「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

Every method call to Facebook needs to be signed using the secret key.During the login process, the application first calls Facebook to request a token using the API key. 例文帳に追加

Facebook に対するすべてのメソッド呼び出しは、秘密鍵を使用して署名されている必要があります。 ログイン処理の際、最初にアプリケーションから Facebook が呼び出され、その API キーを使用するトークンが要求されます。 - NetBeans

The hydrodesulfurization process includes a multi-stage reaction zone including at least first and second serial hydrodesulfurization reaction zones that sequentially remove sulfur from the hydrocarbon stream.例文帳に追加

もう一つの面では、本発明の方法は、炭化水素流から硫黄を連続除去する少なくとも第一および第二の連続水素化脱硫反応ゾーンを含んでいる多段階反応ゾーンを含む。 - 特許庁

A photosensitive polyimide precursor is applied on a first wiring pattern, thereby forming a polyimide insulating layer 23, and then a contact hole 24 is formed on the polyimide insulating layer 23 in a photolithography process, as shown in Fig.1(c).例文帳に追加

第１配線パターン上に感光性ポリイミド前駆体を塗布し、ポリイミド絶縁層２３を形成し、このポリイミド絶縁層２３上にフォトリソグラフィーにて図１（ｃ）に示すようにコンタクトホール２４を形成する。 - 特許庁

The execution unit executes a first prefetch start instruction inserted before prescribed process in a program, and outputs a second prefetch start instruction including prefetch object area information to the multiblock prefetch control part.例文帳に追加

そして、実行ユニットは、プログラム内の所定の処理の前に挿入された第1prefetch開始命令を実行し、プリフェッチ対象領域情報を含む第2prefetch開始命令をマルチブロックプリフェッチ制御部に出力する。 - 特許庁

To prevent a toner image from being offset on a photoreceptive drum when the toner image primarily transferred to an intermediate transfer belt offset onto a photoreceptive drum when being passed passes through a first transfer part at the time of a non-primary transfer process.例文帳に追加

非１次転写工程時において、中間転写ベルト５に１次転写されたトナー像が第１の転写部位６aを通過する際に感光ドラム１にトナー像がオフセットするのを防止する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of eliminating variation in capacity even when a stacking displacement occurs in a lithographic process to form a first and a second electrodes constituting a capacitive element.例文帳に追加

容量素子を構成する第１電極及び第２電極を形成するためのリソグラフィ工程で重ね合わせズレが生じた場合にも容量ばらつきを抑制できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A cladding layer of non-doped silica is formed on the core during the preform process and subsequently during drawing the preform an ultraviolet light curable polymer first coating is overlaid on the cladding layer.例文帳に追加

ドープしないシリカのクラッド層がプリフォーム工程の間にコアの上に形成され、それに引き続いてプリフォームの線引き中に紫外線硬化型ポリマーの第１の被覆がクラッド層の上にかぶせられる。 - 特許庁

The other MFP with higher-character recognition capabilities acquires the processing result, and performs, when the result contains the first information, the character recognition process to the image data contained in the character region thereof.例文帳に追加

より高度の文字認識機能を有する他のＭＦＰは、その処理結果を取得し、第１の情報を含む場合に、その文字領域に含まれる画像データに対して文字認識処理を実行する。 - 特許庁

That is, as the solution in the cleaning process, solution such as mixed solution composed of ammonia, hydrogen peroxide water and water and dilute hydrofluoric acid which etches the first gate oxide film 101 is not used.例文帳に追加

即ち、洗浄工程の溶液には、アンモニア、過酸化水素水および水からなる混合用溶液や希フッ酸等の第１のゲート酸化膜１０１をエッチングするような溶液は使用しない。 - 特許庁

Two of a first arm function robot 103 and a second arm function robot 104 capable of selectively actuating for dismantling and assembling work are disposed in matrix as a unit in each process of assembling and dismantling.例文帳に追加

組立と分解の各工程には分解、あるいは組立作業を選択的に動作できる第一腕機能ロボット１０３と第二腕機能ロボット１０４の２台を単位としてマトリクス状に配置する。 - 特許庁

In a substrate processing device, a first gas supply system 3 supplies PH_3 gas containing the phosphorus to a wafer W, for doping the film to be processed with the phosphorus by annealing process with a heater 2.例文帳に追加

基板処理装置において、第１ガス供給系３は、ヒータ２によるアニール処理によって被処理膜へ燐をドープするためにウエハＷに対して燐を含むＰＨ_３ガスを供給する。 - 特許庁

Thereafter, the wiring pattern 13 is formed, by removing the exposed first metal layer 20 other than the part to form the wiring pattern, by uniformly conducting the etching process to the entire part of the surface of the substrate.例文帳に追加

その後、基板表面全体に均一にエッチングを施すことにより、配線パターンを形成する部位以外の、露出する第１の金属層２０を除去して配線パターン１３を形成する。 - 特許庁

The process comprises a first step of culturing a microalga euglena aerobically, a second step of further culturing the microalga euglena while retaining the culture medium under nitrogen-starved conditions, and a third step of retaining cells of the microalga euglena under anaerobic conditions.例文帳に追加

微細藻ユーグレナを好気的に培養する第１の工程と、該培地を窒素飢餓状態にてさらに培養する第２の工程と、細胞を嫌気状態下に保持する第３の工程とから成る。 - 特許庁

In the manufacturing process of this semiconductor device, impurity ions are introduced into a semiconductor layer 1j through a resist mask 70 including a first mask part 71 and a second mask part 72 different in thickness.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、厚さが異なる第１マスク部分７１と第２マスク部分７２を備えたレジストマスク７０を介して半導体層１ｊに不純物イオンを導入する。 - 特許庁

At this time, the separation timing of the cleaning blade is controlled by setting the write-in timing of a latent image corresponding to the toner image primarily transferred first in the next image forming process as reference.例文帳に追加

このとき、上記次の画像形成工程において最初に１次転写されるトナー像に対応する潜像の書込タイミングを基準にして、上記クリーニングブレードの離間タイミングを制御する。 - 特許庁

In the gas purifying process, at least two main adsorption towers 5A and 5B and at least one auxiliary adsorption towers 6A and 6B are used in order to remove a first and a second impurities.例文帳に追加

本発明のガス精製プロセスでは、第一及び第二の不純物を除去するため、少なくとも二つの主吸着塔（５Ａ，５Ｂ）、及び少なくとも一つの補助吸着塔（６Ａ，６Ｂ）が使用される。 - 特許庁

The method for manufacturing the microlens array includes a process for forming second layers 126 on a member having a first layer 120 and shading layers 122 and provided with a plurality of recessed parts 124.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造方法は、第１の層１２０及び遮光性層１２２を有してなるとともに複数の凹部１２４が形成された部材上に、第２の層１２６を形成することを含む。 - 特許庁

In a first process, treating water containing phosphorus is allowed to flow into an electrolytic bath 16, and voltage is applied on an iron- made electrode 1602, and iron ions (Fe+2 or Fe+3) are eluted from the electrode 1602.例文帳に追加

第１の工程では、リンを含む処理水が電気分解槽１６に流入され、鉄製の電極１６０２に電圧が印可され、電極１６０２から鉄イオン(Ｆｅ^+2やＦｅ^+3)が溶出する。 - 特許庁

To provide a method of obtaining a correspondent aromatic hydroxide by highly selectively introducing two hydroxide groups into first position and fourth position of benzene ring of an aromatic compound with one stage process.例文帳に追加

１段階のプロセスで芳香族化合物のベンゼン環の１位および４位に高効率かつ高選択的に二つの水酸基を導入し、対応する芳香族水酸化物を得る方法の提供。 - 特許庁

When a well region is formed at first, for example, an alignment mark 14 for next exposure process is provided additionally in the integrated circuit chip region 12.例文帳に追加

例えば、始めにウェル領域を形成した場合、次の露光工程における位置合わせのためアライメントマーク１４を付加するが、このアライメントマーク１４を集積回路チップ領域１２内に設けるようにする。 - 特許庁

In the first process the transparent substrate 100 is coated with the photosensitive resin so that a predetermined region at an end of the transparent substrate 100 is an uncoated region D1 and the other region is a coated region.例文帳に追加

第１の工程では、透明基板１００の端部における所定領域を非塗布領域Ｄ１とし、他の領域を塗布領域とするように感光性樹脂を透明基板１００上に塗布する。 - 特許庁

In this method, a process to compensate optical dispersion of an optical signal is also included so that dispersion compensation of the first channel group is complete and that of the second channel group is incomplete.例文帳に追加

上記方法は、第１のチャネル組の分散補償が完全であるように、かつ、第２のチャネル組の分散補償が不完全であるように光信号における光学分散を補償する工程も含む。 - 特許庁

During deairing in a safety glass forming process, the first air removal surface 12 is partially transferred to the second air removal surface 18 and superposed to provide deair paths of reduced obstruction.例文帳に追加

安全ガラス形成工程の空気除去中に、第一の空気除去表面１２が第二の空気除去表面１８に部分的に転写されて重畳し、妨害の少ない空気除去通路を提供する。 - 特許庁

The device management apparatus 2 includes a first communication part 21, a process execution part 27b, a storage part 26, an operation part 24, a stopping part 27c, an information writing part 27d, an updating part 27e, and a state setting part 27g.例文帳に追加

機器管理装置２は、第１通信部２１、処理実行部２７ｂ、記憶部２６、操作部２４、停止部２７ｃ、情報書き込み部２７ｄ、更新部２７ｅ及び状態設定部２７ｇを備える。 - 特許庁

A parameter B according to the size in a P direction inclined with respect to the X direction is specified with respect to each of the plurality of spot areas S formed by each of light emitting elements E in the first process.例文帳に追加

第１過程においては、各発光素子Ｅが形成する複数のスポット領域Ｓの各々について、Ｘ方向に対して傾斜するＰ方向の寸法に応じた変数Ｂが特定される。 - 特許庁

In the corrugated tube molding process in the corrugating unit 22, the flexible part, which has a first bellows height and has flexibility, and a rigid part, which has a second bellows height and has rigidity, are formed.例文帳に追加

コルゲートユニット２２におけるコルゲートチューブ成形過程において、第１の蛇腹高さを有し可撓性を備える可撓部と、第２の蛇腹高さを有し剛性を備える剛性部を形成する。 - 特許庁

In a work process adhering an optical element 3 to a liquid crystal panel 1, at first, the panel 1 is placed on a main base 6 and it is fixed on the base 6 by using clamping mechanisms 7 and fixing pins 8.例文帳に追加

液晶パネル１に光学素子３を貼り合わせる作業工程において、先ずメインベース６上に液晶パネル１を載置し、クランプ機構７と固定ピン８とを用いてメインベース６上に固定する。 - 特許庁

This inkjet recording medium has at least, a first ink receptive layer containing kaolin and a second ink receptive layer containing a vapor phase process silica, formed on this support in that order from a water non-permeable support.例文帳に追加

水非浸透性支持体上に、該水非浸透性支持体側から順に、カオリンを含有する第１のインク受容層と、気相法シリカを含有する第２のインク受容層と、を少なくとも有する。 - 特許庁

The process for producing the electrode of an electrochemical capacitor comprises a first step (S11) for forming an undercoat layer on a collector having a roughened surface, and a second step (S13) for forming a polarizable electrode layer on the undercoat layer.例文帳に追加

表面が粗面化された集電体上にアンダーコート層を形成する第１の工程（Ｓ１１）と、アンダーコート層上に分極性電極層を形成する第２の工程（Ｓ１３）とを備える。 - 特許庁

A cylindrical body 4 formed by this process has first and second contracted stage parts 5, 6 with the contour of the material 3 being finely contracted, and a flanged part 7 protruded in the radial direction of the material 3.例文帳に追加

このプロセスを経て成形される筒状物４は、材料３の外形が細く絞られた第１，第２の絞段部５，６及び材料３の径方向へ突出したフランジ部７を備えるものである。 - 特許庁

The virtual color leading out process converts at least one of the brightness value, the saturation value and the hue angle value of the second color area 42 to lead out a magnified virtual color area 44 including at least all of the brightness value of a first color area 40.例文帳に追加

仮想色域導出過程は、第２色域の明度、彩度及び又は色相角度を変換し、少なくとも第１色域の明度を全て含む拡張した仮想色域を導出する。 - 特許庁

But if you straighten it out first about the shapes of the particular characters and symbols that we're using, the process of correcting the errors in the rest of the pages will be much easier. 例文帳に追加

でも、われわれの使っているそれぞれの文字や記号の形についてきちんと識別できるように教え込んでおけば、その後のページをスキャンして修正するときの手間はずっと省けるようになる。 - Electronic Frontier Foundation『DESのクラック：暗号研究と盗聴政策、チップ設計の秘密』

This adiposity-inhibiting ability assaying method is characterized by (1) having the first process for measuring the activity of nicotinamide phosphoribosyl transferase in the contact system of the nicotinamide phosphoribosyl transferase with a test substance and (2) the second process for evaluating the adiposity-inhibiting ability of the substance on the basis of a difference obtained by comparing the activity measured in the first process with the activity of a control.例文帳に追加

脂肪蓄積抑制能力の検定方法であって、（１）ニコチンアミドホスホリボシルトランスフェラーゼと被験物質との接触系内における前記ニコチンアミドホスホリボシルトランスフェラーゼの活性を測定する第一工程、及び（２）第一工程により測定された活性と対照における活性とを比較することにより得られる差異に基づき前記物質の脂肪蓄積抑制能力を評価する第ニ工程、を有することを特徴とする脂肪蓄積抑制能力の検定方法等が提供可能になった。 - 特許庁

The first generation image print is obtained via a toner image holding process for holding a toner image formed by toner particles containing at least a resin on a toner holding material layer formed on an image supporting substrate and at least the toner particles or the image supporting substrate separated from the first generation image print via a separation process is used for forming the second generation image print.例文帳に追加

少なくとも樹脂が含有されてなるトナー粒子により形成されたトナー像を、画像支持基材上に形成されるトナー保持材層に保持させるトナー像保持処理工程を経ることによって第１代印画物を得、当該第１代印画物から分離処理を経ることにより分離されたトナー粒子および画像支持基材の少なくともいずれかを、第２代印画物の形成に供することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon carbide single crystal substrate includes a process (A) of preparing a silicon carbide single crystal substrate which has first and second principal surfaces and conductivity, the work-affecting layer being provided on at least one of the first and second principal surfaces; and a process (B) of removing at least a part of the work-affecting layer through electrolytic etching.例文帳に追加

本発明の炭化珪素単結晶基板の製造方法は、第１および第２の主面を備え、導電性を有する炭化珪素単結晶基板であって、前記第１および前記第２の主面のうち、少なくとも一方に加工変質層を有する炭化珪素単結晶基板を用意する工程（Ａ）と、前記加工変質層の少なくとも一部を電解エッチングによって除去する工程（Ｂ）とを包含する。 - 特許庁

According to one embodiment, the method has steps of: providing a substrate containing a metal-containing barrier layer having the oxidized surface layer; exposing the oxidized surface layer to a flow of a first process gas containing plasma-excited argon gas to activate the oxidized surface layer; and applying substrate bias electric power during the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas.例文帳に追加

一の実施例によると、当該方法は、酸化表面層を有する金属含有バリア層を含む基板を供する工程、前記酸化表面層を活性化させるために、プラズマ励起されたアルゴン気体を含む第1処理気体流へ前記酸化表面層を曝露する工程、及び、前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程中に基板バイアス電力を印加する工程を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a silicon ingot is characterized by including a process for pulling up a single crystal ingot for solar cells by a Czochralski method from silicon melt containing a first dopant which specifies a first conductivity, and a process for forming an ingot using a residue in a crucible after pulling up the single crystal silicon ingot (crucible residue) as a raw material of the polycrystalline silicon ingot.例文帳に追加

本発明のシリコンインゴットの製造方法は、坩堝内に保持された、第１の導電型を規定する第１のドーパントを含有するシリコン融液から、チョクラルスキー法により太陽電池用の単結晶インゴットを引き上げる工程と、単結晶シリコンインゴットを引き上げた後の坩堝内の残留分（坩堝残）を、多結晶シリコンインゴットの原料として用いてインゴットを形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the bulkhead of the biochip 100 including the substrate 10 and the bulkhead 20 sectioning the surface of the substrate 10 includes: a process to form a first film on the substrate using a composition including a coloring agent (A), a polyfunctional monomer (c) having 3-6 polymerizable unsaturated bonds, and a radiation-sensitive polymerization initiator (D); and a process to perform patterning of the first film to form the bulkhead 20.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、着色剤（Ａ）、重合性不飽和結合を３つ以上且つ６つ以下有する多官能性単量体（ｃ）、感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含む組成物を用いて基板上に第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁２０を形成する工程を備える。 - 特許庁

A writing process of applying one writing voltage pulse out of writing voltage pulses, having a plurality of voltages in a first polarity, to a variable resistance element 10 (S101, S102) and a reading process of sequentially providing the variable resistance element 10 in the ascending order of voltage value with reading voltage pulses having a plurality of voltages in a second polarity different from the first polarity (S205 to S209) are executed.例文帳に追加

第１の極性の複数の異なる電圧値の書き込み電圧パルスのうちの一つの書き込み電圧パルスを抵抗変化素子１０に与える（Ｓ１０１、Ｓ１０２）書き込み工程と、第１の極性とは異なる第２の極性の複数の異なる電圧値の読み出し電圧パルスを電圧値が小さい方から順次抵抗変化素子１０に与える（Ｓ２０５〜Ｓ２０９）読み出し工程とを実行する。 - 特許庁

The method for production of a thin ceramic joined body includes: a process of preparing the first and second ceramic sintered compacts 11 and 12 having the relative density of ≥99% and a conductor 13 having voids; and a process of infilling voids by holding the conductor 13 between the first and second ceramic sintered compacts 11 and 12 to hot-press them, and making creep at least one ceramic sintered compact to join to the other ceramic sintered compact.例文帳に追加

相対密度９９％以上の第１及び第２のセラミックス焼結体１１，１２、並びに空隙を有する導体１３を用意する工程と、第１及び第２のセラミックス焼結体１１，１２の間に導体１３を挟み込み、ホットプレスすることにより、少なくとも一方のセラミックス焼結体がクリープして空隙が埋まり、他方のセラミックス焼結体と接合する工程とを含む。 - 特許庁

The processing module includes: a transfer chamber where a robot transferring the substrate is provided; a load lock chamber placed between the transfer chamber and the transfer module; a first processing chamber disposed around the transfer chamber so as to be separated from the transfer module and performing a first processing process; and a second processing chamber disposed around the transfer chamber and performing a second processing process.例文帳に追加

前記処理モジュールは、前記基板を搬送するロボットが提供されるトランスファーチャンバー、前記トランスファーチャンバーと前記移送モジュールとの間に配置されるロードロックチャンバー、前記トランスファーチャンバーの周囲に前記移送モジュールと離隔配置されて第１処理工程を遂行する第１処理チャンバー、及び前記トランスファーチャンバーの周囲に配置されて第２処理工程を遂行する第２処理チャンバーを含む。 - 特許庁

The method of calculating PRO which is repeatable runout acting on a disk with tracks includes: a process of calculating the first set of frequency coefficients for representing the PRO by analyzing a position error signal (PES), which is sampled in a target track, in a frequency domain while a head follows the target track; and a process of calculating the PRO on the basis of the first set of frequency coefficients.例文帳に追加

トラックを有するディスクに作用する反復的な外乱であるＲＲＯを算出する方法において、ヘッドが目標トラックを追従する間に、目標トラックでサンプリングされた位置エラー信号(ＰＥＳ)を周波数領域で分析して、ＲＲＯを示す周波数係数の第１セットを算出する過程と、周波数係数の第１セットに基づいて前記ＲＲＯを算出する過程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

When the safety logic module is performed by the processor of the safety logic solver, a safety function is performed for one or multiple safety field devices to communicate with another safety logic module in another safety logic solver connected to the first communication bus through a second communication bus, and the process controller and the process control input/output device are communicated with each other through the first communication bus.例文帳に追加

安全ロジックソルバのプロセッサで安全ロジックモジュールが実行されると、一または複数の前記安全フィールドデバイスに対して安全機能を実行し、前記第一の通信バスに接続されている他の安全ロジックソルバ内の他の安全ロジックモジュールに第二の通信バスを介して通信し、前記プロセスコントローラおよび前記プロセス制御入力／出力デバイスと前記第一の通信バスを介して通信する。 - 特許庁

A mobile communication method includes: a process for updating a first key KeNB, when a mobile station UE receives transmittal confirmation information to the hand-over completion signal, before detecting a radio link trouble; and a process for preventing the first key KeNB from being updated, when the mobile station UE receives the transmittal confirmation information to the handover completion signal, after detecting the radio link trouble.例文帳に追加

本発明に係る移動通信方法は、移動局ＵＥが、ハンドオーバ完了信号に対する送達確認情報を受信した後に、無線リンク障害を検出した場合には、第１鍵ＫｅＮＢを更新する工程と、移動局ＵＥが、ハンドオーバ完了信号に対する送達確認情報を受信する前に、無線リンク障害を検出した場合には、第１鍵ＫｅＮＢを更新しない工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a hollow structure includes the steps of: forming a groove in a member 10; filling a filler in the groove; forming a conductive layer in exposed surfaces of the filler and the member 10; forming a first layer 12 on the conductive layer by an electroforming process; forming a second layer 13 on the first layer 12 by a cold spray process; and removing the filler from the groove.例文帳に追加

中空構造体の製造方法は、部材１０に溝を形成する工程と、充填剤を溝に充填する工程と、充填剤及び部材１０の露出面に導電層を形成する工程と、電鋳法により導電層上に第１層１２を形成する工程と、コールドスプレー法により第１層１２上に第２層１３を形成する工程と、溝から充填剤を除去する工程とを具備する。 - 特許庁