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該当件数 : 875



例文

In the steering device, a damping control unit 130 sets a product of a reference damping torque Tb set by a reference damping control unit 131 and an adjustment gain Ga set by an adjustment gain setting unit 1341 according to a road width evaluation value, as a damping torque.例文帳に追加

ダンピング制御部130は、基本ダンピング制御部131によって設定した基本ダンピングトルクTbと、調整ゲイン設定部1341によって道幅判定値に応じて設定した調整ゲインGaとの積をダンピングトルクとして設定する。 - 特許庁

In an ECU 30, a linear model 40 is constructed using an intake air amount Ga, an fuel injection amount Fi, and an ignition timing Sa as model input information and using an engine revolving speed Ne, an air-fuel ratio Af, and torque Tq as model output information.例文帳に追加

ECU30内に、吸入空気量Ga、燃料噴射量Fi、および点火時期Saをモデル入力情報とし、エンジン回転数Ne、空燃比Af、およびトルクTqをモデル出力情報とする線形モデル40を構築する。 - 特許庁

On such a portion of the n-type GaN substrate 11, which is not covered with the insulating film mask 16, a GaN-based semiconductor layer 25 containing an active layer 19 made of a nitride-based group III-V compound semiconductor containing In and Ga is grown.例文帳に追加

この絶縁膜マスク16で覆われていない部分のn型GaN基板11上に、InおよびGaを含む窒化物系III−V族化合物半導体からなる活性層19を含むGaN系半導体層25を成長させる。 - 特許庁

A GaN single crystal 20 is grown on a crystal growth surface of a seed crystal (GaN layer 13) on the basis of the flux method in a nitrogen (N_2) atmosphere at 3.7 MPa and 870°C employing a flux mixture including Ga, Na and Li at about 870°C.例文帳に追加

フラックス法に基づいて、3.7MPa、870℃の窒素(N_2 )雰囲気下において、略同温のGa,Na及びLiの混合フラックスの中で、GaN単結晶20を種結晶(GaN層13)の結晶成長面から成長させる。 - 特許庁

例文

Consequently, the position of a held substrate G in the direction (Y direction) orthogonal to the advancing/retracting direction of the pincette is calculated from the timing for receiving reflected light when the sensor 9 moved through one side Ga and the number of rotational pulses of a motor.例文帳に追加

これにより、保持された基板Gの、ピンセットの進退方向と直交する方向(Y方向)に関する位置は、センサ9が一辺Gaを通過移動したときの反射光を受光するタイミングと、モータの回転パルス数とにより算出さる。 - 特許庁


例文

At the transporting step, a transporting speed of the receiving mold 20 is changed in the vicinity of a molding side part 34 of the molding mold 30, and the molten glass gob GA on the receiving surface 211 is slided to the molding surface 311 by an inertial force generated thereby.例文帳に追加

移送工程では、受け型20の移動速度を成形型30の成形側部34近傍において変化させ、これにより生じる慣性力で受け面211上の溶融ガラス塊GAを成形面311へとスライドさせる。 - 特許庁

The conductive material has transparency to visible light, is represented by chemical formula Ga_2-xM_xO_3(ZnO)_m (wherein m is a natural number; and M is an element capable of being substituted for Ga), and has a crystal structure shown in Fig.1.例文帳に追加

発明1は、可視光の透過性を有する導電性材料であって、化学式Ga_2−xM_xO_3(ZnO)_m(mは自然数。M:Gaに代替可能な元素)であらわされ、図1に示す結晶構造を有することを特徴とする。 - 特許庁

To process and flatten the substrate surface of a Ga (gallium)-element containing compound semiconductor with high surface accuracy in a practical processing time, the compound semiconductor containing, e.g., GaN, GaAs, and GaP which have been increasingly demanded as materials of light emitting devices and electronic devices.例文帳に追加

発光デバイスや電子デバイスの材料として重要性が高まっているGaN,GaAs,GaP等のGa(ガリウム)元素を含有する化合物半導体の基板表面を、実用的な加工時間で、かつ表面精度高く平坦に加工できるようにする。 - 特許庁

The sputtering target has a composition that includes 20 to 40 at% Ga and 0.05 to 1 at% Na as metal components other than fluorine, with the remainder being Cu and unavoidable impurities, wherein Na is contained in the form of an NaF compound.例文帳に追加

スパッタリングターゲットのフッ素を除く金属成分としてGa:20〜40at%、Na:0.05〜1at%を含有し、残部がCu及び不可避不純物からなる成分組成を有し、NaはNaF化合物の状態で含有されている。 - 特許庁

例文

In a reaction vessel 101, a mixed liquid 102 of Ga as group III metal and Na as flux is filled, a heating device 106 is provided so as to control the temperature suitable for crystal growth, and nitrogen gas is used as raw material of nitrogen.例文帳に追加

反応容器101内には、III族金属としてのGaとフラックスとしてのNaの混合融液102があり、結晶成長可能な温度に制御できるように加熱装置106が具備され、窒素原料としては窒素ガスを用いている。 - 特許庁

例文

This sputtering target includes a composition that includes 1-40 atom% of Ga and 0.05-2 atom% of Na as metal components other than Se, with the rest being Cu and unavoidable impurities, wherein Na is contained in the form of sodium selenide.例文帳に追加

スパッタリングターゲットのSeを除く金属成分として、Ga:1〜40at%、Na:0.05〜2at%を含有し、残部がCu及び不可避不純物からなる成分組成を有し、Naがセレン化ナトリウムの状態で含有されている。 - 特許庁

When a state of causing deviation between the estimated deposit amount PMsm and actual deposit amount of PM is PMsm≤BUpm (Yes in S122), the value of exhaust pressure difference ΔP/GA is compared with a correction execution reference value Dp for determination (S126).例文帳に追加

PMの推定堆積量PMsmと実堆積量とに乖離を生じた状態を、PMsm≦BUpmである時(S122でYES)に、排気圧力差ΔP/GAの値を補正実行基準値Dpと比較して判定している(S126)。 - 特許庁

An address marker AD for allocating order numbers and a 1st spot marker SP1 are arranged in the front of an intersection part K along guide lines GA, GB,... for guiding a traveling route and a 2nd spot marker SP2 is arranged on a position passing the intersection part K.例文帳に追加

走行経路を案内するガイドラインGA、GB、・・にそって交差部Kの手前に順位番号を与えるアドレスマーカADと第1のスポットマーカSP1が配置され、交差部を通過した位置には第2のスポットマーカSP2が配置される。 - 特許庁

Preferably, the permanent magnet contains one kind or two or more kinds among 0.2-0.5% of Co, 0.05-0.5% of Nb, 0.01-0.5% of Al, 0.01-0.3% of Ga, 0.01-0.5% of Cu and 0.005-0.05% of P in wt.%.例文帳に追加

好ましくは質量百分率で0.2〜5.0%のCo、0.05〜0.5%のNb、0.01〜0.5%のAl、0.01〜0.3%のGa、0.01〜0.5%のCu、0.005〜0.05%のPのうちの1種又は2種以上を含有する。 - 特許庁

To provide a growth method of a GaN crystal having low dislocation density and high crystallinity without adding impurities other than a raw material to a melt or without increasing the scale of a crystal growth device in a liquid phase method using a Ga melt.例文帳に追加

Ga融液を用いる液相法において、融液に原料以外の不純物を添加することなく、また、結晶成長装置を大型化することなく、転位密度が低く結晶性が高いGaN結晶の成長方法を提供する。 - 特許庁

Kokuzekomoku was a petition that Hirobumi ITO who was a governor of Hyogo Prefecture submitted it with three executives of Prefecture (Nobuyuki NAKAJIMA, Mitsuaki TANAKA, Noriyuki GA) and Finance officer/ judge, Munemitsu MUTSU who was in Osaka. 例文帳に追加

国是綱目(こくぜこうもく)は、明治2年(1869年)1月に当時の兵庫県知事であった伊藤博文が、県幹部3名(中島信行・田中光顕・何礼之)及び大阪に赴任中の会計官権判事の陸奥宗光とともに提出した建白書。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A white-color LED 1 each is apportioned to a plurality of groups against chromaticity coordinates of emission light, for instance, a total of five groups Ga, Gb, Gc, Gd, Ge whose chromaticity coordinates exist in areas near five chromaticity coordinates a to e.例文帳に追加

使用する白色LED1について放射光の色度座標を調べて複数のグループ、例えば、5つの色度座標a〜eにそれぞれ近い領域に色度座標が存在する合計5つのグループGa,Gb,Gc,Gd,Geに各白色LED1を振り分けておく。 - 特許庁

A bottom gate type thin film transistor is constituted which includes a semiconductor layer made of amorphous oxide containing In, Ga and Zn, and also has a source electrode or drain electrode formed before a source region or drain region when viewed from a gate electrode.例文帳に追加

In、Ga及びZnを含むアモルファス酸化物からなる半導体層を備え、ゲート電極から見てソース領域又はドレイン領域の手前側にソース電極又はドレイン電極が形成されてなるボトムゲート型薄膜トランジスタを構成する。 - 特許庁

The top gate type thin-film transistor includes the semiconductor layer comprising the amorphous oxide including In, Ga, and Zn, and includes the source electrode or the drain electrode at a side opposite to a source region or a drain region viewed from a gate electrode.例文帳に追加

In、Ga及びZnを含むアモルファス酸化物からなる半導体層を備え、ゲート電極から見てソース領域又はドレイン領域の向こう側にソース電極又はドレイン電極が形成されてなるトップゲート型薄膜トランジスタを構成する。 - 特許庁

The expression 'Roretsu-ga-mawaranai' has been used when trying to perform a number made for Ryosenpo with Rissenpo; the tone becomes strange and the notes become off-key (accordingly, when words cannot be continuously pronounced well in the context of a speech or a chant). 例文帳に追加

呂旋法を前提に作られた曲を律旋法で詠おうとすると調子がおかしくなることから、音の調子が合わない(転じて詠唱や講演でうまく言葉が続けて発音できない)ことを「呂律が回らない」と表現するようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The first part of current flows through a large size induction coil (L50) and the first rectifier (Gm), while the second part of current is tapped before it flows the large induction coil in the input side and flows through the second rectifier (Ga).例文帳に追加

電流の第1の部分は、大きい誘導コイル(L50)及び第1の整流器(Gm)を介し流され、電流の第2の部分は、入力側において大きい誘導コイルを通る前にタップされ第2の整流器(Ga)を介し流される。 - 特許庁

An air flow meter output GAH is computed after correcting an air flow meter output GA multiplied by the pulsation/drift correcting coefficient K and the amount of intake air into the engine combustion chamber is detected in accordance with the air flow meter output GAH after the correction.例文帳に追加

そして、エアフロメータ出力GAにこの脈動・偏流補正係数Kを乗算して補正後エアフロメータ出力GAHを算出し、この補正後エアフロメータ出力GAHに基づいて機関燃焼室に吸入される空気量を検出する。 - 特許庁

The low melting point alloy contains 20-55 wt.% Sn, 40-55 wt.% In, 0.05-1.5 wt.% Ga, 0.05-26 wt.% Bi, 0.05-1.2 wt.% Zn, 0.05-1.5 wt.% Ag and 0.05-1.0 wt.% Sb.例文帳に追加

Snが20〜55重量%、Inが40〜55重量%、Gaが0.05〜1.5重量%、Biが0.05〜26重量%、Znが0.05〜1.2重量%、Agが0.05〜1.5重量%、Sbが0.05〜1.0重量%含まれる低融点合金。 - 特許庁

The solar battery 10 consists of a transparent conductive substrate 1, a p-layer 2 made of Cu_2O and an amorphous In-Ga-Zn-O n-layer 3 formed on the substrate 1 by sputtering, and a metallic electrode 4 provided on the n-layer 3.例文帳に追加

太陽電池10は、透明導電性基板1と、基板1上にスパッタリングによって形成された、Cu_2Oよりなるp層2及びアモルファス状態のIn−Ga−Zn−On層3と、このn層3上に設けられた金属電極4とからなる。 - 特許庁

The cathode catalyst for the fuel cell consists of an alloy which contains at least one element of the platinum group and at least one element selected from the group consisting of B, C, Be, Si, P, S, Ga, As and Se and the crystal structure of which is in an amorphous state.例文帳に追加

少なくとも一つの白金族元素と、B、C、Be、Si、P、S、Ga、As及びSeからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素とを含み、その結晶構造が非晶質状態である合金からなる燃料電池用カソード電極触媒。 - 特許庁

According to this invention, since a reaction to change the hydroxyl group in the Ga oxide film 108 into water can be accelerated by heat treatment and thereby the hydroxyl group can be removed, the Schottky electrode 111 having almost ideal characteristics can be obtained.例文帳に追加

この発明によれば、Ga酸化膜108内の水酸基が水に変化する反応を加熱処理によって促進させることができ、これにより水酸基を取り除くことができるので、理想的な特性に近いショットキー電極111を得ることができる。 - 特許庁

The first electrode is a transparent thin film formed of an oxide containing at least one of In, Ga, and Zn, and the transparent thin film includes a low-resistance portion subjected to hydrogenation treatment or energy-irradiation treatment and a high-resistance portion.例文帳に追加

第1の電極は、In、Ga、Znを少なくとも1つ以上含む酸化物からなる透明薄膜であり、前記透明薄膜は水素添加処理又はエネルギー照射処理が施された低抵抗部と、高抵抗部とが形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The sputtering target contains an oxide of indium (In), gallium (Ga) and zinc (Zn), and contains a homologous structured compound expressed as InGaO_3 (ZnO)_m (where m represents an integer of 1-20), and a spinel structured compound expressed as ZnGa_2O_4.例文帳に追加

インジウム(In)、ガリウム(Ga)及び亜鉛(Zn)の酸化物を含有するスパッタリングターゲットであって、InGaO_3(ZnO)_m(mは1〜20の整数)で表されるホモロガス構造化合物及びZnGa_2O_4で表されるスピネル構造化合物を含むスパッタリングターゲット。 - 特許庁

Those are compared respectively with a target spring constant K_0 and a target attenuation coefficient C_0; and each deviation (▵K, ▵C) are input in a controller 7d, assist gain Ga and damping gain Gd as control parameters are optimized and EPS is controlled by them.例文帳に追加

それらを目標ばね定数Ko及び目標減衰係数Coとそれぞれ比較し、各偏差(ΔK、ΔC)をコントローラ7dに入力し、制御パラメータとしてのアシストゲインGa及びダンピングゲインGdの最適化を行い、それによりESPを制御する。 - 特許庁

Based on the amount (passage air intake amount GA) of air passing through the upstream side of a connection portion of the fresh air guide passage in the air intake passage, a throttle opening TA, and an air intake pressure PM, an estimated PCV flow rate MP is calculated (S102 and S103).例文帳に追加

吸気通路における新気導入通路の接続部分より上流側部分を通過する空気の量(通路吸気量GA)とスロットル開度TAと吸気圧力PMとに基づいて推定PCV流量MPを算出する(S102,S103)。 - 特許庁

The Zn solder alloy, which contains 1-7 wt.% of Al, 0.5-6 wt.% of Mg, 0.1-20 wt.% of Ga, and 0.001-0.5 wt.% of P and is composed of the balance Zn and inevitable impurities, is used in the high-temperature brazing filler metal.例文帳に追加

本発明による高温ろう材は、Alを1〜7重量%、Mgを0.5〜6重量%、Gaを0.1〜20重量%およびPを0.001〜0.5重量%含み、残部がZnおよび不可避不純物からなるZn系はんだ合金を用いる。 - 特許庁

In the arrangement, an edge 6a of each top plate 6 projects from an inner surface of the raceway 3, and a gap Ga between the edge 6a and an outer periphery of a roller 7 is smaller than a gap Gb between the inner surface of the raceway 3 and the outer periphery of the roller 7.例文帳に追加

各上板6のエッジ6aは軸受溝3の内部表面から突出し、エッジ6aとロール7外周との間の間隙Gaが、軸受溝3の内部表面とロール7外周との間の間隙Gbよりも小さくなる配置となっている。 - 特許庁

Thus, texture data quantity is compressed and registered and registration performance to a memory is improved in the case of registering texture data with the memory between the system 20 and the accelerator (GA) 40 provided with the memory internally storing texture data for graphic display acceleration.例文帳に追加

これにより、図形処理システム20と、描画の高速化用にテクスチャデータを内部に保持するメモリを備えるグラフィックスアクセラレータ(GA)40との間において、メモリへのテクスチャデータの登録の際に、テクスチャデータ量を圧縮して登録させ、メモリへの登録性能を向上させる。 - 特許庁

This ultraviolet photodetector has an ultraviolet photoreceiving element provided with a photo-semiconductor layer containing at least one or more kind(s) of element(s) selected from the group of Al, Ga and In, and nitrogen, and an electrode, on a substrate, and an end face of the substrate is a photoreceiving face.例文帳に追加

基板上に、少なくとも、Al、Ga及びInから選ばれる1種以上の元素と、窒素とを含む光半導体層、並びに電極を設けてなる紫外線受光素子を有し、前記基板の端面が受光面である紫外線受光器である。 - 特許庁

Even if the tip of this tooth 14 runs against near the point Ga on the tooth tip face 27 of another tooth 24 of the gear 21 when the rack is sliding, a locked condition will never be generated because the tooth tip faces do not bear each other, and meshing will accordingly be generated easily in the event of such collision.例文帳に追加

ラック1の摺動時にその歯14の歯先が、歯車21の歯24の歯先面27のうちの点Ga近傍に衝突しても、互いの歯先面が担がないのでロック状態とならず、したがってこのような衝突時にはその分噛合いやすい。 - 特許庁

The purification filter comprises a whisker formed on a raw material substrate made of an alloy or a ceramic containing Mn, Al, Cr, In, Ag, Ga, Sn, Cu, Sc, Ge, Ti, Si, and the like.例文帳に追加

原料基体上にウィスカーを形成して成る浄化フィルターであって、 上記原料基体が、Mn、Al、Cr、In、Ag、Ga、Sn、Cu、Sc、Ge、Ti及びSiなどを含む合金やセラミックスより成る原料基体上にウィスカーを形成して成る浄化フィルターである。 - 特許庁

An optical semiconductor device includes: a Ge layer 2; a first GaAs layer 3 which is formed on the Ge layer 2 and in which an As site of GaAs is partially substituted with Ga; and an active layer 4, containing GaAs, formed above the first GaAs layer 3.例文帳に追加

光半導体素子を、Ge層2と、Ge層2上に形成され、GaAsのAsサイトの一部がGaで置換されている第1GaAs層3と、第1GaAs層3の上方に形成されたGaAsを含む活性層4とを備えるものとする。 - 特許庁

A compound semiconductor multilayer thin film is formed into a structure, wherein an InSb buffer layer 2 doped with one of Al, Be, Zn, Mg, O and Ga as impurities and an undoped, Te-doped or Se-doped InSb active layer 3 are deposited in order on a semiinsulative GaAs substrate 1.例文帳に追加

半絶縁性のGaAs基板1上に、不純物としてAl、Be、Zn、Mg、OまたはGaの一つをドーピングしたInSbバッファ層2と、アンドープまたはTeドープまたはSeドープのInSb活性層3とを順次堆積させた構造とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a III-V compound semiconductor layer capable of reducing a hydrogen concentration in a III-V compound semiconductor crystal containing Ga (group III) and arsenic and nitrogen (group V) and reducing pile-up on a regrowth interface as well.例文帳に追加

本発明によれば、Ga(III族)とヒ素、窒素(V族)とを含むIII−V化合物半導体結晶中の水素濃度を低減可能であり、再成長界面におけるパイルアップも低減可能な、III−V化合物半導体層を形成する方法が提供される。 - 特許庁

Thus, the generation of a Ga defect can be controlled in the sub-emitter layer 45, and the semiconductor wafer 1 can be manufactured so that a bipolar semiconductor element with a hetero joint can be manufactured without reducing a current amplification factor of β.例文帳に追加

これによりサブエミッタ層45におけるGa欠陥の発生を制御することができ、この結果、電流増幅率βを低下させることのないヘテロ接合バイポーラ半導体素子の製作を可能とするように半導体ウェーハ1を製造することができる。 - 特許庁

The founder of the sect, Kukai (774-835) was born at Byobu-ga-ura Sanuki-no-kuni (讃岐屏風) (current Zentsu-ji City, Kagawa Prefecture); and as a thinker, writer and talented calligrapher from among the Sanpitsu (the three great calligraphers of history), as well as a Buddhist, he had a strong influence on Japanese culture in later years. 例文帳に追加

宗祖・空海(774-835年)は、讃岐国屏風浦(現・香川県善通寺市)の出身で、仏教者であるとともに思想家、著述家、また「三筆」の1人に数えられる能書家として、後の日本文化に多大な影響を与えた人物である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The pneumatic tire is lined with an inner liner layer 8 for preventing air permeation and has main grooves 9 extending in a circumferential direction of the tire on the outer circumference of a tread 1, wherein the thickness Gt of inner liner layers 8t in regions corresponding to the main grooves 9 is greater than the thickness Ga of the inner liner layer 8 not in that regions.例文帳に追加

タイヤの内側に空気透過防止用のインナーライナー層8を内貼りし、トレッド1の外周にタイヤ周方向に延長する主溝9を配置した空気入りタイヤにおいて、主溝9に対応する領域のインナーライナー層8tの厚さGtを、この領域以外のインナーライナー層8の厚さGaよりも大きくしたことを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing an oxide sintered compact is characterized in that raw material powder comprising one or more metallic elements selected from Zn, Sn, In, Ga and Ti and in which a part of the metallic element includes oxide solid-solution substituted with a metallic element having a valence higher than that of the metallic elements is subjected to electrifying sintering in such a manner that DC pulse current is made to flow under pressure.例文帳に追加

Zn、Sn、In、Ga及びTiから選択される1又は2以上の金属元素を含有し、金属元素の一部が、金属元素の価数よりも高い金属元素で置換固溶されている酸化物を含む原料粉末を、加圧下で直流パルス電流を通電して通電焼結させることを特徴とする酸化物焼結体の製造方法。 - 特許庁

The In-Ga-Zn based compound oxide sintered body contains a first phase formed of ZnGa_2O_4 crystal, and a second phase formed of an In_2O_3 crystal, and the total phase area ratio of the first and second phases to the entire phase in an optional section of the sintered body is70% and ≤100%.例文帳に追加

本In−Ga−Zn系複合酸化物焼結体は、ZnGa_2O_4結晶で形成される第1相と、In_2O_3結晶で形成される第2相とを含み、焼結体の任意の断面における全ての相に対する第1相および第2相の合計の相面積比率が70%以上100%以下である。 - 特許庁

The In-Ga-Zn-O-based oxide semiconductor layer includes structure including a crystal grain expressed by InGaO_3(ZnO)_m(m=1) in amorphous structure expressed by InGaO_3(ZnO)_m(m>0).例文帳に追加

In−Ga−Zn−O系酸化物半導体層をトランジスタのチャネル形成領域に用いた半導体装置であって、In−Ga−Zn−O系酸化物半導体層は、InGaO_3(ZnO)_m(m>0)で表される非晶質構造中に、InGaO_3(ZnO)_m(m=1)で表される結晶粒を含む構造を有する。 - 特許庁

In the exhaust sensor provided in an exhaust pipe of an internal combustion engine, a heater control device of the exhaust sensor controlling a current-carrying condition of the heater permits current-carry of the heater under a condition where a state that intake air quantity GA of the internal combustion engine is criterion value GAst or more continues for a predetermined period of time.例文帳に追加

内燃機関の排気管に設けられた排気センサについて、そのヒータの通電状態を制御する排気センサのヒータ制御装置は、内燃機関の吸入空気量GAが判定値GAst以上である状態が所定期間継続したことを条件にヒータの通電を許可する。 - 特許庁

On the n-type GaN substrate 11 in which the groove 16 is formed, a GaN-based semiconductor layer 25 which includes an active layer 19 formed of a nitride-based III-V group compound semiconductor including In and Ga is grown to manufacturer a GaN-based semiconductor laser having the end surface window structure.例文帳に追加

この溝16が形成されたn型GaN基板11上に、InおよびGaを含む窒化物系III−V族化合物半導体からなる活性層19を含むGaN系半導体層25を成長させることにより、端面窓構造を有するGaN系半導体レーザを製造する。 - 特許庁

A low-resistance n-type AlN crystal is obtained by substituting a part of Al atoms in an AlN crystal with group IIIa elements (such as Sc, Y and La) or/and group IIIb elements (such as B, Ga and In), and substituting one adjoining nitrogen (N) atom with an oxygen (O) atom to form a shallow impurity level.例文帳に追加

本発明によれば、AlN結晶のAl原子の一部を、IIIa族元素(Sc,Y,La等)又は/及びIIIb族元素(B,Ga,In等)で置換し、隣接する窒素(N)1原子を酸素(O)原子で置換することにより、浅い不純物準位が形成され、低抵抗n型AlN結晶を得ることができる。 - 特許庁

A vapor concentration correcting coefficient FGPG at fuel injection time TAU is calculated on the basis of changes in an air/fuel ratio if gas in the air chamber 46 is purged toward an intake passage 50 of an internal combustion engine, with keeping an engine speed NE and intake air amount Ga of the internal combustion engine 20 at a constant value.例文帳に追加

内燃機関20の機関回転数NEおよび吸入空気量Gaを共に一定値に維持した状態で、空気室46内のガスを内燃機関の吸気通路50に向けてパージした場合の空燃比の変化に基づいて、燃料噴射時間TAUにおけるベーパ濃度補正係数FGPGを算出する。 - 特許庁

例文

The permanent magnet comprises MnBi powder and Sm_2Fe_17-xM_xN_y based magnet powder (wherein, M denotes at least one or more kinds selected from Mn, Co, Zr, Al, Ga, Ta, Nb and Ti), and in which the content of the MnBi lies in the range of 8 to 50 mass% of total weight.例文帳に追加

永久磁石は、MnBi粉末とSm_2Fe_17−xM_xN_y系磁石粉末(但し、MはMn,Co,Zr,Al,Ga,Ta,Nb,Tiの内から選ばれる、少なくとも一種類以上,x=0〜3,y=1〜4)を含み、前記MnBiの含有量が総重量の8質量%以上、50質量%以下の範囲である。 - 特許庁




  
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