程において、機械的研磨されたウエハＷの処理面Ｓ２をフッ硝酸溶液でエッチングすることにより、処理面Ｓ２に生じた研磨痕や結晶欠陥が除去される。 - 特許庁

The pattern drawing device controls, in a drawing process, the position of a stage on the basis of a position parameter measured by first and second interferometers and on the basis of a given environmental parameter (in a fixed value mode).例文帳に追加

パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。 - 特許庁

The information reader 30 performs an authentication process for each communication terminal, based on the information read from the first communication terminal 10A and the second communication terminal 10B.例文帳に追加

情報読取装置３０は、第１の通信端末装置１０Ａ及び第２の通信端末装置１０Ｂそれぞれから読み取った情報に基づいて各通信端末装置について認証処理を行う。 - 特許庁

To provide a press forming method by which a first formed article having an opening part and a second formed article which is smaller than the opening part are formed in the same process and a press forming die which is used therefor.例文帳に追加

開口部を有する第１成形品と開口部より小さな第２成形品とを同一の工程で成形することができるプレス成形方法と、それに用いられるプレス成形型とを提供する。 - 特許庁

The first cuter blade 2 is used for a face preparation process, where the surface layer part of a sample block 11 is cut to form a plane parallel to the cutting direction, on the surface of the sample block 11.例文帳に追加

第一のカッタブレード２は、面出し工程、即ち、試料ブロック１１の表層部を切断して試料ブロック１１の表面に切断方向に対して平行な平面を形成する際に使用される。 - 特許庁

In a first process, a pair of wires 22, 22 to be twisted are pulled out toward a drum 24 while passing them through wire passing parts 26, 26 disposed at a desired interval H.例文帳に追加

第一工程は、ツイストするための一対の電線２２、２２の各々を、所望の間隔Ｈの配置となる電線通過部２６、２６を通過させつつドラム２４に向けて引き出すようになっている。 - 特許庁

Next, a surface roughening process is done on the part of the first conductive pattern 2 exposed inside the pore 3a of the second insulating layer 3 so that its average surface roughness Ra may become 20 nm or more and 200 nm or less.例文帳に追加

次に、第２の絶縁層３の孔部３ａ内で露出する第１の導体パターン２の部分の平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となるように、粗面化処理を行う。 - 特許庁

The marking indication content 100 is first drawn and indicated on the surface of a marking indication object 500 with a black color-based paint that is easy to be burned out with a laser irradiation in an indication content pre-indication process.例文帳に追加

まず、表示内容前表示工程で、マーキング表示対象物500 の表面にマーキング表示内容100 を、レーザー照射により焼失しやすい黒色系塗料により描画、表示する。 - 特許庁

In this process, the number of the reels undergoing the one frame retraction control is increased more during second given counts of the game for the more frequency of winning the minor role prize generated in the first given counts (five times) of the game.例文帳に追加

この際に、第１所定ゲーム数（５回）のゲームにおいて、発生させた小役入賞が多いほど、次の第２所定ゲーム数のゲームの間、１コマ引き込み制御を行うリールの数を多くする。 - 特許庁

Further, in the first process, an impregnated body can be impregnated in advance with the coating composition containing fine particles having hydrophobic surface and particle size of ≤100 nm in the dispersed state.例文帳に追加

また、第一の工程においては、表面が疎水性で、粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を分散状態で含有するコーティング組成物を含浸体に予め含浸させておいてもよい。 - 特許庁

A metal O-ring 28 (second metal O-ring) is inserted into the outside of the top end of the sample chamber side of the liner tube, following the vacuum sealing process of the metal O-ring 25 (first metal O-ring).例文帳に追加

金属Ｏリング２５（第１の金属Ｏリング）による真空シール作業に続いて、金属Ｏリング２８（第２の金属Ｏリング）が、ライナーチューブ２３の試料室側端部外側に嵌め込められる。 - 特許庁

An etching mask is formed on the surface of a silicon substrate 1, and after that, a required number of operations of applying etching are repeated so that a silicon recessed mold 4 with a recess of a desired shape can be formed (a first process).例文帳に追加

シリコン基板１表面にエッチングマスクを形成し次いでエッチングを施す操作を必要回数繰り返して所望形状の凹所を持つシリコンの凹型４を形成する（第１工程）。 - 特許庁

Rewriting of the drawing areas is executed every period T in a first mode, and, in a second mode, rewriting of the drawing areas is executed and a high-definition drawing process is executed every period N×T.例文帳に追加

第１のモードでは周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行い、第２のモードでは周期Ｎ×Ｔ毎に描画領域の書き換えを行うと共に高精細の描画処理を行う。 - 特許庁

Gaps between the supports 3, 4 and the process tube 1, and between the leading pipe 15 and the outer circumferential surface are blocked by a first high heatproof heat insulation member 5 and the second high heatproof heat insulation member 6.例文帳に追加

支持体３，４とプロセスチューブ１及び導入管１５の外周面との間の間隙は、第１の高耐熱断熱部材５及び第２の高耐熱断熱部材６によって閉塞される。 - 特許庁

A workpiece having a predetermined range of a composition is plastically deformed into a shape of a retainer through a hot-forging process, and is introduced into a heat treatment furnace while being kept at a high temperature, in the first step S1.例文帳に追加

組成比が所定範囲内であるワークは、第１工程Ｓ１において、熱間鍛造によってリテーナの形状に塑性変形され、高温が保持された状態で熱処理炉に導入される。 - 特許庁

Then, a first property indicating features just before the processing of the object to be processed in the specified processing process and a second property indicating features just after the processing of the object to be processed are inputted.例文帳に追加

特定した処理工程で処理する処理対象の処理直前の特徴を表わす第１のプロパティと、当該処理対象の処理直後の特徴を表わす第２のプロパティとを入力する。 - 特許庁

A process cartridge achieves smooth drive transmission capable of suppressing shaft collapse by supporting a drive input gear 8 to a developing device with a first bearing member 6 and a second bearing member 7 ensured coaxially.例文帳に追加

現像装置への駆動入力ギア8を同軸保証された第一の軸受部材6及び第二の軸受部材7で支持する事により軸倒れを抑制する事ができ円滑な駆動伝達が可能である。 - 特許庁