「Manufacturing Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(406ページ目) - Weblio英語例文検索

In the manufacturing process of electronic component, expansion of plating can be prevented, when a second metal electrode layer 34 and a third metal electrode layer 36 are formed, by forming a glass layer 40 at an edge of a first metal electrode layer 32 on the front surface of a ceramic raw material 10.例文帳に追加

この電子部品の製造方法では、セラミック素体１０の表面上に第１の金属電極層３２の縁にガラス層４０を形成することで、第２の金属電極層３４及び第３の金属電極層３６を形成する際のめっき伸びを防止できる。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical film comprises a process of passing the unoriented film between two mutual polarizing plates that are orthogonal each other at the stage before stretching the unoriented film to the longitudinal and/or transverse direction and observing the transmitted light of the unoriented film in the crossed-nicol state.例文帳に追加

光学フィルムの製造方法は、未延伸フィルムを縦方向および／または横方向に延伸する前の段階で、未延伸フィルムを、互いに直交する２枚の偏光板同士の間を通過させて、未延伸フィルムの透過光をクロスニコル状態で観察する工程を具備している。 - 特許庁

To provide a display panel with a protective film which more surely prevents the protective film from being left unremoved from the display panel, which enables an operator to check air bubbles generated between the protective film and a display screen, and which can prevent cost increase in manufacturing process of electronic equipment.例文帳に追加

電子機器の製造工程において、表示パネルから保護フィルムを剥がし忘れることをより確実に防止するとともに、保護フィルムと画面の間に発生する気泡の状態を確認でき、なおかつ、コストアップを防止しうる保護フィルム付き表示パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a wafer and its testing method, having a configuration capable of being inspected whether or not an overshoot of an output signal output from an output buffer circuit of LSI is a prescribed specification value or less, in a state that chips are arrayed on the wafer in the middle of a manufacturing process.例文帳に追加

ＬＳＩの出力バッファ回路から出力される出力信号のオーバシュート量が所定の規格値以下となっているかを、製造工程途中のウェハ上に配列されたチップ状態で検査可能な構成を有するウェハ及びその試験方法を提供する。 - 特許庁

To surely perform the capillary suction of a specimen soln. in particular while dispensing with the formation of a surfactant layer to simplify a manufacturing process to improve productivity, in a biosensor using a very small amt. of a liquid specimen to rapidly and simply measure a specific component in the specimen highly accurately.例文帳に追加

微量の液体試料を用いて、その試料中の特定成分を迅速、高精度、簡便に測定することができるバイオセンサに関し、特に試料液の毛細管吸引が確実に行えると共に、界面活性剤層の形成を不要にして製造工程を簡略化し、生産性を良くする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a timber molded article in which a compression resistance can be reduced even if a simple mold is used in each compression process, a press force in each is reduced and a molding load to a molded article can be reduced, and a timber molding surface excellent in appearance can be obtained.例文帳に追加

木材成形品の製造方法において、各圧縮工程において、簡素な金型を用いても圧縮抵抗を低減することができ、それぞれにおけるプレス力を低減し、成形品への成形負荷を低減することができ、外観に優れた木材成形面が得られるようにする。 - 特許庁

To provide a thin information display medium which has flexibility, does not require a long time for cutting of the entire circumference and removing of unnecessary portions for exposure of peripheral ends and electrode sections and permits formation of image display layers, etc., of a previous process step and permits the inline processing thereof and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

全周の切断と周辺端部の電極部の露出のための不要部除去に長時間を要せず、かつ電極部の破損等がなく、前工程の画像表示層等の形成とインラインでこれら加工が可能な薄く可撓性を有する情報表示媒体と製造方法にある。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a semiconductor device with a good yield by preventing damage and contamination of a wafer and an etching device caused due to grinding dusts generated in a mechanical grinding process, in a semiconductor wafer ground up to extremely-small thickness, in particular, an extremely-thin wafer with an annular projecting part formed thereon.例文帳に追加

極薄にまで研削された半導体ウエハ、特に環状凸部が形成された極薄ウエハにおいて、機械的研削工程で発生した研削屑によるウエハおよびエッチング装置の破損や汚染を防止し、半導体装置を歩留まりよく製造しうる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a micro device and a method of manufacturing the micro device, in which the optical path is switched with a function plane at low loss by preventing the rough surface of the function plane caused by a smoothening process.例文帳に追加

本発明は、機能面により光路切り換えを行うマイクロデバイス及びその製造方法に関し、平滑化処理により機能面が表面荒れすることを防いで、光路の切り換えを低損失で行うことのできるマイクロデバイス及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method, wherein a semiconductor chip 1 including pads 3 and a substrate 5 including lands 6 are connected at bump junctions, includes a contact process wherein metal bumps 4 are bonded either to the pads 3 or to the lands 6 and are just in contact with the others.例文帳に追加

パッド３を含む半導体チップ１とランド６を含む基板５とを、バンプ接合によって接続する半導体装置の製造方法であって、パッド３およびランド６のうち、一方に金属バンプ４を接続しておいて、他方に金属バンプ４を接触させる接触工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent glass body in which the concentration of a doped halogen element is increased to enlarge the difference of specific refraction index from that of pure quartz glass, and free from refoaming in a process for drawing the resultant transparent glass body to manufacture an optical fiber.例文帳に追加

ドープされるハロゲン元素の濃度を高め、純石英ガラスに対する比屈折率差をより大きく出来て、しかも、得られる透明ガラス体を線引きして光ファイバを製造する工程での再発泡がほとんど見られない透明ガラス体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a bag filter satisfying heat resistance, dimensional stability, filterability, air permeability, repairing properties or the like required in a dust collector for dust-containing gas containing solid particles of an urban incinerator, an industrial waste incinerator or the like and having excellent economical efficiency inclusive of a manufacturing process.例文帳に追加

都市ゴミ焼却炉、産業廃棄物焼却炉等の固体粒子を含む含塵ガスの集塵機に要求される、耐熱寸法安定性、濾過性能、通気性能、補修性等を満足し、更に製造工程を含め経済的にもすぐれたバグフィルターおよびその製造方法を提#供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a compound semiconductor which can accelerate the etch rate of even an SiC wafer which requires a high processing temperature, can process a via hole into a rectangular cross-sectional shape with a vertical side wall without extremely thinning the SiC wafer, and allows easy handling of wafers.例文帳に追加

必要とする加工温度が高いＳｉＣウエハでもエッチング速度を早くすることができ、しかもＳｉＣウエハを極度に薄板化せずにバイアホールの断面を側壁が垂直な矩形状に加工でき、ウエハのハンドリングが容易な化合物半導体の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a resin sheet which can obtain a desired sectional shape when the resin sheet having a small step of a concavo-convex shape is manufactured, and particularly which is suitable to be used for a photoconductive plate or each type optical element to be arranged on the back surface of each type display unit.例文帳に追加

凹凸形状の段差が小さい樹脂シートを製造した際に、所望の断面形状を得ることができ、特に、各種表示装置の背面に配される導光板や各種光学素子に使用するのに好適な樹脂シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an IC tag which can be manufactured at low cost and has superior strength, is usable indoors or outdoors, in the air or in water, and can be used for the merchandise management, distribution management, manufacturing process management, and entry/exiting management of frozen foods, industrial products, various chemicals, etc.例文帳に追加

安価に製造出来、強度に優れ、屋内外を問わず、大気中、水中でも用いることが出来、冷凍食品、工業製品、各種薬品などの商品管理や物流管理用途、製造工程管理用途、入退場管理などに使用可能であるＩＣタグを提供する。 - 特許庁

In the process of manufacturing a display, the first base plate having the first stiffness supports the second base plate to form the pixels, and the first base plate is removed from the second base plate after the display is completed to obtain a flexible display.例文帳に追加

表示装置を製造する過程においては、第１硬度を有する第１基板部がフレキシブルな第２基板部を支持して第２基板部に画素が形成されるようにし、表示装置を製造した後には第１基板部を第２基板部から除去して、フレキシブルな表示装置を製造する。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor device is provided with a process for forming a thermal oxide film on a substrate having a trench separation region, and characterized by covering a trench isolation region 2 with an anti-oxidation film 17 at the time of forming the thermal oxide film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、トレンチ分離領域を有する基板上に熱酸化膜を形成する工程を備える半導体装置の製造方法であって、熱酸化膜の形成時に、トレンチ分離領域２を酸化防止膜１７で覆うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a dicing film where a die and die bonding film are easily separated from an dicing adhesive film and can prevent the adhesive residue on the back of the die bonding film in a pickup process after wafer dicing, and to provide a method for manufacturing a semiconductor package which uses it.例文帳に追加

ウェハダイシング後のピックアップ工程の際に、ダイシング用粘着フィルムからダイおよびダイ接着フィルムの分離を容易にし、かつ、ダイ接着フィルムの後面への粘着物の残留を防止することが可能なダイシングフィルム、およびこれを用いた半導体パッケージ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a capacitor for forming a high dielectric metal oxide film on a silicon layer, and for preventing nitrogen from being transmitted through the high dielectric metal oxide film to the interface of a silicion layer, or for preventing a silicon nitride(SiN) layer from being formed at doping of nitrogen.例文帳に追加

キャパシタの製造プロセスにおいて、高誘電体金属酸化膜をシリコン層上に成膜した後、窒素を添加する際に、窒素が高誘電体金属酸化膜を通り抜け、シリコン層の界面に到達してシリコンナイトライド（ＳｉＮ）層が形成されることがないようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus and process for large scale inline manufacturing of CdTe photovoltaic modules in which all steps, including rapid substrate heating, deposition of CdS, deposition of CdTe, CdCl_2 treatment, and ohmic contact formation, are performed within a single vacuum boundary at intermediate vacuum pressures.例文帳に追加

基体の急速加熱、ＣｄＳの成膜、ＣｄＴｅの成膜、ＣｄＣｌ_２処理お よびオーム接点形成を含むすべての工程を中程度の圧力で単独の真空境界内で実施する、ＣｄＴｅ光起電力モジュールを大規模インラインで製造するための装置およびプロセスを提供する。 - 特許庁

Of a method manufacturing the pressure sensor (1) which is composed from a pressure-measuring cell (30), having a diaphragm (14) allowing for pressure loading and an acceptor (2) precisely and at low cost, the acceptor (2) is manufactured by uniting it with the pressure measuring cell (30) in metal powder die casting and the subsequent sintering process.例文帳に追加

圧力負荷可能なダイヤフラム（１４）を備えた圧力測定セル（３０）並びに受容体（２）を有する圧力センサ（１）を精密にかつ安価に製作する方法として、前記受容体（２）を圧力測定セル（３０）と一体に、金属粉ダイカスト及びこれに続く焼結プロセスで製作する。 - 特許庁

To solve such problems with conventional art vents that they can be too noisy, that they clog with dirt and moisture (particularly when used with humidifiers), that they are awkward or difficult to clean or assemble, and that they have designs which are sensitive to very small changes in the manufacturing process which can lead to variation in the pressure flow relationship.例文帳に追加

あまりにも騒々しく、（特に加湿器と共に使用されるとき）汚物及び湿分で閉塞し、清掃かつ組み立てるのに扱い難く或いは困難で、製造工程の非常に小さな変化に対し敏感で、それが圧力と流量との関係の変化に繋がり得ることである。 - 特許庁

Also, a contact hole 10 is formed in an interlayer insulating film 9, and the high melting point metal silicide is accumulated on the whole face, and the patterning of the high melting point metal silicide is carried out, without etching-back, and metallic wirings including the bit lines 12 are formed so that a manufacturing process can be shortened in time.例文帳に追加

また、層間絶縁膜９にコンタクト孔１０を形成し高融点金属シリサイドを全面に堆積させた後にエッチバックを行うことなく、そのまま高融点金属シリサイドのパタ−ニングを行い、ビット線１２を含む金属配線を形成しているので製造工程を短縮できる。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material which enables recording of an image without necessitating image exposure through the intermediary of a complicated film and which has plate wear resistance and excels in sensitivity and resolution, and a manufacturing method thereof, and to provide an image forming method wherein the image is printed after recorded, without conducting a wet development process.例文帳に追加

複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度及び解像度に優れた平版印刷版材料及びその製造方法の提供、又、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。 - 特許庁

The red sludge produced from an alumina manufacturing process, glass powder and a caking agent if need are mixed to obtain a mixture, then the mixture is granulated and fired at 900 to 1,100°C, thereby obtaining the lightweight aggregate having the absolute dry specific gravity of 0.40 to 1.35 and the 24 hrs water absorption of 1 to 20%.例文帳に追加

アルミナ製造工程から発生する赤泥と、ガラス粉末と、必要に応じて粘結材とを混合し、得られた混合物を造粒して、９００〜１１００℃で焼成し、絶乾比重０．４０〜１．３５、２４時間吸水率１〜２０％の軽量骨材とする。 - 特許庁

In a final stage of manufacturing process, the magnetic body thin-film 13 and bridge 18 are attracted by a magnetic force from outside using, for example, an electromagnet 20, so that the end part of the weight part 2 opposite to the deflection part 3 is tilted to the upper cap 5 side to rupture the bridge 18, making the weight part 2 freely swingable.例文帳に追加

そして、製造工程の最終段階で、例えば電磁石２０を用いて磁性体薄膜１７やブリッジ１８を外部から磁力で吸引し、重り部２における撓み部３と反対側の端部を上部キャップ５側に傾けてブリッジ１８を破断し、重り部２を揺動自在とする。 - 特許庁

A hole 21 is opened near the base end 7a of the cage 7 so as to visually confirm the outer peripheral surface of a connecting end part 3 of a male pipe 2 positioned inside a bead hook part 6 in the connecting state, whereby the inspection time for a pipe joint 1 in a manufacturing process can be reduced.例文帳に追加

また、孔２１はケージ７の基端７ａの近傍から開口し、連結状態でビードフック部６の内側に位置するオス管２の接続端部３の外周面を目視可能とするものであるため、製造工程における管継手１の検品時間が短縮する。 - 特許庁

When an abnormality is found in a predicted value of the cement quality, the result is fed back to a cement manufacturing process, and adjustments of raw material preparations, firing conditions and crushing conditions and the like are carried out so as to make the cement quality proper, thereby bringing the above predicted value to be in the range of a value to be managed.例文帳に追加

セメントの品質の予測値に異常が認められた場合、セメント製造工程にその結果をフィードバックし、セメントが適正な品質になるように原料調合、焼成条件、粉砕条件の調整などの処置を施し、上記予測値が管理値内になるようにする。 - 特許庁

To provide a transparent laminated sheet which does not spoil the inspection property of a bonded surface to be protected, does not spoil adhesion and transparency to heating in a manufacturing process, and furthermore can fully follow even when there is irregularity on the surface.例文帳に追加

本発明は、貼り合せた被保護面の検査性を損なわず、かつ製造工程における加熱に対しても密着性および透明性が損なわれず、さらには表面に凹凸が有る場合にも十分に追従することができる透明積層シートを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To shorten air exhaust time and atmosphere release time for decompression and drying and time for a decompressing and drying process by improving a decompressing and drying device, and provide a manufacturing method of a color filter capable of obtaining high quality products inexpensively by using the improved decompressing and drying device.例文帳に追加

減圧乾燥装置を改良して、減圧乾燥の排気時間および大気開放時間を短縮し、減圧乾燥工程時間の短縮を図ることであり、また、改良された減圧乾燥装置を用いて、高品質品が低コストで得られるカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sheetlike sintered compact which is excellent in degreasing property in a degreasing process for laminated green sheets with little residual carbon and little generation of cracks even within a short degreasing time, and excellent in flatness with little ruggedness.例文帳に追加

積み重ねたグリーンシートの脱脂工程において短い脱脂時間でも脱脂後のグリーンシートに残炭やクラックが発生せず脱脂性に優れると共に、凹凸が少なく平面性に優れるシート焼結体を製造することができる、シート焼結体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information display panel manufacturing method and a particle charging device, suppressing the generation of defects by arranging a nozzle and a substrate with partition walls so as not to be affected by the aggregated particles dropping perpendicularly downward from the nozzle, and thereafter, by carrying out a particle charging process.例文帳に追加

ノズルから鉛直下方方向に落下した粒子の凝集体の影響を受けないようにノズルおよび隔壁付き基板を配置して粒子充填工程を行うことにより、欠陥の発生を抑制し得る情報表示用パネルの製造方法および粒子充填装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises controlling a CVD process in such a manner that pressure below 2.0 mBar and methane concentration below 2% can be attained, thereby forming the diamond electrode having a single and uniform layer composed of polyacrystalline diamond of <1 μm grain size and exhibiting Raman quality exceeding 50%.例文帳に追加

ＣＶＤ工程を２０ｍＢａｒ未満の圧力および２％未満のメタン濃度になるように制御することにより、粒子サイズが１μｍ未満の多結晶ダイヤモンドからなる単一で均一な層を有し、５０％を超えるラマン品質を示すダイヤモンド電極を形成する。 - 特許庁

To manufacture a circuit wiring board having a minute fine pitch, high dimension accuracy and reliability of bonding between a circuit wiring and an insulating resin layer by preventing the deterioration of dimension accuracy of a wiring having formed pattern which is caused by heat treatment in a process of manufacturing the circuit wiring board.例文帳に追加

回路配線基板の製造過程における加熱処理によって生じるパターン形成された配線の寸法精度の低下を防止し、微細なファインピッチで、寸法精度が高く、しかも回路配線と絶縁樹脂層との密着信頼性が高い回路配線基板を製造する。 - 特許庁

To provide a method of correcting mask patterns of a photomask to be used in a photolithography process step in manufacturing a conductor integrated circuit, etc., having fine circuit patterns in such a manner that transfer patterns approximate to desired design patterns can be obtained by improving the dimensional uniformity of the transfer patterns.例文帳に追加

微細な回路パターンを有する導体集積回路等を製造する際のフォトリソグラフィ工程において使用するフォトマスクについて、転写パターンの寸法均一性を向上させて所望の設計パターンに近い転写パターンが得られるようにマスクパターンを補正する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can improve a pickup success rate of a semiconductor chip by decreasing peeling force between an adhesive film of a tape for wafer processing and an adherend by carrying out a pickup process at low temperature, and the tape for wafer processing used for the method.例文帳に追加

ピックアップ工程を低温下で行うことにより、ウエハ加工用テープの粘着フィルムと被着体との間の剥離力を低下させて、半導体チップのピックアップ成功率を向上させることが可能な半導体装置の製造方法及びそれに用いるウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

Since the bond magnet 13 is molded by inserting the sintered magnet 12 into a bond magnet molding die 22 in the process for manufacturing the rotor 10 of the motor, the sintered magnet 12 is integrated well with the bond magnet 13 and secured stably.例文帳に追加

また、本実施形態のモータの回転子１０の製造方法では、焼結磁石１２をボンド磁石用成形型２２に挿入して、ボンド磁石１３を成形したので、焼結磁石１２とボンド磁石１３との一体化が深まり、焼結磁石１２を安定して固定することが可能になる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a core shell type catalyst, having an excellent coating state of a core metal with a shell metal, in a simple process efficiently; and to provide a core shell type catalyst having an excellent coating state of a core metal with a shell metal.例文帳に追加

シェル金属によるコア金属表面の被覆状態が優れたコアシェル型触媒を、簡便なプロセスで効率良く製造可能な製造方法を提供すること、並びに、シェル金属によるコア金属表面の被覆状態が優れたコアシェル型触媒を提供することである。 - 特許庁

The method for producing the powdery cosmetic is characterized by blending a resin compound soluble in a solvent while dispersing surface- untreated powder in the solvent and treating the surface-untreated powder to make it hydrophobic during its manufacturing process by using a wet type dispersing machine.例文帳に追加

湿式分散機を用いた粉末化粧料の製造工程中において、溶媒中で表面未処理粉体分散時に、溶媒に可溶な樹脂化合物を配合し、製造工程中に表面未処理粉末が疎水化処理されることを特徴とする粉末化粧料及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a diffusion prevention layer material composed of Ta or Ta based alloy layer wherein rupture of the Ta or Ta based alloy layer which is the diffusion prevention layer or superconductive electric wire itself is enabled not to occur at the time of wire drawing in a manufacturing process of the superconductive electric wire.例文帳に追加

超電導線の製造工程における線引き加工の際に、拡散防止層であるＴａまたはＴａ基合金層、あるいは超電導線そのものの破断を起こさないようにすることができるＴａもしくはＴａ基合金からなる拡散防止層用材を提供する。 - 特許庁

(2) The use of industrial property subject matter shall be deemed to include manufacturing, utilization, importation, offering for sale, sale and any other form of distribution for commercial purposes or stocking for the above purposes of products incorporating the industrial property subject matter or the use of the patented process.例文帳に追加

(2) 工業所有権の主題の使用には、工業所有権の主題を組み込んだ製品の製造、利用、輸入、販売の申出、及び営利目的によるその他の形態の流通、若しくはその目的のための保管、又は特許を付与された方法の使用を含むものとされる。 - 特許庁

As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s)and/or the manufacturing process to characterize the claim. 例文帳に追加

構造及び/又は組成の特徴のみで明確に表現できない化学製品の請求項 構造及び/又は組成の特徴のみでは明瞭に特徴づけることのできない化学製品クレームについて、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁

Furthermore, a process for manufacturing high-purity β -SiC powder, a new matter corresponding to the problem to be solved of the specified invention, is equivalent to the substantial part of the matter in the claim of the related invention, so the substantial parts of matters in the claims of the two inventions are the same. 例文帳に追加

さらに、関連発明は特定発明の解決しようとする課題に対応した新規な事項である高純度β-SiC粉末の製造法を、その請求項に記載する事項の主要部としているので、両発明の請求項に記載する事項の主要部は同一である。 - 特許庁

The related invention (Claim 4) is a process of manufacturing the keyboard switch of the relate invention (Claim 2), which holds the relationship prescribed in Patent Law Section 37(i) with the specified invention (Claim 1). Therefore, it has the relationship prescribed in Patent Law Section 37(iii) with the related invention (Claim 2). 例文帳に追加

（請求項４）は、特定発明（請求項１）に対し特許法第37条第１号の関係にある関連発明（請求項２）のキーボードスイッチを生産する方法の発明であるから、関連発明（請求項２）に対し特許法第37条第３号の関係にある。 - 特許庁

the quality or other properties for the purposes of Section 127(2), and their relevant circumstances, in particular the process or method of manufacturing or producing the goods or of supplying the services, or the quality or other properties of the basic materials used, such as their origin; and 例文帳に追加

第127条[2]の規定においては品質又はその他の特性及びこれらに関連する事情，特に，商品を製造若しくは生産する又はサービスを提供する過程若しくは方法又は使用される原材料の品質若しくはその原産地のようなその他の特性，及び - 特許庁