| 意味 | 例文 |
Flow processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1657件
To provide a method for estimating a number and a position of a power pads, which enables a designer to cut a design cost by shorting a design time period as a result of eliminating a redesign process in a design flow.例文帳に追加
設計フローにおける手戻り工程を少なくし、設計期間の短縮、延いては設計コストの削減を図ることのできる電源パッドの数及び位置見積もり方法を提供する。 - 特許庁
The moving order of the respective moving wall bodies in the moving process is set corresponding to the distance of the molten resin flow routes from the introducing part of the molten resin in the cavity to the respective moving wall bodies.例文帳に追加
移動工程における各移動壁体の移動順序を、キャビティ内への溶融樹脂の導入部から各移動壁体までの、溶融樹脂の流動経路の距離に応じて設定する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a firmly bound mixed powder through a continuous process using an air flow type crusher in cases involving a raw material(s) for the powder which softens or melts when heated.例文帳に追加
加熱により軟化または溶融する材料の粉粒体原料を含むものを対象とし、強固に結合した複合粉体を気流式粉砕機を用いた連続工程で製造することである。 - 特許庁
According to this constitution, the auxiliary inflation part 32 starts inflation at the inflation process of the airbag 20 and contracts a flow passage area of the communication part 29 to suppress the circulation of the gas at the communication part 29.例文帳に追加
この構成により補助膨張部32は、エアバッグ20の膨張過程で膨張を開始し、連通部29の流路面積を縮小して連通部29でのガスの流通を抑制する。 - 特許庁
In a process where the balls B are temporarily arranged on the arrangement board 15, gas flow is jetted against a ball arrangement surface, and surplus balls except the balls B properly sucked in the ball arrangement part are eliminated.例文帳に追加
配列基板15にボールBを仮配列させる工程で、そのボール配列面にガス流を吹きつけ、ボール配列部に適正に吸着されているボールB以外の余剰ボールB′を除去する。 - 特許庁
In the purge process, while the inside of the adsorption column is opened to the air to be depressurized, one of the impurities is desorbed from the adsorbents and a cleaning gas G3 is made to flow to the adsorption column.例文帳に追加
減圧パージ工程では、吸着塔内を大気開放して降圧しつつ、吸着剤から不純物の一部を脱着させ、且つ、当該吸着塔に洗浄ガスG3を通流させる。 - 特許庁
To provide a vacuum processor that makes it possible to level the flow and the pressure of the exhaust gas from a vacuum processing chamber and to vacuum process a substrate with higher uniformity.例文帳に追加
真空処理室を排気する際のガスの流れや圧力を均一にすることができ、被処理基板に面内均一性の高い真空処理を施すことができる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁
When heating after alignment as a post-process is performed for this substrate W, a flow of the gas in an inversive direction to the specific direction at the time of heating before alignment is formed.例文帳に追加
この基板Wに対し、後工程である露光後加熱処理を行うときには、露光前加熱処理時における前記特定方向とは逆向きの気流の流れを基板W上に形成する。 - 特許庁
To provide an OCV (Oil Flow Control Valve) composed by accurately joining a spool valve with an electromagnetic actuator by abolishing a caulking process, and capable of providing anticorrosiveness of a stator by connecting the spool valve with the electromagnetic actuator.例文帳に追加
カシメ工程を廃止してスプール弁と電磁アクチュエータを高い精度で結合するとともに、スプール弁と電磁アクチュエータを結合することで固定子の耐蝕性を得ることのできるOCVを提供する。 - 特許庁
Waves passed through the introducing void 15 are damped by the generation of a turbulent flow in the process of the passage while being closed in a damping space 16 between the void 15 and the second wave-preventive wall 14 and being damped.例文帳に追加
また、導入空隙15を通過する波は、その通過の過程で乱流の発生により減衰されると共に、第二の防波壁14との間の減衰空間16に閉じ込められて減衰される。 - 特許庁
To certainly support a substrate while achieving the compactification of a substrate washing apparatus with respect to a process flow direction and to avoid the remaining of foreign matter at the edge part of the substrate to enhance a product yield.例文帳に追加
基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。 - 特許庁
Wireless communication means 42, 43 for exchanging the information Q on process quality is provided between the acquisition and processing means 32 and the means for cintrolling the manufacturing flow 19.例文帳に追加
前記の取得及び処理の手段32と製造フロー19を管理するための前記手段との間にプロセス品質に関する前記情報Qを交換するための無線通信手段42,43が設けられている。 - 特許庁
Accordingly, the terminal pads 1 and 6 do not receive an electric stress because charges in the ashing process flow through the silicon board 56 and are not charged even in an NC terminal and an input terminal having a low electrostatic breakdown strength.例文帳に追加
これにより端子パッド1,6は、NC端子や静電耐圧の低い入力端子であっても、アッシング工程における電荷がシリコン基板56に流れてチャージされないため、電気ストレスを受けない。 - 特許庁
Furthermore, new machining process is not required to reduce the size of an air flow-out end of the surface 31a since the rail 25a is entirely tapered toward the slider width direction.例文帳に追加
しかも、スライダ幅方向にリアレール25a全体が先細ることから、空気軸受け面31aの空気流出端を小さく形成するにあたって、新たな加工工程が加えられる必要はない。 - 特許庁
Then reference of flow definition →discrimination of line executed for the virtual process → execution of line processing is repeated through the loop processing, and the processing is executed for all the telephone lines 5.例文帳に追加
そして、ループ処理により、フロー定義の参照→該当仮想プロセスが実行すべき回線の判定→回線処理の実行が繰り返えされ、電話回線5の全回線に亘って処理を実行する。 - 特許庁
The H-ARQ process in WTRU is secured for each transport channel related to a different data transmission priority class, a dedicated channel medium access control flow, or a logical channel.例文帳に追加
WTRUにおけるH−ARQプロセスは、異なるデータ送信優先度クラスに関連付けられた個々のトランスポートチャネル、専用チャネル媒体アクセス制御フローまたは論理チャネルに対して確保されている。 - 特許庁
A protective film 14 is formed on the surface electrode 13, a bump 15, and a solder-flow-stop 16 are formed by a non-electrolytic plating process or the like after the protective film 14 is selectively removed.例文帳に追加
その表面電極13の上には保護膜14が形成され、その保護膜14を選択的に除去した後、無電解メッキプロセス等によりバンプ15と半田の流れ止め16が形成されている。 - 特許庁
To provide a hydrogen producing apparatus which can determine the degree of deterioration of a catalyst with a simplified operation process, even when the temperature peak is not achieved in a temperature gradient in the flow direction of a gas of the catalyst.例文帳に追加
触媒のガスの通流方向の温度勾配において温度ピークが得られない場合でも、演算処理を簡素化しながら触媒の劣化を判断できる水素製造装置を提供する。 - 特許庁
First, three sheets of plates composed of an oscillating board 31, a cavity plate 41 constituting a part of a flow path unit 4 and a base plate 42 are laminated and bonded by metal diffusion bonding (a first bonding process).例文帳に追加
まず、振動板31と、流路ユニット4の一部を構成するキャビティプレート41及びベースプレート42の3枚のプレートを積層して金属拡散接合により接合する(第1接合工程)。 - 特許庁
At the first process flow, a cylindrical material 30A is formed, wherein it has a small diameter hole 31 and a large diameter hole 32 being coaxially formed against a peripheral face, and a step part 33 positioned in between thereof.例文帳に追加
第1の工程では、外周面に対し同軸的に形成された小径穴31及び大径穴32ならびにそれらの間に位置する段部33を有する円筒状の素材30Aを形成する。 - 特許庁
To form a resist pattern with a small variation of resist pattern size per unit temperature suitable for a thermal flow process, high intrasurface uniformity in the resulting resist hole pattern size and excellent section shape.例文帳に追加
サーマルフロープロセスに適合した単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量が小さく、得られるレジストホールパターンサイズの面内均一性が高く、かつ断面形状の優れたレジストパターンを形成させる。 - 特許庁
If a substrate is transported in a retrorse direction, the substrate can be classified and ejected out of the line so that substrates mixing and substrate retrorse flow to the next process may be prevented to improve quality improvement.例文帳に追加
また、基板が逆方向に搬送された場合は識別し、区分してライン外へ払い出すことができ、次工程への基板の混在及び基板の逆流しを防ぎ、品質向上を実現する。 - 特許庁
In the setting of the 'course without detergent', the city water is injected into a washing tub 4 without passing through an injection case and as compared with the 'standard course', the washing process is accomplished for a longer time and by a stronger water flow.例文帳に追加
「洗剤無しコース」の設定時には水道水が注水ケースを通さずに洗濯槽4内に注入され、洗い工程が「標準コース」に比べて長い洗い時間および強い水流で行われる。 - 特許庁
In this case, in the chemicals-dissolved fluid reproduction process, a single or multiple back-washing filters 32 which can be washed by making washing liquid flow in a reverse direction when the filter medium causes clogging are arranged in parallel.例文帳に追加
この場合、薬液再生工程は、濾過材が目詰まりを起したとき逆方向に洗浄液を流して洗浄可能な、逆洗式のフィルタ32を単独もしくは複数並列して用いる。 - 特許庁
To efficiently process result data collectively in a proper order based on the flow of materials at a production field at the time of reflecting the warehousing and shipping result of respective parts in a production managing system.例文帳に追加
生産管理システムにおいて個々の部品の入出庫実績を反映する際に、生産現場における物の流れに則して実績データを適正な順序で効率的に一括して処理する。 - 特許庁
The water feeding process data (including initial flow value, control time, and depletion period) that has been calculated from the water feeder characteristics of an electronic scope 10, is stored in EEPROM of the electronic scope 10.例文帳に追加
電子スコープ10の送水管路の特性に基づいて演算された送水処理に関するデータ(初期流量値、制御時間、減少期間)を電子スコープ10のEEPROMに格納する。 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing float glass, wherein dross (impurities) stored in the lip block at the downstream end part of a float bath is effectively made to flow back to both the sides of the float bath, thereby the quality of a float glass product is further improved, and the stability of the process is achieved.例文帳に追加
フロート槽の下流端部位のリップブロックにたまるドロス(不純物)をフロート槽の両側に効果的に還流させて、フロートガラス製品の品質を一層高め、工程の安定性を図る。 - 特許庁
Thus, the surface to be plated in each process is limited to an area on which the plating liquid flow and the current density are more uniform, by plating the surface of the substrate part by part.例文帳に追加
被処理基板面を一部ずつメッキすることにより、各工程でメッキを施す面はメッキ液の流れおよび電流密度がより均一になる範囲に限定されたものとすることができる。 - 特許庁
The treated water in which air is dissolved is reduced in pressure in the process rising through the second rising flow passage 50 to generate fine air bubbles and this treated water is taken out of a pressurized water take-out port 36 as pressurized water.例文帳に追加
空気が溶解した処理水は、第2上昇流路50を上昇する過程で減圧されて微細気泡が発生し、加圧水として加圧水取出口36から取り出される。 - 特許庁
Accordingly, it is possible to realize a structure that both PMOS transistor MP10 and NMOS transistor MN10 are set ON to realize flow of a read current inverted from that in the programming process to the fuse element 11.例文帳に追加
これにより、PMOSトランジスタMP10およびNMOSトランジスタMN10をともにオンさせて、フューズ素子11に、プログラム時とは逆向きのリード電流を流すように構成されている。 - 特許庁
That is, the process from the boosting to pressure reduction in the fuel pressure control can be controlled with the control flow rate characteristics for one driving amperage, so that the pressure controllability of the ECU can be enhanced.例文帳に追加
すなわち、燃料圧力制御の昇圧から減圧までを、1つの駆動電流値に対する制御流量特性で制御できるので、ECUの圧力制御性を向上することができる。 - 特許庁
The method is characterized by containing a process to finely pulverize particles comprising at least two elements selected from II-VI groups in a high-pressure jet liquid flow.例文帳に追加
II族〜VI族元素の中から選択される少なくとも2種類の元素からなる粒子を、高圧ジェット液流内で微粒子化する工程を含むことを特徴とする半導体微粒子の製造方法である。 - 特許庁
The waste as a raw material is impregnated with an alkali metal compound, then is heated up to 500 to 900°C at a heat-up rate of 200°C/h in an inert gas flow, and carbonized and activated in a single stage process.例文帳に追加
廃棄物を原料とし、アルカリ金属化合物を含浸させた後、不活性ガス流中で、昇温速度200℃/hにて500〜900℃まで昇温し、一段階で炭化及び賦活化させる。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor element wherein the direction of crystal growth and the direction of carrier flow are unified in both a semiconductor element of vertical arrangement and a semiconductor element of horizontal arrangement.例文帳に追加
縦配置の半導体素子と横配置の半導体素子とのいずれにおいても結晶成長の方向とキャリアの流れる方向とが統一される半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
When flow imaging is effected using coded excitation and wall filter process, a series of coded broad-band pulses (about a fundamental frequency) is transmitted a number of times to a specific transmission focal position.例文帳に追加
符号化励起及びウォール・フィルタ処理を用いてフロー・イメージングを行う際に、(基本周波数を中心とする)広帯域パルスの符号化された系列を、特定の送信焦点位置へ多数回送信する。 - 特許庁
To prevent a lower layer inter connection formed on a BPSG film from being short-circuited electrically with an upper layer interconnection formed subsequently due to flow of the BPSG film occurring during a thermal process.例文帳に追加
BPSG膜上に形成された下部配線が熱工程の間に発生するBPSG膜のフローにより、後続して形成される上部配線と電気的にショートされることを防止する。 - 特許庁
To provide a method for forming a mark print on the surface of an SOI wafer without contaminating the inside of a manufacturing apparatus used in a flow process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
SOIウエハ表面のシリコン層にマーク印字を形成する工程で、半導体集積回路の製造過程で、流動工程の製造装置内部の汚染を防止したマーク印字方法を提供する。 - 特許庁
To provide the process of producing a nozzle substrate which can adjust the nozzle length properly, and can enhance liquid drop ejection performance by ensuring smooth flow of the liquid drop without stagnation.例文帳に追加
ノズル長を適切に調整でき、液滴がスムーズに流れて液滴のよどみが生じることがなく、液滴の吐出性を向上させることができるノズル基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁
To dope a substrate for large-area display elements at once while keeping uniformity in an ion doping process of doping the substrate with an ion flow accelerated by a high voltage after generating plasma ions.例文帳に追加
プラズマイオンを発生させたのち、高電圧にて加速されたイオン流を基板にドーピングするイオンドーピング方法において、大面積表示素子用基板に一度に均一性を維持しながらドーピングを行うこと。 - 特許庁
The process gas is supplied to a plasma generation region P to form a layer G formed of a gas flow locally high in pressure between the inside surface 21a of the discharge tube and the plasma generation region P.例文帳に追加
放電管の内壁21aとプラズマ発生領域Pとの間に、局所的に圧力が高いガス流からなる層Gが形成されるように、プラズマ発生領域Pにプロセスガスを供給する。 - 特許庁
During the process, the workpiece is rotated and laterally moved while an electrodeposition solution is delivered onto the wafer surface at a predetermined flow rate, and a potential difference is applied between the workpiece surface and the electrode.例文帳に追加
電着溶液が予め定められた流動レートでウェハ表面上に与えられながら、ワークピースが回転され、横に移動され、ワークピースの表面と電極との間の電位差が与えられる。 - 特許庁
The process uses a loop polymerizer in which the minimum gap between an impeller and a casing of the axial flow pump for circulation is set to ≥3 mm to conduct the continuous slurry polymerization to produce the propylenic polymer.例文帳に追加
循環用軸流ポンプのインペラーとケーシングの最小間隙を3mm以上としたループ重合反応器を用いてプロピレン系重合体製造のための連続スラリー重合を行う。 - 特許庁
In the production process of the hydrogen separation apparatus 100, after joining these members in a laminated state, a palladium coating is formed in each flow passage for the purge gas and the hydrogen-containing gas by electroless plating treatment.例文帳に追加
水素分離装置100の製造過程では、これらの部材を積層状に接合した後に、パージガス流路と水素含有ガス流路内に、無電解メッキ処理によりパラジウム被膜を形成する。 - 特許庁
In a first process, treating water containing phosphorus is allowed to flow into an electrolytic bath 16, and voltage is applied on an iron- made electrode 1602, and iron ions (Fe+2 or Fe+3) are eluted from the electrode 1602.例文帳に追加
第1の工程では、リンを含む処理水が電気分解槽16に流入され、鉄製の電極1602に電圧が印可され、電極1602から鉄イオン(Fe^+2やFe^+3)が溶出する。 - 特許庁
To enable etching process which assures good pattern shape by using, in the adequate flow ratio, a mixed gas of chlorine gas and rare gas as the etching gas in order to restrain adverse effect of the remaining chlorine ion.例文帳に追加
エッチングガスに塩素ガスと希ガスとの混合ガスを適切なる流量比で用いることで、残留塩素イオンによる悪影響を抑えてパターン形状が良好となるエッチング加工を可能とする。 - 特許庁
In the process of regulating the flow of air, an airflow regulation plate 21 arranged at a position facing the surface of the wafer W is rotated in the same direction as the rotational direction of the wafer W.例文帳に追加
また、上記の空気の流れを調整する工程では、ウエーハWの表面と向かい合う位置に配置された気流調整板21を、ウエーハWの回転方向と同じ方向に回転させる。 - 特許庁
A job flow transmission part 24 of an input/output terminal 12 transmits the instruction document indicating processes and the generation state of processes to be reported as a start request to a process service 14 by using a Web service.例文帳に追加
入出力端末12のジョブフロー送信部24は、処理を指示する指示書及び通知すべき処理の発生状態等を開始要求としてWebサービスを用いて処理サービス14に送信する。 - 特許庁
To perform control so that the work time of each section becomes constant by controlling each lot to "advance" or "stop" in a certain section of the process flow, and controlling each lot to "advance" or "stop" even in the same section.例文帳に追加
工程フローの一定区間で各ロットに「進め」又は「止まれ」と制御し、同区間内でも各ロットに「進め」又は「止まれ」と制御することにより、区間の作業時間が一定になるようコントロールする。 - 特許庁
To provide a method for transmitting/receiving a communication flow by an E-mail format in a facsimile (FAX) transmitting/receiving process of a communication device and to improve the efficiency and convenience of management and utilization.例文帳に追加
通信装置のファクシミリ送受信過程中において電子メールの形式によって通信フローを送受信する方法を提供し、管理上および使用上の効率と便利さを向上する。 - 特許庁
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